
- •Контактные явления в полупроводниках
- •4.1. Контакт между электронным и дырочным полупроводниками
- •4.1.1. Диффузионные и дрейфовые токи в p-nпереходе
- •4.1.2. Неравновесное состояние p-nперехода
- •4.1.3. Отличие реального p-nперехода от идеального
- •4.1.4. Емкость p-nперехода
- •4.1.5. Пробой p-nперехода
- •4.2. Гетеропереходы
- •4.3. Контакты полупроводник – металл
- •4.4. Эффект поля в полупроводниках
- •4.4.1. Эффект поля в собственном полупроводнике
- •4.4.2. Эффект поля в примесных полупроводниках
- •4.4.3. Влияние поверхностного потенциала на поверхностную проводимость
4.1.5. Пробой p-nперехода
Пробой – это процесс резкого увеличения тока через p-nпереход в области больших обратных напряжений. Напряжение пробоя обозначим какUпроб. Различают три вида пробоя:туннельный, лавинный и тепловой.
Первые два вида пробоя относятся к обратимым видам пробоя, тепловой пробой является необратимым.
Общий
условный вид обратной ветви вольтамперной
характеристики представлен на рис.
4.10. На этой кривой можно выделить три
участка. Участок 1 соответствует
нормальному ходу ВАХ, на участке 2
наблюдаются обратимые туннельный и
лавинный пробой, наконец, участок 3 –
это область необратимого теплового
пробоя.
Туннельный пробой. Это вид пробоя возникает вследствие туннелирования электронов, возникающего из-за высокой напряженности электрического поля вp-nпереходе. Рассмотрим зонную диаграммуp-nперехода, на который подается достаточно высокое обратное напряжениеUобр, создающее напряженность поляЕ=106…107В/м.
Напряженность поля Eвp-nпереходе должна быть такой, чтобы энергия электронов валентной зоны была такой же, как и энергия свободных электронов зоны проводимости.
Для
туннельного эффекта необходимо чтобы
толщина обедненного высокоомого слояlсоставляла величину порядка 10 нм.
Для этого уровень легированияp-иn-областей должен быть не менее
1024…1025 м-3.
Туннелирование возможно для электронов, энергия которых соответствует интервалу туннелированияΔφтун(рис. 4.11). Это интервал энергий (на зонной диаграмме – потенциалов), по обе стороны которого расположены разрешенные уровни энергии. При возрастании ширины интервала туннелирования Δφтунтуннельный ток через переход резко увеличивается.
Туннельный пробой возникает при напряжении Uпроб≤5 В.С ростом температуры напряжение туннельного пробоя уменьшается из-за некоторого снижения ширины запрещенной зоны полупроводника. Следовательно, температурный коэффициент напряжения туннельного пробоя ТКUпроб <0.
Лавинный пробой. Связан с образованием лавины носителей заряда под действием сильного электрического поля. В этом поле носители на длине свободного пробега приобретают энергию, достаточную для образования новых электронно-дырочных пар путем ударной ионизации атомов полупроводника. В результате ток черезp-nпереход возрастает и становится равным
I=I0M,
где I0– обратный ток черезp-nпереход,М– коэффициент лавинного умножения
Значение коэффициента лавинного умножения Мрассчитывается по формуле
,
где m=3…5 – коэффициент.
Лавинный пробой может возникать при напряжении Uпроб =8…10 В. При отключении обратного напряжения на p-n переходе процесс лавинного пробоя прекращается. С ростом температуры напряжение лавинного пробоя возрастает из-за некоторого уменьшения длины свободного пробега электронов. Следовательно, температурный коэффициент напряжения туннельного пробоя ТКUпроб >0.
Тепловой пробой. Обусловлен процессом нагревания и последующего разрушенияp-nперехода вследствие образования проводящего канала для носителей заряда. Величина напряжения теплового пробояUпробдостигает 1000 В и выше. С ростом температуры напряжение теплового пробоя уменьшается.