
- •Конспект лекций по дисциплине «Физическая химия твердого тела» Направление подготовки
- •240100 Химическая технология
- •Магистерская программа
- •1. Введение. Основные цели и задачи физической химии твердого тела.
- •2. Кристаллография
- •Координаты точек и линий в элементарной ячейке.
- •Симметрия элементарной ячейки.
- •3. Кристаллохимия.
- •Основные виды гексагональных структур.
- •4.Дефекты кристаллической решетки. Точечные дефекты (дефекты I рода).
- •Температурные дефекты.
- •Структуры разрыхления. Дефекты по Шотки.
- •Структуры смещения. Дефекты по Френкелю.
- •Протяженные дефекты (дефекты II рода).
- •Дислокации. Дислокацией называется область дефектов решетки, простирающейся вдоль некоторой линии (линии дислокации). Краевые дислокации.
- •Винтовые диислокации.
- •Расчет дефектности.
- •Определение объема приходящегося на дефекты I и II рода.
- •Взаимодействие точечных и протяженных дефектов.
- •Источник Франка – Рида.
- •5. Методы исследования твердого тела Рентгенофазовый анализ
- •Возникновение непрерывного и линейчатого (атомного) спектра.
- •Закон Мозели.
- •Четыре квантовых числа.
- •Принцип Паули.
- •Основные сведения по физике рентгеновских лучей. Спектры испускания лучей.
- •Спектры поглощения рентгеновских лучей.
- •Рассеяние свободным электроном.
- •Эффект Комптона.
- •Фотоэффект.
- •Суммарное поглощение рентгеновского излучения веществом.
- •Спектры поглощения рентгеновского излучения.
- •Дифракция рентгновских лучей
- •Вывод уравнения Лауэ.
- •Вывод уравнения Вульфа – Брэгга.
- •Аппаратура для рентгененофазового анализа Принципиальная схема рентгеновской установки типа дрон.
- •Выбор основных параметров съемки дифрактограмм на рентгеновской установк типа дрон.
- •Приготовление образцов для проведения рентгенофазового анализа.
- •Съемка дифрактограмм. Метод Брентано.
- •Съемка рентгенограмм в монохроматическом излучении
- •Идентифкация вещества по межплоскостным расстояниям.
- •Индицирование рентгенограмм порошка.
- •Критерии правильности индицирования рентгенограмм.
- •Обратная решетка.
- •Индицирование рентгенограмм порошка. Индицирование рентгенограмм кубических веществ. Закон погасания.
- •Индицирование рентгенограмм в случае средних сингоний.
- •Аналитический метод индицирования рентгенограмм ромбических кристаллов (метод Хесса - Липсона).
- •Индицирование дебаеграмм методом Ито.
- •Метод подбора изоструктурного соединения.
- •Метод гомологии расшифровки рентгенограмм.
- •Переход от кубической ячейки к гексагональной.
- •Политипия. Интерпретация рентгенограмм слоистых структур со сложным характером чередования связей.
- •Источники ошибок в определении межплоскостных расстояний.
- •Зависимость точности в определении межплоскостного расстояния d от угла отражения .
- •Поправка на преломление.
- •Определение размеров кристаллитов и микронапряжений.
- •Метод определения областей когерентного рассеяния (окр).
- •Растровая электронная микроскопия (рэм, сэм) и рентгеноспектральный микроанализ (рсма).
- •Физические основы растровой электронной микроскопии
- •Формирование изображения в рэм.
- •Сканируемая область в зависимости от увеличения.
- •Глубина фокуса
- •Передача изобажения в цифровой форме и их обработка
- •Контраст
- •Контраст зависящий от атомного номера (контраст от состава, сигнал отраженных электронов)
- •Контраст от состава образца (режим вторичных электронов)
- •Компоненты контраста.
- •Ограничения разрешения.
- •Рентгеноспектральный микроанализ Физические основы рентгеноспектрального микороанализа
- •Устройство и работа рентгеноспектрального микроанализатора
- •Подготовка объектов для исследований и особые требования к ним
- •Технические возможности рентгеноспектрального микроанализатора
- •Технические возможности сканирующего туннельного микроскопа
- •Требования к объектам исследования и методы их подготовки
- •Области использования сканирующей туннельной микроскопии
- •Развитие микроскопии ближнего поля и расширение области её применения
- •Программное обеспечение. Форма сохранения и выдачи информации
- •Термический анализ.
- •Термогравиметрический анализ (тга).
- •Дифференциально – термический анализ (дта).
- •Применение дта и тга.
- •Пример разложения каолина Al4(Si4o10)(oh)8.
- •Изучение стеклообразования методом дта.
- •Некоторые особые области применения дта.
- •Спектральные методы исследования твердых тел
- •Спектроскопия видимого излучения и уф – спектроскопия.
- •Спектроскопия ямр (ядерно-магнитного резонанса).
- •Спектроскопия эпр(электронный парамагнитный резонанс).
- •Электронная спектроскопия эсха, рфс, уфс, Оже-спектроскопия, схпээ.
- •Ядерная - резонансная (Мессбауэровская ) спектроскопия.
- •Спектроскопия комбинационного рассеяния света (кр, крс, Раммановская спектроскопия).
- •Рассеяние света.
