- •Равновесное состояние p—n-перехода2
- •Напряженность электрического поля и распределение потенциалов в резком p-n переходе5
- •Ширина области объёмного заряда резкого p-nперехода6
- •Особенности плавных p-n переходов
- •Прямое смещение р—n-перехода7
- •Случай тонкой базы19
- •Зависимость вольт-амперной характеристики от материала р- и n-областей и температуры27
- •Особенности вольт-амперной характеристики реальных р—n-переходов32
- •Пробой р—n- перехода39
- •Поверхностный пробой56
- •Частотные и импульсные характеристики р—n- переходов57
Зависимость вольт-амперной характеристики от материала р- и n-областей и температуры27
При прямом смещении р—n- перехода часто удобнее считать независимой переменной не U, а I, представляя (2.18) в виде
. (2.20)
Величина прямого тока I конкретного перехода в конечном счете определяется высотой потенциального барьера . Поэтому при заданном прямом токе I величину можно также считать заданной и, как тогда следует из уравнения(2.5), величина прямого напряжения Uбудет определяться величиной .
Максимальная величина
прямого напряжения Uне
может превышать величины контактной
разности потенциалов
,
так как при
потенциальный
барьер между р- и n-областями
исчезает (рис. 2.3, б) и прямой ток
через р—n-переход
ограничивается только низкоомными
сопротивлениями объемов р- и
n-областей. Величина
прямого тока при этом может намного
превышать предельно допустимый ток
перехода. Поэтому реальные переходы
в таком режиме обычно не работают.28
Обратный ток перехода
,
как следует из уравнения (2.19), определяется
концентрацией неосновных носителей
и
.
Используя закон действующих масс,
эти концентрации можно связать со
степенью легирования р- иn-
областей. Согласно этому закону, имеем
;
;
(2.21)
Тогда
(2.22)
Из этих уравнений
следует, что и обратный ток
,
и прямое напряжение Uзависят
от степени легирования р- и n-областей.
Согласно (2.22), с повышением степени
легирования
уменьшается, что при прочих равных
условиях ведет кувеличению прямого
напряжения U(2.20). Такая
зависимость получается вследствие
того, что при увеличении степени
легирования концентрация основных
носителей повышается, а концентрация
неосновных носителей, которая определяет
обратный ток
,
падает. С повышением степени легирования
высота потенциального барьера
возрастает, стремясь в пределе к величине
(2.1). Следовательно, при одном итом же
прямом токе падение напряжения на
р—п-переходе с более легированными
р- и nобластями
будетбольше29.
При одинаковой степени легирования и равных площадях кремниевые р—n-переходы имеют гораздо меньшую величину и большее прямое напряжение U, чем германиевые. Это связано с разницей величины этих полупроводников, которая определяет как концентрацию неосновных носителей (2.21), так и высоту потенциального барьера (2.1).30
Температурная
зависимость как прямой, так и обратной
ветви вольт-амперной характеристики
обусловлена увеличением ионизации
атомов собственно полупроводника с
ростом температуры. Так как при этом
носители генерируются парами
электрон—дырка, то концентрация основных
и неосновных носителей увеличивается
на одну и ту же величину. Но так как
концентрация основных носителей на
несколько порядков превосходит
концентрацию неосновных, то в области
естественных температур заметно
изменение лишь концентрации неосновных
носителей, а относительное изменение
концентрации основных носителей
мало. Увеличение концентрации неосновных
носителей приводит к росту обратного
тока р—n- перехода
и уменьшению величины контактной
разности потенциалов
(2.2),
а следовательно, и прямого напряжения
Uна р—n-переходе.
Так как
,
то, как следуетиз(2.22), с ростом
температуры
увеличивается примернопо экспоненциальному
закону, а прямое напряжение, как следует
из (2.1), уменьшается по линейному
закону31.
Изменение вольтамперной характеристики
с температурой показано на рис. 2.10.
Рис. 2.10 Статическая ВАХр—п- перехода при различных температурах.
