
- •1. Системы физическиз единиц сгс и си
- •2. Магнитное поле (суть явления, основные характеристики и способы генерации)
- •3. Формы записи и физический смысл законов Лоренца и Ампера
- •4.Формы записи и физический смысл законов Био-Савара-Лапласса, Гаусса
- •5. Закон электромагнитной индукции
- •6. Уравнения Максвелла. Интегральная и дифференциальная форма записей; физический смысл; система материальных уравнений Максвелла
- •7. Движение заряженных частиц в магнитном поле
- •8. Атомный магнетизм с точки зрения моделей атомов Резерфорда и Бора
- •9. Понятие «спина». Основные квантовые числа
- •10. Природа атомного магнетизма
- •11. Диамагнетизм
- •12. Парамагнетизм (природа происхождения)
- •13. Законы Кюри и Кюри-Вейсса
- •14. Ферромагнетизм
- •15. Свойства ферромагнетиков
- •16. Петли гистерезиса( классификация, основные характеристики)
- •17. Свойства магнитных материалов, используемых в цепях переменного тока
- •18. Антиферромагнетизм
- •19. Ферримагнетизм
- •20. Спиновые стекла; сперромагнетизм; асперромагнетизм; гелимагнетизм; сперимагнетизм; миктомагнетизм
- •21. Магнитотвёрдые материалы
- •22. Магнитомягкие материалы
- •23. Магнитострикционные материалы
- •24. Магнитооптические материалы
- •25. Термомагнитные материалы. Эффект Риги-Ледюка
- •26. Магнитные материалы с ппг
- •27. Эффект Холла
- •28. Эффект Гаусса
- •29. Физический и геометрический эффекты магнитосопротивления
- •30. Магниторезисторы ( определение, основные характеристики и способы реализации)
- •31. Диск Корбино ( определение, основные характеристики)
- •32. Вольтова чувствительность магниторезисторов
- •33. Шумы магниторезисторов
- •34. Тонкие магнитные пленки; магнитные эффекты в тонких магнитных пленках
- •35. Гигантский магниторезистивный эффект
- •36. Спин-зависимое туннелирование
- •37. Анизотропный магниторезистивный эффект
- •38. Мостовые схемы включения первичных магниторезистивных измерительных преобразователей
- •39. Структура магниторезистивного датчика. Утилитарные устройства магниторезистивных преобразователей и их основные параметры
- •40. Методика управления магниторезистивным преобразователем на основе амр-эффекта
- •41. Магнитное экранирование витка с током при частоте равной нулю
- •42. Зависимость экранирования витка с током от частоты
- •43. Эффективность экранирования элементарного магнитного диполя шаровым экраном
- •44.Расчет эффективности магнитного экранирования замкнутого излучателя реальным экраном
27. Эффект Холла
Эффект Холла – явление возникновения поперечной разности потенциалов при помещении металла (полупроводника), вдоль которого течет постоянный электрический ток, в поперечное току магнитное поле.
В случае проводника (полупроводника), помещенного в магнитное поле, как показано на рис. 4.1, составляющие электрического поля и напряжения будут определяться в соответствии с системой (4.1) и (4.2) соответственно.
(4.1)
где Ex, Ey, Ez – электрическое поле вдоль осей X, Y, Z соответственно; tan (θn)=-μnBz; μn – подвижность носителей заряда; Bz – индукция внешнего магнитного поля, направленного вдоль оси Z; θn – угол Холла; ρn – удельное сопротивление материала; ix = Ix/(bc); b и c – ширина и толщина материала соответственно; Ix – ток, протекающий в образце вдоль оси X.
Рис. 4.1. Эффект Холла в полупроводниковой (металлической) пластине
(4.2)
где Rx – сопротивление полупроводника вдоль оси X; RH – постоянная Холла.
Напряжение Ux складывается из омического падения напряжения на пластине и напряжения, возникающего в результате так называемого продольного эффекта Холла, причем, это последнее слагаемое, обычно мало по сравнению со слогаемым IxRx.
Если рассматривать случай, когда угол между I и B не является прямым, составляющая Uz ≠ 0 (планарный эффект Холла):
(4.3)
где ψ – угол между I и B.
Постоянная Холла в выражениях (4.2) и (4.3) определяется по формуле (4.4), где в случае металлов или вырожденного полупроводника A=1. При определении RH полупроводникa p- или n-типа следует также учитывать влияние рассеяния носителей тока. В этом случае коэффициент A будет зависеть от механизма рассеяния носителей тока в монокристаллической решетке: в случаях рассеяния на тепловых колебаниях решетки A=3π/8; в случае рассеяния на ионизированных примесях A=1.93.
(4.4)
где q – заряд носителей тока, n – концентрация носителей заряда.
Выражение (4.4) справедливо лишь для проводников с единственным типом носителей тока (только электроны или только дырки). В случае проводника со смешанным типом проводимости (полупроводник i-типа), то есть когда подвижность электронов и дырок сопоставимы между собой, выражение для коэффициента Холла принимает вид:
(4.5)
где μn, μp – подвижность электронов и дырок соответственно; n и p – концентрация электронов и дырок соответственно.
Касательно понятия подвижности носителей заряда, здесь следует пояснить, что движение свободных носителей заряда в кристалле полупроводника рассматривается как движение в вакууме свободных электронов, обладающих эффективной массой m*. При создании вдоль проводящего тела электрического поля Е, все электроны передвигаются вдоль силовых линий этого поля с некоторой средней скоростью vср. Отношение этой скорости к напряженности электрического поля в веществе называется подвижностью носителей тока или заряда:
где
E
– напряженность электрического поля;
– среднее время свободного пробега
носителей тока.