- •Содержание
- •Введение
- •1. Теоретическая часть
- •Свойства исследуемого полупроводника
- •Применение исследуемого полупроводника
- •Получение исследуемого полупроводника
- •Расчётная часть
- •Выбор легирующих примесей
- •Расчёт зависимости ширины запрещенной зоны от температуры
- •Расчёт энергий донорного и акцепторного уровней
- •Расчёт эффективных масс
- •Расчёт эффективных плотностей состояний для валентной зоны и зоны проводимости
- •Расчёт зависимости положения уровня Ферми и концентрации носителей заряда от температуры
- •Заключение
- •Список использованных источников
Расчётная часть
Запишем основные параметры, используемые в работе в таблицу 1.
Таблица 3 – основные параметры InAs
Ширина запрещенной зоны при различных температурах |
Эмпирический параметр Варшни |
Эффективные массы электронов, легких и тяжёлых дырок |
||||
Eg(0 К), эВ |
Eg(300 К), эВ |
α*104, эВ/К |
β,К |
|
|
|
0,417 |
0,35 |
0,276 |
93 |
0,026 |
0,6 |
0,27 |
Запишем основные параметры легирующих примесей
Таблица 4 – основные параметры легирующих примесей
Заданные концентрации легирующих примесей |
Энергия ионизации примеси |
||
|
|
|
|
7*1013 |
1*1015 |
0.005 |
0.01 |
В работе необходимо произвести расчёт зависимости концентрации основных и неосновных носителей заряда легированного полупроводника от температуры.
Однако табличных параметров для расчёта недостаточно. Перед расчётом концентрации необходимо рассмотреть следующие вопросы:
Выбор легирующих примесей
Чтобы внесение примесей не влекло за собой лишние дефекты, необходимо выбрать их таким образом, чтобы период решетки (постоянная решетки) и размер атома примеси были близки к периоду решетки и размеру атома рассматриваемого полупроводника
Постоянная решетки рассматриваемого полупроводника: a = 0.606 нм.
Лучшие варианты в качестве примеси: донор - селен aSe = 0.436 нм, и акцептор – цинк aZn = 0.266 нм, хотя период решетки последнего и отличается в 3 раза, однако он наиболее часто используется для создания p-n переходов на практике, т.к. обладает высокой растворимостью в полупроводниках A3B5.
Расчёт зависимости ширины запрещенной зоны от температуры
Температурная зависимость ширины запрещенной зоны определяется по формуле Варшни:
где Eg(0) – ширина запрещенной зоны при T=0 К
Из значений, приведённых в таблице 4:
Тогда можем привести зависимости уровня дна зоны проводимости и потолка валентной зоны.
Середина запрещенной зоны при T = 0 К:
Тогда:
Рисунок 2 – Зависимость ширины запрещённой зоны от температуры
Рисунок 3 – Положение дна зоны проводимости и потолка валентной зоны от температуры
Расчёт энергий донорного и акцепторного уровней
Энергия активации не зависит от температуры, поэтому уровни донора и акцептора отстоят от валентной зоны и зоны проводимости на постоянную величину – энергию активации. Пример расчета для 0 К:
Тогда
Тогда положение донорного и акцепторного уровня:
Рисунок 4 – Положение донорного и акцепторного уровней в зависимости от температуры
Расчёт эффективных масс
Найдем эффективную массу электронов:
Найдем эффективную массу дырок:

,
см-3
,
см-3
,
эВ
,
эВ