![](/user_photo/_userpic.png)
книги из ГПНТБ / Кушманов И.В. Электронные приборы учеб. пособие
.pdf■во втором случае электроны (или дырки) переходят из зоны про водимости (валентной) одной области в ту же самую зону другой области. На рис. 2.34в вольтамперная характеристика туннельного
диода представлена |
как зависимость суммы токов |
/р_„ и |
обычного диодного |
(диффузионного и дрейфового) от приложенно |
|
го напряжения. |
|
|
Для выяснения физических процессов, протекающих в туннель ном диоде, необходимо рассмотреть зонные диаграммы для раз личных напряжений, приложенных к диоду. Туннельный переход
.электронов из одной области в |
другую возможен, если энергети |
||||||||
|
|
|
ческим |
уровням, |
заполнен |
||||
|
|
|
ным |
электронами в |
одной |
||||
|
|
|
области, соответствовали бы |
||||||
|
|
|
свободные |
от |
электронов |
||||
|
|
|
уровни |
(«вакансии») в дру |
|||||
|
|
|
гой области, расположенные |
||||||
|
|
|
на |
той же |
энергетической |
||||
|
|
|
высоте, |
|
поскольку электрон |
||||
|
|
|
совершает туннельный пере |
||||||
|
|
|
ход |
без |
изменения |
своей |
|||
|
|
|
энергии. |
|
2.35 |
приведена |
|||
|
|
|
На рис. |
||||||
|
|
|
зонная |
диаграмма туннель |
|||||
|
|
|
ного |
диода в |
отсутствие |
||||
|
|
|
внешнего |
напряжения |
(слу |
||||
|
|
|
чай |
равновесия). Заштрихо |
|||||
|
|
|
ванные |
|
области указывают |
||||
Рис. 2.35. Диаграмма |
энергетических |
зон |
плотность |
электронов |
(про |
||||
туннельного диода при |
отсутствии внешне |
порционально |
расстоянию |
||||||
го напряжения |
|
|
между кривыми |
1 и рР (W) |
|||||
в валентной зоне и кривой 2 и линией 3 |
в |
зоне |
проводимости). |
Плотность вакансий соответствует расстоянию между кривыми 2 и
.Pn(W) в зоне проводимости и кривой 1 и линией 4 в валентной зоне.
Туннельный ток, протекающий сквозь переход, пропорционален произведению плотности занятых электронами уровней с той сто роны барьера, где электроны начинают свое движение, на плот ность вакансий с противоположной стороны барьера. Электроны проходят сквозь барьер в обоих направлениях. Поэтому для опре деления результирующего туннельного тока следует разбить плот ности заполненных уровней и .вакансий на элементарные энергети ческие слои шириной AW', найти произведения числа заполненных уровней в п-области на число вакансий в p-области и, наоборот, числа заполнённых уровней в p-области на число вакансий, в я-об-
.ласти для каждого слоя и произвести суммирование по всем слоям в пределах интервала перекрытия зон. Полученную сумму нужно умножить на вероятность туннельного перехода, которая тем боль ше, чем уже переход и чем меньше ширина запрещенной зоны, оп-
160
ределяемая материалом полупроводника. Очевидно, что в случае равновесия (U = 0) противоположно направленные составляющие' туннельного тока окажутся одинаковыми вследствие симметрии диаграммы относительно WF, и результирующий ток будет равен нулю.
Для упрощения построения зонных диаграмм в дальнейшем' будем предполагать, что в зоне проводимости п-области все энер гетические уровни от дна зоны до уровня Ферми целиком заполне ны электронами, а все уровни, выше уровня Ферми, целиком сво бодны (нет штриховки). В валентной зоне p-области все энергети ческие уровни от потолка зоны до уровня Ферми будем считать целиком свободными от электронов, в то время как все уровни,, лежащие ниже уровня Ферми,— целиком заполненными. Подобная идеализация вполне допустима при рассмотрении принципа дейст вия туннельного диода.
При указанном допущении в случае /7=0 (рис. 2.36а) ток че рез диод протекать не будет, так как свободным уровням в одной" области соответствуют на той же высоте свободные уровни в дру-
Рис. 2.36. Идеализированные энергетические диаграммы туннель ного диода:
а) |
U = 0; б) |
0 < U < U Ü вy U = Ut; г) Ul < U < U 2; д) U = U 2: |
е) |
U > U 2; ж) |
U < 0 |
той области; равным образом, заполненным уровням в одной обла сти, соответствуют затолценные уровни и в другой области.
