Добавил:
Когда то был здесь Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
kurp.docx
Скачиваний:
0
Добавлен:
06.06.2026
Размер:
230.98 Кб
Скачать
  1. Расчётная часть

Запишем основные параметры, используемые в работе в таблицу 1.

Таблица 3 – основные параметры InAs

Ширина запрещенной зоны при различных температурах

Эмпирический параметр Варшни

Эффективные массы электронов, легких и тяжёлых дырок

Eg(0 К), эВ

Eg(300 К), эВ

α*104, эВ/К

β,К

0,417

0,35

0,276

93

0,026

0,6

0,27

Запишем основные параметры легирующих примесей

Таблица 4 – основные параметры легирующих примесей

Заданные концентрации легирующих примесей

Энергия ионизации примеси

, см-3

, см-3

, эВ

, эВ

7*1013

1*1015

0.005

0.01

В работе необходимо произвести расчёт зависимости концентрации основных и неосновных носителей заряда легированного полупроводника от температуры.

Однако табличных параметров для расчёта недостаточно. Перед расчётом концентрации необходимо рассмотреть следующие вопросы:

    1. Выбор легирующих примесей

Чтобы внесение примесей не влекло за собой лишние дефекты, необходимо выбрать их таким образом, чтобы период решетки (постоянная решетки) и размер атома примеси были близки к периоду решетки и размеру атома рассматриваемого полупроводника

Постоянная решетки рассматриваемого полупроводника: a = 0.606 нм.

Лучшие варианты в качестве примеси: донор - селен aSe = 0.436 нм, и акцептор – цинк aZn = 0.266 нм, хотя период решетки последнего и отличается в 3 раза, однако он наиболее часто используется для создания p-n переходов на практике, т.к. обладает высокой растворимостью в полупроводниках A3B5.

    1. Расчёт зависимости ширины запрещенной зоны от температуры

Температурная зависимость ширины запрещенной зоны определяется по формуле Варшни:

где Eg(0) – ширина запрещенной зоны при T=0 К

Из значений, приведённых в таблице 4:

Тогда можем привести зависимости уровня дна зоны проводимости и потолка валентной зоны.

Середина запрещенной зоны при T = 0 К:

Тогда:

Рисунок 2 – Зависимость ширины запрещённой зоны от температуры

Рисунок 3 – Положение дна зоны проводимости и потолка валентной зоны от температуры

    1. Расчёт энергий донорного и акцепторного уровней

Энергия активации не зависит от температуры, поэтому уровни донора и акцептора отстоят от валентной зоны и зоны проводимости на постоянную величину – энергию активации. Пример расчета для 0 К:

Тогда

Тогда положение донорного и акцепторного уровня:

Рисунок 4 – Положение донорного и акцепторного уровней в зависимости от температуры

    1. Расчёт эффективных масс

Найдем эффективную массу электронов:

Найдем эффективную массу дырок:

Соседние файлы в предмете Физика полупроводников и полупроводниковых приборов