
- •Глава 2. Статистика носителей заряда в полупроводниках127
- •Статистика носителей заряда в полупроводниках
- •2.1. Расчет концентрации электронов и дырок в собственном полупроводнике
- •2.2. Расчет положения уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •2.3. Расчет концентрации электронов и положения уровня Ферми в электронном полупроводнике
- •2.4. Расчет концентрации электронов и положения уровня Ферми в дырочном полупроводнике
- •2.5. Процессы рекомбинации неравновесных носителей тока в полупроводниках
- •2.5.1. Непосредственная рекомбинация
- •2.5.2. Рекомбинация через локальные примесные уровни
- •2.5.3. Поверхностная рекомбинация
2.4. Расчет концентрации электронов и положения уровня Ферми в дырочном полупроводнике
При расчете концентрации электронов и положения уровня Ферми в дырочном полупроводнике воспользуемся методикой, которая применялась нами для анализа статистики носителей заряда в электронных полупроводниках. Полагаем, что при комнатной температуре проводимость дырочного полупроводника определяется, главным образом, дырками, образовавшимися при ионизации акцепторной примеси. Дырки в полупроводниках p-типа проводимости называютосновными носителями заряда, а электроны -неосновными носителями заряда.
Каждый однократно ионизированный атом акцепторной примеси (акцептор) можно рассматривать как примесный центр, захвативший электрон. Поэтому первое уравнение электронейтральности (1.38) для дырочного полупроводника имеет следующий вид:
pp=,
(2.28)
где
pp -
концентрация свободных дырок в валентной
зоне полупроводника, м-3;- концентрация ионизированных акцепторов
на примесных уровнях, м-3.
Умножая
левую и правую части уравнения (2.28) на
значение pp и решая
полученное уравнение относительноpp,
получим выражение для закона действующих
масс в дырочном полупроводнике в виде,
откуда следует, что концентрация дырок
в полупроводникеp-типа проводимости
определяется уравнением вида
.
(2.29)
Для
определения концентрации дырок ppи заряженных акцепторовв дырочном полупроводнике, применяется
тот же метод, что и для расчета концентраций
носителей заряда в электронном
полупроводнике. В результате получим,
что концентрация дырок в дырочном
полупроводнике рассчитывается по
формуле
.
(2.30)
Концентрация отрицательных ионов на примесных уровнях в дырочном полупроводнике определяется из выражения
,
(2.31)
где Na- эффективная плотность состояний электронов на уровнях акцепторной примеси, фактически представляющая концентрацию атомов акцепторной примеси, м-3.
Подставив
значения pp ииз выражений (2.30) и ( 2.31) в уравнение
(2.29), получим, что концентрация дырок в
дырочном полупроводнике рассчитывается
по формуле
,
(2.32)
где Wa= Wa-Wv- энергия ионизации акцепторного уровня.
Так же, как и в случае электронных полупроводников, формула (2.32) справедлива при расчетах концентрации основных носителей заряда в дырочных полупроводниках для ограниченного диапазона температур - от 0 до 30...70 К. Для дырочных полупроводников остаются справедливыми также понятия температуры истощения и появления собственной проводимости при сильном нагреве полупроводника. Значение температуры истощения Т=Тs и температуры появления собственной проводимостиТ=Тiрассчитываются по формулам типа (2.22) и (2.23) с подстановкой в них соответствующих значений определяемых величин:
,
(2.33)
.
(2.34)
Температурная зависимость концентрации носителей заряда pв полупроводникеp-типа, построенная в координатахln p=f(1/T), аналогична представленной выше на рис. 2.3 для электронного полупроводника. Эта зависимость характеризуется областями слабой ионизации, истощения и перехода к собственной проводимости.
Для
определения положения уровня Ферми в
дырочном полупроводнике воспользуемся
очевидным равенством pp=,
справедливым в диапазоне комнатных
температурТ
300
К. Подставляя в это равенство значенияppи
из выражений (2.30) и (2.31) и беря натуральные
логарифмы от левой и правой частей,
получим следующее выражение
.
(2.35)
Из
этого выражения получаем, что значение
энергии, соответствующей положению
уровня ФермиWFв дырочном
полупроводнике рассчитывается по
формуле
.
(2.36)
График функции WF=f(T) приведен на рис. 2.5. Анализ этого рисунка и формулы (2.36) позволяет сделать следующие выводы.
При Т=0 уровень Ферми в дырочном полупроводнике располагается посередине между потолком валентной зоны и уровнем акцепторной примеси, то естьWF =(Wv+Wa)/2.
С возрастанием температуры энергия уровня Ферми WFначинает постепенно увеличиваться и при температуре истощенияТ=Тs пересекает уровень акцепторной примесиWa. ПосколькуWF=Wa, то равенство (2.35) можно записать в виде lnNa=lnNv+(Wv-WF)/kT, откуда следует, что
.
(2.36)
Подставляя в выражение (2.36) значение Т=Тsиз формулы (2.33) и, учитывая, чтоWa=Wa-Wv, действительно получаем, чтоWF=Wa.
При температурах, больших температуры истощения, положение уровня Ферми смещается вверх к середине запрещенной зоны, что свидетельствует о плавном переходе от дырочной к собственной проводимости полу проводника.
В
полупроводнике p-типа
в диапазоне температурTsT
Tiконцентрация основных носителей (дырок)pp=Na,
а концентрация неосновных носителей –
,электронов, рассчитывется исходя из
закона равновесия масс
.
(2.37)
Заметим, что примесные энергетические уровни, для которых характерна небольшая энергия ионизации, составляющая несколько сотых долей эВ, принято называть мелкими уровнями. Наряду с примесями, создающими мелкие уровни, для легирования полупроводников используют примеси, при введении которых в запрещенной зоне создаются уровни с энергией ионизации порядка 0,1...0,4 эВ, сообщающие полупроводнику качественно новые свойства. Такие уровни называютглубокими уровнями (центрами). В качестве примесей, создающих глубокие примесные уровни в запрещенной зоне полупроводников используют элементы 1-й группы (Cu, Ag, Au), 6-й группы (S), элементы группы железа (Fe, Co, Ni) и некоторые другие.