УСТАНОВКИ ПЛАЗМЕННОГО НАПЫЛЕНИЯ
Современная автоматическая установка плазменного напыления ТСЗП MF-P-1000 работает на смеси газов аргона, азота, водорода при расходе аргона до 100 л/мин, азота - до 50 л/мин, водорода - до 20 л/мин, транспортирующего газа - до 30 л/мин. Производительность напыления по металлическим сплавам - до 5 кг/ч. Плотность порошковых покрытий - 92 - 99%, прочность 
сцепления - 30…80 МПа. Установка комплектуется 
плазмотронами F-4 мощностью 55 кВт или F-1 для нанесения 
покрытий на внутренние поверхности диаметром от 90 мм при 
мощности 25 кВт, плазмотроном SG-100 мощностью 80 кВт и
снабжена роботом KUKA KR-15/2 грузоподъемностью на руке 15 
кг. Установка разработана и поставляется ООО "Технологические 
Системы Защитных Покрытий" 
(Россия).
Технология лазерно-плазменного напыления пленок нанометровых толщин
Разработка метода лазерно-плазменного осаждения с
изменением энергетического спектра и степени ионизации
лазерного эрозионного факела позволяет решить задачу
получения пленок с различными структурными
характеристиками от предельно неупорядоченного и
даже аморфного состояния до эпитаксиальных пленок.
При этом могут создаваться сверхтонкие пленки
металла, в которых могут наблюдаться классический и 
квантовый размерный эффекты.
Схема установки лазерно-плазменного напыления
Излучение лазера с помощью линзы фокусируется на поверхности твердой мишени. Под действием лазерного излучения с поверхности мишени испаряется вещество и, как правило, образуется плазма.
Вакуумная камера откачивается турбомолекулярным или диффузионным насосом до давления 
порядка 10-6 мм рт.ст. Внутри камеры располагаются мишень, сепаратор капель и нагреватель подложки. Нагреватель позволяет поддерживать температуру подложки в пределах 50-1000°С. Плазма, расширяясь при разлете по нормали к мишени, достигает подложки, на поверхности которой и происходит рост пленки. В качестве мишени применяются диски из необходимых материалов (металлы, сплавы, полупроводниковые кристаллы, керамики, и составные мишени). Плоскости мишени и подложки, как правило, параллельны друг другу и отклонены на 20° от вертикали. Расстояние между ними может составлять от 25 до 120 мм. ВЧ возбуждение буферного газа осуществляется генератором с частотой 
50 - 100 кГц.
Используемая литература
1. Афанасьев Ю. В., Крохин О. Н. Газодинамическая теория воздействия излучения лазера на конденсированные среды // Труды ФИ АН СССР.-1970.-52.-c.118-170.
2. Гапонов С. В., Салащенко Н, Н. Электронная промышленность, 1976,© 1, c.11-20.
3. Жерихин А.Н. Лазерное напыление тонких пленок. Итоги науки и техники. Серия: Современные проблемы лазерной физики, М.:ВИНИТИ, 1990,107с.
4. А.Н. Жерихин, А.И. Худобенко, Р.Т. Вилльямс, и др., Квантовая электроника, 33 (11) 975 (2003).
5. Ашкрофт H.Н., Мермин Н.// Физика твердого тела. Москва. 1979. 400 C.
6. Комник Ю.Ф. // Физика металлических пленок. Москва.1979. 273 С.