- •Колебания, модуляции, спекры.
- •Комбинационное рассеяние и поглощение света.
- •Основные параметры линий комбинационного рассеяния.
- •Применение комбинационного рассеяния в химии.
- •Установление химического строения молекул.
- •Исследование микроскопических образцов методом крс.
- •Основы зонной теории твердых тел Классификация твердых тел по величине электропроводности Твердое тело
- •Металлический кремний (Si) – 103 – 10-5 10-10 Ом-1см-1,
- •Уравнение Шредингера для твердого тела
- •Одноэлекторонное приближение
- •Функции Блоха
- •Свойства волнового вектора электрона в кристалле. Зоны Бриллюэна.
- •Построение зон Бриллюэна в простой кубической решетке с параметром а
- •Заполнение зон электронами. Металлы, диэлектрики, полупроводники
- •Физические свойства кристаллов и методвы их определения Электрические свойства тел. Основные свойства металлов. Электропроводность.
- •Температурная зависимость электропроводности
- •Влияние примесей и дефектов
- •Сверхпроводимость
- •Электропроводность металлов
- •Электрон в кристалле всегда подчиняется функции Блоха
- •Собственная проводимость полупроводников.
- •Концентрация носителей
- •Равновесная концентрация дырок в валентной зоне
- •Концентрация дырок, с учетом всех выкладок, будет равна
- •Подвижность в собственном полупроводнике
- •Проводимость примесных полупроводников
- •Концентрация носителей
- •Подвижность
- •Электропроводность диэлектриков.
4.Дефекты кристаллической решетки. Точечные дефекты (дефекты I рода).
Согласно представлению о дальнем порядке, вытекающему из теории симметрии и характеризующему идеальный кристалл во всех трех направлениях трехмерной трансляционной группы простирается бесконечная совокупность идентичных точек, находящихся на расстояниях, измеряемых периодами идентичности. Но в реальном кристалле наблюдаются нарушения этой идеальной картины, называемые в литературе дефектами, несовершенствами или просто нарушениями.
Различают два вида дефектов кристалла: точечные (I рода) распространяющиеся на один – два структурных узла или междоузлия в элементарной ячейке и протяженные (дефекты II рода) – дислокации, трещины, микрокаверны. Особо следует рассматривать поверхностные дефекты. Точечные дефекты многообразны и могут сосуществовать одновременно в различных соотношениях, в зависимости от термодинамических и кинетических условий синтеза. Поэтому, при одном и том же химическом составе свойства полупроводников, весьма чувствительные к концентрации и типу дефектов, могут весьма значительно измениться. Причины возникновения дефектов различны. В отсутствие примесей при данном собственном составе кристалла и температуре абсолютного нуля статистическая термодинамика допускает существование бездефектного кристалла.
Температурные дефекты.
С повышением температуры возможны 4 механизма появления дефектов в бездефектном кристалле.
Структуры разрыхления. Дефекты по Шотки.
Атомы простого вещества испаряются с поверхности и на их места переходят атомы нижележащего слоя, оставляя после себя незанятый узел – вакансию. В вакансии переходят атомы следующего слоя и т.д. Так вакансии переходят вглубь кристалла. С понижением температуры имеет место обратный процесс – атомы из пара возвращаются в кристалл по вакансиям.
Структуры разрыхления могут образовываться и соединениями, если одновременно с одинаковой скоростью испаряются атомы компонентов, то в этом случае возникают дублетные вакансии, по одной в каждой подрешетке на каждую молекулу.
Структуры смещения. Дефекты по Френкелю.
При более высоких температурах атомы смещаются из узлов в междоузлия, оставляя после себя вакансии, т.е. образуется сразу два сорта дефектов. Вакансия обозначается [],междоузлие – () атом в междоузлие (А).
Структуры взаимозамещения. Структуры по Ландау.
Ландау оперировал примером сплава CuZn со структурным типом CsCl. Атомы меди занимают одну подрешетку, атомы цинка - другую. С повышением температуры, этот порядок идеальной решетки нарушается попаданием меди в решетку цинка, а цинка в решетку меди. В этом случае образуется структура взаимозамещения.
Структуры вычитания. Образуются в случае выделения с различной скоростью атомов разного сорта. Концентрация вакансий в этом случае становится неравной, происходит диссоциация, и в этом случае незначительное изменение стехиометрических коэффициентов изменяет некоторые электрофизические характеристики.
Несоответствие формулы соединения структуре кристалла.
Могут существовать соединения которым легче быть бездефектными, и соответственно с вынужденным образованием дефектной структуры.
Соединения структур типа AB, в которых = представлены NaCl, CsCl.
Если рассматривать соединение -Ag2HgI4, то в нем на 4 атома неметалла приходится 3 атома металла. Кристаллизуясь в структуре сфалерита, он заполняет все 4 узла элементарной ячейки, в то время как три атома металла статистически равномерно распределяются по 4 позициям, образуя структуры деления. Структура деления не имеет диссоциации.
Примесные дефекты.
Бывают двух типов:
Структуры замещения (твердые растворы I - рода) – атомы примеси занимают позиции в узлах решетки вместо атомов основного состава:
Структуры внедрения (твердые растворы II рода) – атомы примесей занимают позициии в междоузлиях