На рис. 2.366 приведена диаграмма для случая прямого напря жения 0<Н<сН[. Здесь уровень Ферми в «-области выше, чем в р-области, и поток электронов переходит из п-области в р-область. Величина этого прямого тока определяется степенью перекрытия свободных уровней в валентной зоне и заполненных уровней в зоне проводимости. С увеличением прямого напряжения это перекрытие расширяется и при U= Ui (рис. 2.36е), когда уровень потолка ва лентной зоны p-области совпадает с уровнем Ферми в зоне прово димости «-области, достигает максимального значения; туннельный
ток / = /! также становится |
максимальным. Пиковый ток |
h |
(рис. |
|
2.34а) пропорционален площади перехода и вероятности |
туннель |
|||
ного эффекта. Напряжение Uі, соответствующее пиковому значе |
||||
нию тока, зависит от степени легирования обеих областей. |
туннель |
|||
•При дальнейшем росте |
прямого |
напряжения U > U і |
||
ный ток начинает убывать, |
так как |
из-за подъема уровня |
Ферми |
в п-области перекрытие уровней сокращается и уменьшается число переходов электронов в p-область. Наконец, потолок валентной зо ны совпадает с дном зоны проводимости (рис. 2.366), перекрытие зон прекращается, и туннельный ток становится равным нулю при напряжении U=Uo. При этом напряжении появляется обычный диффузионный ток инжекции через р-п-переход, когда дырки с большими энергиями начинают переходить через энергетический барьер из валентной зоны р-области в валентную же зону «-обла сти, а во встречном направлении из «-области в p-область инжек тируются электроны в зоне проводимости. Однако вблизи миниму ма тока / 2 (рис. 2.34а) и несколько правее в диоде основную роль играет избыточный ток, вызываемый переходом электронов из зоны проводимости «-области на свободные ловушечные уровни в сред ней части запрещенной зоны, а оттуда на свободные энергетические
|
Рис. 2.37. Схема образования |
Рис. 2.38. Эквивалентная |
схема |
|
|
избыточного тока |
туннельного диода |
|
|
уровни |
валентной |
зоны p-области |
(рис. 2.37). Избыточный |
ток |
уменьшает отношение /і/ / 2 в туннельном диоде. |
|
|||
При |
обратном |
напряжении Ѵ < 0 |
(рис. 2.36) уровень Ферми в |
|
л-области ниже, чем в p-области на |
величину, определяемую |
при |
152
ложенным напряжением. Энергетические зоны раздвигаются, и по является возможность перехода электронов с заполненных уровней валентной зоны ^-области на свободные уровни зоны проводимое™ п-области. Через диод потечет большой обратный ток в направле нии от п-области к р-области.
Туннельный диод характеризуется следующими основными па раметрами (рис. 2.34а):
—отношением токов в максимуме и в минимуме вольтамперной характеристики Л//2;
—отрицательной дифференциальной проводимостью на участ ке AB в точке максимума производной;
—напряжением переключения ДUn=Ü 3—ТА, которое опреде ляет возможный скачок напряжения на нагрузке при работе тун нельного диода в схеме переключения;
—барьерной емкостью C(Uz) диода, которая обычно измеряет ся при минимуме тока. Емкость в максимуме тока равна C(Ui) Ä;
f&0,8C(U2).
Эквивалентная схема туннельного диода, соответствующая ра бочему участку AB с отрицательной проводимостью, представлена на рис. 2.38. Для других участков вольтамперной характеристики схема остается такой же, но дифференциальная проводимость пе рехода становится положительной. Помимо емкости С и дифферен циальной проводимости перехода G, в схему входят последователь ное сопротивление потерь г, включающее сопротивление р- и п-об ластей, контактов и подводящих проводов, и индуктивность L вы водов, корпуса и кристалла.
Емкость перехода при толщине последнего порядка ІО-2 мкм составляет С= 30э-50 пФ. Так как от величины емкости зависятчастотные свойства туннельного диода, ее стремятся сделать мини мальной. Величина отрицательной дифференциальной проводимо сти G определяется углом наклона падающего участка вольтампер ной характеристики; обычно она находится в пределах от единицы до сотых долей сименса. Индуктивность L (порядка ІО-10 Г) яв ляется іпаразитныім параімегром, тан как опраіннчивает собственнуюрезонансную частоту соо Для уменьшения L контакты осуществляютмембраной, прижимом массивного электрода и т. п. Величина г из меряется десятыми долями ом и единицами ом. Полное сопротив ление схемы при данной частоте м
Z = г + |
- R |
-f і со [ L |
CR- |
\ |
1 + ш2 С2 R2 |
1 + со2 С- R2 I |
где R= 1/G.
