- •Равновесное состояние p—n-перехода2
- •Напряженность электрического поля и распределение потенциалов в резком p-n переходе5
- •Ширина области объёмного заряда резкого p-nперехода6
- •Особенности плавных p-n переходов
- •Прямое смещение р—n-перехода7
- •Случай тонкой базы19
- •Зависимость вольт-амперной характеристики от материала р- и n-областей и температуры27
- •Особенности вольт-амперной характеристики реальных р—n-переходов32
- •Пробой р—n- перехода39
- •Поверхностный пробой56
- •Частотные и импульсные характеристики р—n- переходов57
Зависимость вольт-амперной характеристики от материала р- и n-областей и температуры27
При прямом смещении р—n- перехода часто удобнее считать независимой переменной не U, а I, представляя (2.18) в виде
. (2.20)
Величина прямого тока I конкретного перехода в конечном счете определяется высотой потенциального барьера . Поэтому при заданном прямом токе I величину можно также считать заданной и, как тогда следует из уравнения(2.5), величина прямого напряжения Uбудет определяться величиной .
Максимальная величина прямого напряжения Uне может превышать величины контактной разности потенциалов , так как при потенциальный барьер между р- и n-областями исчезает (рис. 2.3, б) и прямой ток через р—n-переход ограничивается только низкоомными сопротивлениями объемов р- и n-областей. Величина прямого тока при этом может намного превышать предельно допустимый ток перехода. Поэтому реальные переходы в таком режиме обычно не работают.28
Обратный ток перехода , как следует из уравнения (2.19), определяется концентрацией неосновных носителей и . Используя закон действующих масс, эти концентрации можно связать со степенью легирования р- иn- областей. Согласно этому закону, имеем
; ; (2.21)
Тогда (2.22)
Из этих уравнений следует, что и обратный ток , и прямое напряжение Uзависят от степени легирования р- и n-областей. Согласно (2.22), с повышением степени легирования уменьшается, что при прочих равных условиях ведет кувеличению прямого напряжения U(2.20). Такая зависимость получается вследствие того, что при увеличении степени легирования концентрация основных носителей повышается, а концентрация неосновных носителей, которая определяет обратный ток , падает. С повышением степени легирования высота потенциального барьера возрастает, стремясь в пределе к величине (2.1). Следовательно, при одном итом же прямом токе падение напряжения на р—п-переходе с более легированными р- и nобластями будетбольше29.
При одинаковой степени легирования и равных площадях кремниевые р—n-переходы имеют гораздо меньшую величину и большее прямое напряжение U, чем германиевые. Это связано с разницей величины этих полупроводников, которая определяет как концентрацию неосновных носителей (2.21), так и высоту потенциального барьера (2.1).30
Температурная зависимость как прямой, так и обратной ветви вольт-амперной характеристики обусловлена увеличением ионизации атомов собственно полупроводника с ростом температуры. Так как при этом носители генерируются парами электрон—дырка, то концентрация основных и неосновных носителей увеличивается на одну и ту же величину. Но так как концентрация основных носителей на несколько порядков превосходит концентрацию неосновных, то в области естественных температур заметно изменение лишь концентрации неосновных носителей, а относительное изменение концентрации основных носителей мало. Увеличение концентрации неосновных носителей приводит к росту обратного тока р—n- перехода и уменьшению величины контактной разности потенциалов (2.2), а следовательно, и прямого напряжения Uна р—n-переходе. Так как , то, как следуетиз(2.22), с ростом температуры увеличивается примернопо экспоненциальному закону, а прямое напряжение, как следует из (2.1), уменьшается по линейному закону31. Изменение вольтамперной характеристики с температурой показано на рис. 2.10.
Рис. 2.10 Статическая ВАХр—п- перехода при различных температурах.