- •Глава 2. Статистика носителей заряда в полупроводниках127
- •Статистика носителей заряда в полупроводниках
- •2.1. Расчет концентрации электронов и дырок в собственном полупроводнике
- •2.2. Расчет положения уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •2.3. Расчет концентрации электронов и положения уровня Ферми в электронном полупроводнике
- •2.4. Расчет концентрации электронов и положения уровня Ферми в дырочном полупроводнике
- •2.5. Процессы рекомбинации неравновесных носителей тока в полупроводниках
- •2.5.1. Непосредственная рекомбинация
- •2.5.2. Рекомбинация через локальные примесные уровни
- •2.5.3. Поверхностная рекомбинация
2.5. Процессы рекомбинации неравновесных носителей тока в полупроводниках
Как отмечалось выше (см. п. 1.6.1) для полупроводников характерен процесс генерации носителей заряда (электронов и дырок), происходящий под влиянием различных возбуждающих воздействий. К таким воздействиям относится тепловое возбуждение, освещение или облучение полупроводника ионизирующими частицами, воздействие электрических или магнитных полей, инжекция носителей заряда через контакт двух полупроводников - p-n переход. Процесс генерации характеризуется скоростью генерацииG, представляющей количество носителей, созданных в единице объема полупроводника в единицу времени, м-3сек-1.
Одновременно с процессом генерации всегда протекает обратный процесс - рекомбинация носителей заряда. Рекомбинация заключается в том, что электроны, перешедшие в зону проводимости или на акцепторные уровни, вновь возвращаются в валентную зону или на донорные уровни. Этот процесс приводит к уменьшению концентрации свободных носителей заряда и характеризуется скоростью рекомбинации R, представляющей количество носителей, рекомбинирующих в единице объема полупроводника в единицу времени, м-3сек-1.
Динамическое равновесие между процессами генерации и рекомбинации при постоянной температуре характеризуется равенством G=Rи приводит к установлению равновесной концентрации носителей, - электроновnoи дырокpo. Такие носители заряда называютсяравновесными. При воздействии на полупроводник других нетепловых факторов возбуждения носителей (освещение, инжекция черезp-n переход и т. д.) в полупроводнике появляются дополнительные -неравновесныеносители заряда, характеризующиеся избыточной концентрацией электроновnи дырокp. Полная концентрация электроновnи дырокpв полупроводнике, содержащем неравновесные носители заряда равна, соответственно
n=no+n,p=po+p. (2.38)
После прекращения нетеплового возбуждения концентрация носителей заряда в полупроводнике возвращается к значению, характерному для равновесного состояния. В результате избыточные концентрации носителей заряда nиp за счет процесса рекомбинации спадают до нуля. Средняя длительность времени релаксации этого процесса носит названиесреднего времени жизни носителей заряда, .
Число центров рекомбинации wn иwp, встречающихся на пути неравновесных электронов и дырок в единицу времени, выражается соотношениями
wn=rpo, wp=rno, сек-1, (2.39)
где r- коэффициент рекомбинации носителей заряда, м3/с, значение которого определяется из выражения (1.41).
Из (2.39) следует, что средние времена жизни электронов n и дырокp до завершения процесса рекомбинации определяются следующими выражениями
n=1/wn=1/rpo, p=1/wp=1/rno, (2.40)
Значения времен жизни неравновесных носителей заряда определяют величину быстродействия полупроводникового прибора - чем меньше время жизни , тем выше предельная частотаfпр тока или напряжения, на которой можно применять данный прибор, посколькуfпр ~1/.
Из выражений (2.40) следует, что значение коэффициента рекомбинации r можно рассчитать по формуламr=1/pоnилиr=1/nоp. Подставляя эти значенияr в формулу (1.36) и полагаяni=nо,pi=pо, получим, что скорость рекомбинацииRносителей заряда в полупроводнике может быть рассчитана из выражения
,
м-3сек-1.
(2.41)
Таким образом, скорость рекомбинации R носителей заряда прямо пропорциональна равновесным концентрациям носителей заряда nо и pо и обратно пропорциональна их временам жизни n и р.
Различают три разновидности процессов рекомбинации, происходящих в объеме или на поверхности полупроводника: непосредственная (прямая) рекомбинация; рекомбинация через локальные примесные уровни; поверхностная рекомбинация.