Приравнивая нулю действительную часть полного сопротивле ния, наводим предельную частоту, на которой туннельный диод, способен генерировать колебания:
/п р е д — 2 л RC
153'-
Максимальное значение предельной частоты / маКс = 1/4ягС по ручается при R— 2r. Следовательно, частотные свойства туннель ного диода определяются постоянной времени гС.
Уменьшать емкость С путем уменьшения площади перехода не-, целесообразно, так. как при этом уменьшается и пиковый ток / t, что увеличит отрицательное сопротивление, и, следовательно, пре дельная частота останется без изменения. Таким образом, при уменьшении С ток А должен оставаться неизменным, поэтому ка чество туннельного диода удобно характеризовать отношением / і/С. В настоящее время туннельные диоды изготовляют из герма ния, кремния, арсенида галлия и других полупроводниковых соеди нений. Наиболее перспективным материалом является арсенид гал лия, обладающий наилучшими параметрами. На рис. 2.39 приве
|
|
дены для сравнения вольтамперные |
||||
|
|
характеристики |
туннельных диодов |
|||
|
|
из различных |
полупроводниковых |
|||
|
|
материалов. Из рисунка видно, что |
||||
|
|
диоды из арсенида галлия облада |
||||
|
|
ют наибольшим |
отношением А/А и |
|||
|
|
напряжением |
переключения ДUn. |
|||
|
|
Основными |
достоинствами тун |
|||
Рис. 2.39. Вольтамперные харак |
нельного диода являются: |
|||||
— высокие рабочие |
частоты —■ |
|||||
теристики германиевых и |
ар |
|||||
сенидгаллиевых туннельных |
ди |
до 40 ГГц и весьма малое время пе |
||||
одов |
|
реключения, |
которые |
определяют |
||
|
|
ся преимущественно конструктивны |
ми особенностями, а не временем прохождения электронами р-п-ие- рехода, составляющим около ІО-13 с:
— высокая температуростойкость; у арсенид-галлиевых тун нельных диодов рабочая температура достигает 400°С Возмож ность работы туннельных диодов при более высоких температурах по сравнению с обычными диодами объясняется тем, что в них ис пользуется вырожденный полупроводник с большой концентра цией примесей. При большой концентрации примесей концентра ция электронов велика и влияние собственной электропроводности сказывается при более высоких температурах;
—низкий уровень шума;
—большая плотность тока, свойственная туннельному эффек ту, достигающая 103-РІ04 А/см2
Как недостаток, следует отметить малую мощность туннельных
.диодов из-за низких рабочих напряжений и малых площадей пе рехода.
Обращенный полупроводниковый диод
Обращенный диод применяют в качестве детектора слабых сигналов на свч и ограничителя; кроме того, его можно ис пользовать вместо точечных свч смесительных диодов.
Д64
Принцип действия обращенного диода также основан на тун нельном перемещении электронов сквозь энергетический барьер.. Концентрация примесей в его р- и /г-областях подбирают такой,, чтобы при отсутствии внешнего напряжения дно зоны проводимо сти /г-области и потолок валентной зоны /г-области совпадали бы в- зонной диаграмме по высоте, т. е. полупроводниковые области на ходились бы на грани вырождения. В этом случае при приложениипрямого напряжения, когда дно зоны проводимости /г-области под нимается выше /г-области, туннельный ток отсутствует и прямая ветвь вольтамперной характеристики обращенного диода подобна участку характеристики обычного диода, на котором прямой ток определяется инжекцией носителей через /?-/г-переход. Если же к обращенному диоду приложить обратное напряжение и сместить дно зоны проводимости /г-области на диаграмме вниз так, чтобы зоны перекрывались, то появится значительный обратный туннель ный ток, созданный перемещением электронов сквозь барьер из p-области в /г-область.
На рис. 2.40а приведена зонная диаграмма обращенного диодадля случая обратного напряжения (заштрихованные области пол-
Rite. 2.40. К пояснению работы обращенного диода:
а) зонная диаграмма; б) вольтамперная характеристика
ностыо заняты электронами), а на рис. 2.406 — его вольтамперная; характеристика. При работе обращенного диода его ветвь обратно го тока используется как «проводящий» участок,-и соответственно прямой ток при напряжениях 0 < . £ / < £ / 2 принимается за обратный. Отсюда и название-— обращенный диод. Для'сравнения на том же- рисунке-пунктирной линией показана характеристика туннельного диода. Параметры обращенных диодов те же, что и туннельных.. Специфическим параметром обращенного диода, является крутиз на обратной ветви характеристики.
155'.
