- •1. Системы физическиз единиц сгс и си
- •2. Магнитное поле (суть явления, основные характеристики и способы генерации)
- •3. Формы записи и физический смысл законов Лоренца и Ампера
- •4.Формы записи и физический смысл законов Био-Савара-Лапласса, Гаусса
- •5. Закон электромагнитной индукции
- •6. Уравнения Максвелла. Интегральная и дифференциальная форма записей; физический смысл; система материальных уравнений Максвелла
- •7. Движение заряженных частиц в магнитном поле
- •8. Атомный магнетизм с точки зрения моделей атомов Резерфорда и Бора
- •9. Понятие «спина». Основные квантовые числа
- •10. Природа атомного магнетизма
- •11. Диамагнетизм
- •12. Парамагнетизм (природа происхождения)
- •13. Законы Кюри и Кюри-Вейсса
- •14. Ферромагнетизм
- •15. Свойства ферромагнетиков
- •16. Петли гистерезиса( классификация, основные характеристики)
- •17. Свойства магнитных материалов, используемых в цепях переменного тока
- •18. Антиферромагнетизм
- •19. Ферримагнетизм
- •20. Спиновые стекла; сперромагнетизм; асперромагнетизм; гелимагнетизм; сперимагнетизм; миктомагнетизм
- •21. Магнитотвёрдые материалы
- •22. Магнитомягкие материалы
- •23. Магнитострикционные материалы
- •24. Магнитооптические материалы
- •25. Термомагнитные материалы. Эффект Риги-Ледюка
- •26. Магнитные материалы с ппг
- •27. Эффект Холла
- •28. Эффект Гаусса
- •29. Физический и геометрический эффекты магнитосопротивления
- •30. Магниторезисторы ( определение, основные характеристики и способы реализации)
- •31. Диск Корбино ( определение, основные характеристики)
- •32. Вольтова чувствительность магниторезисторов
- •33. Шумы магниторезисторов
- •34. Тонкие магнитные пленки; магнитные эффекты в тонких магнитных пленках
- •35. Гигантский магниторезистивный эффект
- •36. Спин-зависимое туннелирование
- •37. Анизотропный магниторезистивный эффект
- •38. Мостовые схемы включения первичных магниторезистивных измерительных преобразователей
- •39. Структура магниторезистивного датчика. Утилитарные устройства магниторезистивных преобразователей и их основные параметры
- •40. Методика управления магниторезистивным преобразователем на основе амр-эффекта
- •41. Магнитное экранирование витка с током при частоте равной нулю
- •42. Зависимость экранирования витка с током от частоты
- •43. Эффективность экранирования элементарного магнитного диполя шаровым экраном
- •44.Расчет эффективности магнитного экранирования замкнутого излучателя реальным экраном
37. Анизотропный магниторезистивный эффект
Широко известно, что структура и магнитные свойства тонких анизотропных слоев ферромагнетика (cм. рис. 5.1) могут существенно отличаться от свойств относительно толстых слоев и массивных материалов.
В качестве физического подтверждения вышеуказанного явления, можно привести тот факт, что сопротивление тонкой ферромагнитной пленки, измеренное вдоль оси ее преимущественной намагниченности R||, оказывается несколько выше сопротивления пленки, измеренного вдоль оси, перпендикулярной вектору преимущественной намагниченности R┴ (5.5).
Известно, что причиной этого служит спин-орбитальное взаимодействие электронов, т.е. взаимодействие частиц, зависящее от величин и взаимной ориентации их орбитального и спинового моментов количества движения, приводящее таким образом к так называемому тонкому спин-зависимому рассеянию электронов, при этом коэффициент рассеяния для спинов сонаправленных и противонаправленных по отношению к намагниченности образца будет различный.
R|| > R┴; ΔR = (R|| - R┴) > 0. (5.5)
Тот факт, что элементы R|| и R┴ не равны, означает, что сопротивление зависит от взаимной ориентации тока и намагниченности. Разница сопротивлений ΔR = R||-R┴ называется анизотропным магнитосопротивлением.
Естественно, следует учитывать, что при температуре выше точки Кюри анизотропный магниторезистивный эффект исчезает.
Сопротивление тонкопленочного образца, в виде прямоугольного параллепипеда в намагниченном состоянии, при условии отсутствия внешнего магнитного поля определяется согласно выражению (5.6) [21], [22].
(5.6)
где β – угол между током i и намагниченностью J.
В объемном материале, если намагниченность доменов ориентирована случайным образом и при отсутствии внешнего магнитного поля (т.е. случай полностью размагниченного образца), величина cos2(β) в выражении (5.6) равна 1/3, то, следовательно, сопротивление АМР-элемента определится как [21]:
Таким образом, при насыщении в продольном поле (cos2(β)=1), анизотропное магнитосопротивление достигает величины, определяемой выражением:
а при насыщении в поперечном поле (cos2(β)=0) – величины, определяемой выражением:
Относительное изменение сопротивления АМР-элемента определится согласно выражению (5.7).
