
- •Раздел 1. Строение кристалла в геометрии кристаллической решётки.
- •§1.1.Классификация состояний твёрдого тела.
- •1.Кристаллические
- •§ 1.2. Кристаллическая решётка. Её свойства.
- •Б) кристаллическая структура (физическая реальность)
- •Вектор трансляции
- •§1.3.1. Элементарная ячейка.
- •2) Сложная ячейка
- •§1.3.2.Наиболее распространённые типы кристаллических структур.
- •§1.4. Симметрия кристалла.
- •§1.4.1.Виды симметрии.
- •§1.4.2. Элементы симметрии.
- •§1.5. Точечные и пространственные группы.
- •§1.6.Решётки Бравэ.
- •§1.7.Решётка Вигнера-Зейца.
- •§1.8. Задание узлов направлениями плоскостей в кристалле. Индексы Миллера.
- •Направления задаются двумя точками, но так как одна из них находится в начале
- •§1.9. Обратная решётка.
- •§1.10.Зона Бриллюэна.
- •§1.11. Определение атомной структуры кристалла.
- •§1.11.1.Особенности использования рентгеновского излучения для анализа кристаллической структуры.
- •§1.11.2.Особенности электронного излучения.
- •§1.11.3. Нейтронография.
- •§1.12.Основы геометрической теории дифракции.
- •Раздел II. Основные типы связи в твердых телах.
- •§2.1 Классификация твердых тел. Тип связи.
- •§2.2 Энергия связи.
- •§2.3 Молекулярные кристаллы.
- •§2.3.1 Происхождение сил Ван-дер-Ваальса.
- •§2.4 Ионные кристаллы.
- •§2.4.1 Механизм образования ионной связи в кристаллах.
- •§2.5. Ковалентные кристаллы.
- •§2.5.1 Механизм образования ковалентной связи.
- •§2.6 Металлы.
- •§2.6.1 Механизм образования металлической связи.
- •§2.7 Водородная связь.
- •§2.8 Сопоставление различных видов связи.
- •Раздел III. Дефекты в твердом теле.
- •§3.1. Классификация дефектов.
- •В зависимости от типа исследований различают статические и динамические дефекты.
- •По происхождению дефекта различают дефекты, возникающие в процессе роста и обработки кристалла, под влиянием радиации.
- •§3.2. Равновесная концентрация дефектов по Шоттки.
- •§3.3. Равновесная концентрация дефектов по Френкелю.
- •§3.4. Влияние колебательной энтропии на концентрацию дефектов.
- •§3.5. Вакансионные комплексы.
- •§3.6. Неравновесные дефекты.
- •§3.7. Миграция дефектов.
- •Раздел IV: динамика кристаллической решетки
- •§ 4.1. Гармоническое и адиабатическое приближение. Нормальные колебания.
- •§ 4.2. Колебания однородной струны.
- •§ 4.3. Колебания цепочки с одноатомным базисом.
- •§ 4.4. Колебания линейной цепочки с двухатомным базисом.
- •§ 4.5. Колебания в трёхмерной решетке.
- •§ 4.6. Энергия нормальных колебаний. Понятие о фононах.
- •§ 4.7. Тепловые свойства твердых тел.
- •Теплоемкость.
- •Тепловое расширение.
- •Основные выводы по разделу IV.
- •Раздел V: основы электронной теории.
- •§ 5.1. Классификация твердых тел по электропроводности.
- •§ 5.2. Уравнение Шредингера для кристалла.
- •§ 5.3. Свойства волнового вектора электронов в кристалле
- •1. Свободный электрон.
- •2. Электрон в кристалле.
- •§ 5.4. Закон дисперсии для электронов в кристалле.
- •§ 5.5. Заполнение энергетических зон электронами.
- •§ 5.6. Динамические свойства электрона в кристалле.
- •§ 5.7. Приближение эффективной массы.
- •1. Центр зоны Бриллюэна (энергетическое дно):
- •2. Область вблизи точки а:
- •3. Область вблизи границ зоны Бриллюэна (верх энергетической зоны):
- •§ 5.8. Распределение электронных состояний внутри энергетической зоны.
- •§ 5.9. Распределение электронов по энергиям. Энергия Ферми.
- •§ 5.10. Экспериментальные методы исследования электронной структуры кристалла.
§ 4.7. Тепловые свойства твердых тел.
Теплоемкость.
Молярная
теплоемкость – это энергия
необходимая для повышения температуры
одного моля вещества на 1 Кельвин: CV=
При
достаточно высоких температурах
теплоемкость всех тел стремится к
постоянной величине CV=25
(Закон Дюлонга - Пти).
При
достаточно высоких температурах
или
,
где R – газовая
постоянная (Рис.4.17.).
Заметим, что при высоких температурах электронная подсистема практически не влияет на теплоемкость, т.к. kT>> ћD. П ри температурах, значительно меньших, чем температура Дебая, электроны могут вносить вклад в теплоемкость. При критическом значении температуры ТС атомы решетки и электроны вносят соизмеримый вклад в теплоемкость (Рис.4.18.)
Для
конкретного кристалла критическая
температура:
,
где D
– температура Дебая. При Т<<D
плотность акустических фононов
гораздо больше, чем оптических.
Тепловое расширение.
Для правильного описания теплового расширения необходимо учитывать эффекты ангармоничности. Т.к. кривая зависимости U(x) несимметрична (рис 4.19.), то тепловое расширение описывается не только в рамках гармонического приближения, т.е.:
,
где (4.34.)
g – коэффициент ангармоничности, определяющий искажение потенциальной кривой U(x) и связанный с коэффициентом линейного термического расширения соотношением:
,
где (4.35.)
х0 – параметр решетки в данном направлении, зависящий от сил связи и от симметрии решетки,
k – постоянная Больцмана.
Из формулы (4.35.) видно, что т.к. является постоянной для данного кристалла, то g – тоже фундаментальная константа этого кристалла. Таким образом, коэффициент ангармоничности учитывает взаимодействие между независимыми осцилляторами.
Теплопроводность.
Запишем закон Фурье для случая изотропной среды:
,
где (4.36.)
q – плотность потока тепловой энергии,
К – коэффициент теплопроводности,
Т – температура,
n – некоторое выбранное направление.
В общем случае К складывается из коэффициентов теплопроводности атомов решетки и электронов: К=Креш + Кэл
Причем в металлах теплопроводность определяется в основном наличием электронов (Кэл>>Kреш), а в диэлектриках преобладает фононная теплопроводность (Кэл0):
,
где
CV – теплоемкость,
зв – скорость звука,
ф – длина свободного пробега, т.е. расстояние, которое фонон проходит до столкновения с другим фононом.
С
длиной свободного пробега связано
понятие времени релаксации. Время
релаксации –
это время, которое фонон «проживает»
до столкновения:
Длина свободного пробега ф зависит от температуры.
Рассмотрим случаи:
1)
если T>>D,
то CV=const,
,
,
Креш
.
В данном случае вероятность наступления
U-процессов велика,
поскольку теплопроводность уменьшается
с ростом температуры.
2)
если T<D
(незначительно), то
,
Креш
,
а вероятность протекания U-процессов
близка к нулю.
3)
если T0
(вблизи абсолютного нуля), то
L=const,
где L – макроскопический
размер кристалла;
Т3.
В данном случае фононы рассматриваются
на границах (поверхностях) кристалла,
вероятность протекания U-процессов
очень мала.
Суммарная зависимость коэффициента теплопроводности от температуры показана на Рис.4.20.
Поскольку максимум кривой смещается при уменьшении размеров частиц, меняется целый комплекс свойств кристалла в наноструктурном состоянии