Диод с барьером Шоттки
Диоды с барьером Шоттки находят применение как •сверхбыстродействующие импульсные приборы, детекторы и сме- ■сители на свч (на частотах до 50 ГГц). Диод с барьером Шоттки вы полнен на основе контакта металл—полупроводник. Основные мате-
.матические соотношения, описывающие электрические характерис тики этого контакта, были получены немецким исследователем Шоттки, вследствие чего подобную структуру стали называть барье ром Шоттки.
Структура меза-днода с барьером Шоттки показана на рис. 2.41. Базу прибора выполняют из сильно легированного кремния с элек
тронной |
проводимостью п+. На |
а) |
|
|||
нее наращивают |
кремний п-типа |
|
||||
-с меньшей концентрацией приме |
vkY |
1----------К |
||||
си. На этот слой, в свою очередь, |
/ 2 / / / / / / / / / Х - |
|||||
путем вакуумного |
испарения, хи |
|
|
|||
мического осаждения |
или ионно |
|
|
|||
плазменного распыления наносят |
|
|
||||
тонкий слой золота. Таким обра |
6) |
|
||||
зом, в приборе имеется плоскост |
|
|||||
ной контакт золота с |
кремнием. |
Ѵк |
|
|||
Эту пару подбирают с учетом то |
777777777Р? |
Unp |
||||
го, что |
работа выхода |
кремния |
|
|
||
«-типа меньше работы выхода зо- |
|
|
||||
.лота. В |
результате |
на |
границе |
|
|
Au
n*-Si
Рис. 2.4.1. Структура меза-диода Шоттки
-К
Рис. 2.42. Энергетические диаграммы диода Шоттки:
а) равновесное состояние; б) при пря мом напряжении; в) при обратном напряжении
гкремния и золота образуется выпрямляющий контакт с контактной разностью потенциалов £/к=фом—ф^.
Энергетическая диаграмма контакта металл—полупроводник приведена на рис. 2.42а. Благодаря разности работ выхода метал ла и полупроводника между ними происходит обмен электронами. -Электроны из полупроводника, имеющего меньшую работу выхода, переходят в металл с большей работой выхода. В равновесном со стоянии (рис. 2.42а) металл заряжается отрицательно, в результа те чего возникает электрическое поле, прекращающее однородный переход электронов.
456
Из-за резкого различия концентраций свободных электронов по обе стороны от контакта практически все падение напряжения приходится на приконтактную область полупроводника. Приложен ное внешнее напряжение изменяет высоту барьера лишь со сторо ны полупроводника. Электроны зоны проводимости отталкиваются возникшим контактным полем. Создается обедненный слой с пони женной концентрацией подвижных носителей. Около контакта вследствие изгиба границ зон полупроводник «-типа переходит в полупроводник р-типа.
При прямом смещении (рис. 2.426) потенциальный барьер со стороны полупроводника понижается и число переходов электронов в металл увеличивается. При обратном смещении (рис. 2.42е), напротив, ток из полупроводника уменьшается, стремясь с ростом напряжения к нулю. Ток электронов из металла все время остается неизменным: роль его незначительна при прохождении прямого тока, им же обусловлен ток утечки при обратном смещении. Вели чина этого обратного тока в приборах с барьером Шоттки порядка единиц микроампер.
Преимущество диода с барьером Шоттки перед диодами на р- я-переходах заключается в следующем. Диоды с барьером Шотт ки имеют малую инерционность при переключении в импульсных схемах. Время их переключения на один-два порядка меньше, чем у самых быстрых диодов с д-п-переходами. Это объясняется тем, что у них нет ни инжекции, ни накопления заряда, они работают с быстрыми («горячими») электронами, которые «разогреваются» из-за высокой напряженности поля порядка Д=|104 В/см. Время переключения в основном зависит лишь от емкости контакта и вре мени пролета электронов через базу. Диоды с барьером Шоттки имеют меньшее последовательное омическое сопротивление расте кания г, так как одна из областей является металлом. Малое па дение напряжения на приборе по этой причине обусловливает вы сокую крутизну прямой вет.ви вольтаімдерной характеристики. Об ласть металла имеет хорошую' теплопроводность, поэтому такой диод имеет малое тепловое сопротивление. Отсутствие процессов диффузии и рекомбинации неосновных носителей заметно снижает шумы прибора, возникающие в обычных диодах.
Рассмотренная выше модель диода с барьером Шоттки близка к идеальной. На практике же получить хорошие параметры прибо ра затруднительно. Трудности связаны, прежде всего, с обработ кой поверхности полупроводника и технологией нанесения метал лической пленки. Ухудшает параметры и промежуточный диэлект рический слой, состоящий из окисной пленки и адсорбированных атомов.
