- •Тема: Элементы зонной теории твёрдых тел
- •Уравнение Шредингера для электрона в кристалле
- •2.Функция Блоха
- •3. Метод Кронига-Пенни
- •4. Первая зона Бриллюэна
- •5. Дисперсионные кривые
- •6. Поступательное движение электронов в кристалле
- •7. Движение электрона в кристалле под действием внешней силы. Квазиимпульс электрона. Эффективная масса электрона
- •Тема: Неравновесные носители заряда в полупроводниках
- •1. Равновесные и неравновесные носители заряда (определение)
- •2. Время жизни. Скорости генерации и рекомбинации
- •3. Уравнение непрерывности
- •4. Диффузия и дрейф неравновесных носителей
- •4.1. Введение
- •4.2. Эффективный коэффициент диффузии
- •4 .3. Стационарное распределение неравновесных носителей за слоем генерации
- •4.4. Максвелловское время релаксации
- •Тема: Оптические явления в полупроводниках
- •Поглощение света полупроводниками
- •Коэффициент поглощения света
- •1.2. Собственное поглощение
- •1.3. Экситоны
- •1.4. Поглощение света свободными носителями зарядов
- •1.5. Переходы между подзонами
- •1.6. Примесное поглощение
- •Тема: Эффект Ганна
- •1. Возникновение отрицательной дифференциальной проводимости в полупроводниках в сильных электрических полях
- •2. Отрицательная дифференциальная проводимость в сильном электрическом поле в арсениде галлия
- •3. Электростатистические домены в полупроводниках
- •Тема: Контакт металла с полупроводником
- •Запирающий слой
- •Энергитические уровни в полупроводнике и металле
- •Выпрямление на запирающем контакте металла и полупроводника
- •Тема: Полупроводниковые диоды
- •Способы получения p-n перехода
- •Равновестное состояние p-n-перехода
- •3. Барьерная ёмкость p-n-перехода
- •4. Токи, протекающие через p-n-переход
- •5. Импульсные и высокочастотные свойства p-n-перехода
- •5.1. Импульсные свойства
- •5.2. Диффузионная емкость p-n-перехода
- •5.3. Способы повышения быстродействия диодов
- •5.4. Высокочастотные свойства p-n-перехода
- •6. Пробой p-n-перехода
- •1) Тепловой пробой
- •2) Лавинный пробой
- •3) Туннельный пробой
- •4) Поверхностный пробой
- •7. Туннельные диоды
- •8. Лавинно-пролетные диоды
- •Тема: Физические принципы работы транзисторов
- •1. Принцип работы биполярного транзистора
- •2. Параметры и выходные характеристики транзисторов
- •2.1. Параметры транзисторов
- •Выходные характеристики транзистора
- •2.3. Схема с общим эмиттером
- •Физическая природа усиления тока в схеме с общим эмиттером
- •2.4. Пробой коллекторного перехода
- •3. Переходные процессы в транзисторах. Дрейфовые транзисторы
- •3.1. Переходные процессы в транзисторах
- •3.2. Дрейфовые транзисторы
- •3.3. Предельная частота усиления
- •5. Полевые (униполярные) транзисторы
- •5.1. Полевые транзисторы мдп-структуры (с изолированным затвором)
- •5.1.1. Структура металл-диэлектрик-полупроводник
- •5.1.2. Полевые транзисторы мдп-структуры
- •5.2. Полевые транзисторы с управляющим p-n-переходом
4) Поверхностный пробой
Заряд, локализованный на поверхности полупроводника в месте выхода p-n-перехода, может вызывать сильное изменение напряженности электрического поля внутри p-n-перехода в приповерхностном слое и его ширины. В этом случае более вероятным может оказаться пробой приповерхностной области p-n-перехода.
7. Туннельные диоды
Туннельные диоды были изобретены в 1958 году. Туннельные диоды изготавливаются из сильно легированных полупроводников, находящихся в вырожденном состоянии. Как известно, уровни Ферми в таких полупроводниках находятся внутри зон: в зоне проводимости в n-полупроводниках и в валентной зоне в p-полупроводниках.
Н
а
рисунке 1 показана энергетическая
диаграмма туннельного диода в равновесном
состоянии. Видно, что имеет место
перекрытие зон: валентная зона p-области
частично перекрывается зоной проводимости
n-области.
На
рисунке 2 приведены графики функций
плотности состояний gn(E)
для электронов в зоне проводимости и
gр(E)
для дырок в валентной зоне, а также
функций распределения электронов B(E)
(занятых состояний) в зоне проводимости
и дырок p(E)
в
валентной
зоне
(свободных
состояний) для равновесного состояния
(когда внешнее напряжение не приложено).
Из этого рисунка видно, что против
занятых состояний одной области
p-n-перехода
находятся свободные состояния соседней
области. Это делает возможным туннельное
просачивание электронов из p-
в n-область
и из n-области
в p-область:
прямой
и обратный
туннельные
токи. Прямой туннельный ток равен:
, (1)
где D – величина, определяемая высотой (E) и шириной (d) барьера.
Обратный туннельный ток определяется другим соотношением:
. (2)
В
(2) функция
– есть функция плотности занятых
состояний электронов в валентной зоне,
а функция (
)
– есть функция плотности свободных
состояний электронов в зоне проводимости.
В равновесном состоянии интегралы (1) и (2) равны друг другу: = и результирующий ток равен нулю:
.
При подаче на переход обратного смещения перекрытие зон увеличивается. При любом значении энергии занятых состояний p-области, лежащих против незанятых состояний n-области больше, чем занятых
состояний
n-области,
лежащих против незанятых состояний
p-области.
Поэтому интеграл (2) больше интеграла
(1):
и в переходе
возникает ток
(обратный(!)),
который растет
при
увеличении обратного смещения.
П
ри
приложении к p-n-переходу
прямого смещения степень перекрытия
зон уменьшается,
и занятых состояний n-области,
лежащих против незанятых состояний
р-области становится больше, чем занятых
состояний р-области, лежащих против
незанятых состояний n-области.
Поэтому интеграл (1) больше интеграла
(2):
и в переходе возникает ток (прямой(!)),
растущий
при увеличении прямого смещения. Этот
ток достигает
максимального значения
при совпадении максимумов (
)
функций распределения p(E)
и B(E).
При дальнейшем росте прямого смещения число занятых состояний n-области, лежащих против свободных состояний p-области, уменьшается ввиду того, что часть занятых состояний лежит против запрещенной зоны (в запрещенную зону электроны переходить не могут), и ток уменьшается.
Прямой туннельный ток достигает нуля при таком смещении, при котором дно зоны проводимости n-области располагается на одной высоте с вершиной валентной зоны p-области (электронам некуда переходить!).
К
ак
и в обычном диоде
увеличение прямого смещения вызывает
инжекцию неосновных носителей заряда
и появление в p-n-переходе
диффузионного тока, растущего по
экспоненте с ростом прямого смещения.
Поэтому на вольт-амперной характеристике
снова появляется ветвь тока, нарастающего
с напряжением (
).
Основной
особенностью ВАХ туннельных диодов
является наличие
падающего участка,
на котором диод обладает отрицательным (!)
дифференциальным
сопротивлением:
.
Это свойство позволяет использовать
туннельные диоды для генерации
электромагнитных колебаний, а также в
качестве переключателей, смесителей и
так далее. Так как в области туннельных
токов накопление и рассасывание
неосновных носителей практически
отсутствует, то туннельные диоды обладают
более совершенными частотными
характеристиками и лучшим быстродействием
по сравнению с обычными диодами и
транзисторами.