(5.7)
где RJ=0 – сопротивление магнитной пленки при отсутствии направления преимущественной намагниченности.
Обычно для базовой конструкции АМР-элемента относительное изменение сопротивления не большое, и составляет порядка 4.2 % для сплава (82 % Fe, 18 % Ni), и ~3 % для сплава (81 % Fe и 18 % Ni).
Говоря о процессе намагничивания тонких магнитных пленок, стоит отметить, что он протекает различно в зависимости от их строения и скорости нарастания внешнего поля. В относительно слабых полях перемагничивание происходит преимущественно за счет смещения границ плоских доменов, в более сильных – в результате некогерентного (неоднородного, т. е. как по, так и против часовой стрелки) вращения вектора намагниченности отдельных плоских доменов пленки, вследствие дисперсии (отклонения от преимущественного) направления осей легкого намагничивания этих доменов. В однородной пленке перемагничивание протекает путем когерентного (однородного) вращения вектора намагниченности всей пленки, представляющей единый плоский домен.
Таким образом, магнитное состояние образца будет определяться как внешним приложенным к образцу полем H, так и внутренним полем молекулярных токов, которое характеризуется намагниченностью J – напряженностью, создаваемой микротоками электронных оболочек вещества:
B = μ0(H+J).
В общем случае векторы H и J не совпадают по направлению в пространстве. В тонкопленочном элементе их можно считать произвольно ориентированными относительно осей легкого и трудного намагничивания, но расположенными всегда в плоскости пленки.
Рис. 5.6. Структуры АМР-элементов и их тесла-омные характеристики
Приложенное внешнее магнитное поле H поворачивает вектор намагниченности пленки J на угол β. Значение β зависит от направления и величины внешнего поля. При этом сопротивление пермаллоевой пленки можно оценить согласно выражению (5.8) при условии, что H < <H0 [21], [23].
(5.8)
где RВ=0 – сопротивление пермаллоевой пленки вне действия магнитного поля; ΔR – максимально возможное изменение сопротивления; H – измеряемое поле; H0 – подмагничевающее поле; sin (β)=Н/H0.
Из выражения (5.8) легко заметить, что сопротивление АМР-элемента квадратично зависит от слагаемого (H/H0) при H0=const. Такая квадратичная зависимость отдаляет выходную характеристику сенсора от желаемого линейного вида. В значительной мере лианеризовать выходную характеристику АМР-датчика возможно, путем задания так называемой «зазубренной» или barber-pole-структуры, схематически представленной на рис. 5.6, б [22]. В этом случае сопротивление датчика будет определяться соотношением (5.9). Тесла-омные характеристики для базового АМР-элемента и для его «зазубренной» модификации представлены на рис. 5.6, в, г соответственно.
(5.9)
где угол 45° соответствует углу наклона пермаллоевых и немагнитных полосок относительно ориентации АМР-элемента в пространстве (рис. 5.6, б).
Учитывая, что
можем записать:
(5.10)
Знак «±» в выражении (5.10) соответствует одной из возможных ориентаций немагнитных перемычек, т.е. их наклон либо слева направо, либо справа налево (рис. 5.6, в).
В случае, когда H<<H0 выражение (5.10) допустимо переписать в виде:
(5.11)
Очевидно, что функциональная зависимость (5.10) имеет более предпочтительный квазилинейный характер (рис. 5.6, г), по сравнению с выражением (5.8), (рис. 5.6, в).
На более высоком схемотехническом уровне, АМР-сенсоры представляют собой четыре эквивалентных «зазубренных» магниторезистора, сформированных путем осаждения тонкого слоя пермаллоя на кремниевую пластину в форме квадрата соединенных по схеме, представляющей из себя плечи измерительного моста Уитстона (рис. 5.7, a). В случае полностью дифференциальной мостовой схемы соединения АМР-элементов, напряжение, снимаемое с измерительной диагонали моста, будет определяться в соответствии с выражением (5.12).
(5.12)
где U0 – напряжение питания моста.
Рис. 5.7. Мостовая схема соединения АМР элементов и его тесла-вольтная характеристика
Допуская, что все АМР-элементы входящие в состав измерительного моста физически эквиваленты между собой, то выражение (5.12), учитывая выражение (5.10) и (5.11) можно переписать в следующем виде:
(5.13)
Из выражения (5.13) очевидно, что напряжение на выходе АМР-датчика, построенного в соответствии со структурой, приведенной на рис. 5.7, квазилинейно по своей природе и прямопропорционально зависит от напряжения питания моста и чувствительно к знаку поля (рис. 5.7, б).