2.6. ТРАНЗИСТОРЫ Устройство и принцип действия
Транзистор представляет собой электропреобразова тельный полупроводниковый прибор с одним или несколькими электрическими переходами, имеющий три или более выводов, пригодный для усиления мощности'1). іВ зависимости от числа вы водов транзисторы делятся на полупроводниковые триоды и по лупроводниковые тетроды. По принципу действия различают транзисторы, в которых используется инжекция носителей заря да через р-/г-переход (бездрейфовые и дрейфовые), и транзисто ры без инжекции ’ (полевые). ІТнжекционные транзисторы назы вают также биполярными, так как в процессе переноса тока здесь участвуют два вида носителей заряда — основные и неосновные, а полевые — униполярными, поскольку они работают только с ос новными носителями. Полевые транзисторы по типу управления делятся на транзисторы с р-п-переходом и с изолированным за твором. В бездрейфовых транзисторах неосновные носители пере носятся через базовую область, главным образом, посредством диффузии, в то время как в дрейфовых транзисторах этот пере нос осуществляется, главным образом, посредством дрейфа но сителей под действием внутреннего электрического поля в базе. В полевых транзисторах поток основных носителей заряда дрей фует вдоль ускоряющего электрического поля в управляемом канале.
По конструкции современные транзисторы выполняют исклю чительно плоскостными; точечные транзисторы, вследствие ряда недостатков (главным образом, из-за нестабильности работы), в настоящее время не применяются и промышленностью не выпу
скаются. |
|
|
плоскостные |
транзисторы |
|
Наконец, можно классифицировать |
|||||
по технологическому |
признаку, |
а именно по типу |
их электриче |
||
ских переходов. По |
этому признаку |
транзисторы |
делятся на |
||
сплавные, диффузионные, микросплавные, |
меза, эпитаксиальные,, |
||||
планарные, конверсионные, а также комбинированного типа. |
|||||
На рис. 2.436 представлена схема |
включения бездрейфового |
||||
плоскостного транзистора типа |
р-п-р |
с |
двумя р-я-переходами2)- |
Транзистор имеет три области: эмиттер Э с дырочной электропро водностью, базу Б с электронной электропроводностью и коллектор К с дырочной электропроводностью. Переход между эмиттером и базой называется эмиттерным, а между базой и коллектором — коллекторным. Общей точкой схемы является вывод базы.*•
') Термин «транзистор» образован соединением первых букв словір «transter»- (передача) и последних букв слова «resistor» (сопротивление).
•г) Направление стрелки в линии эмиттера указывает на направление дви- . жения дырочного тока.
1:58
Во внешней цепи между выводами эмиттера и базы включено малое прямое напряжение І7Эб порядка нескольких десятых долей вольта. Если пренебречь падением напряжения в областях эмитте ра и базы, то это напряжение окажется приложенным к эмиттерному переходу и уменьшит высоту энергетического барьера в нем на величину qU3G, создав тем самым возможность инжекции основных
|
зи'сторов: |
|
а) 1 — кристалл полупроводникового материала с |
1» К |
переходами; 2 — герметичный корпус; 3 — выводы; |
4 — изоляторы выводов; б) структура р-п-р\ |
|
в) структура п-р-п |
носителей заряда через эмиттерный переход. Во внешней цепи ме жду выводами коллектора и базы включено обратное напряжение 'UKQ величиной от нескольких вольт до сотен вольт, которое при кладывается к коллекторному переходу и увеличивает в нем (на величину qilКб) высоту энергетического барьера, в результате чего его электрическое поле усиливается.
Базу выполняют в виде очень тонкой области толщиной при мерно 10—25 мкм, а в высокочастотных транзисторах — даже 1— 2 мкм. Обозначения напряжений в цепях транзистора снабжают двумя индексами, указывающими на электроды, между которыми включено данное напряжение, причем второй индекс всегда отно сится к общему электроду схемы.
На рис. 2.4'Зв представлен полупроводниковый триод, имеющий
/z-p-д-структуру. В нем |
по сравнению |
с триодом р-п-р-структуры |
изменены полярности |
напряжений во |
внешних цепях для того, |
чтобы обеспечить прямое напряжение |
на эмиттерном переходе и |
обратное — на коллекторном.
Существуют три схемы включения полупроводниковых триодов:
с общей' (или заземленной) |
базой ОБ, с общим |
(или заземленным) |
|
эмиттером |
0 3 и с общим |
(или заземленным) |
коллектором ОК |
(рис. 2.44). |
Наиболее часто |
применяют схемы включения с общей |
базой и общим эмиттером. Во всех этих схемах полярность источ-
459