- •Равновесное состояние p—n-перехода2
- •Напряженность электрического поля и распределение потенциалов в резком p-n переходе5
- •Ширина области объёмного заряда резкого p-nперехода6
- •Особенности плавных p-n переходов
- •Прямое смещение р—n-перехода7
- •Случай тонкой базы19
- •Зависимость вольт-амперной характеристики от материала р- и n-областей и температуры27
- •Особенности вольт-амперной характеристики реальных р—n-переходов32
- •Пробой р—n- перехода39
- •Поверхностный пробой56
- •Частотные и импульсные характеристики р—n- переходов57
Напряженность электрического поля и распределение потенциалов в резком p-n переходе5
Резкий p-n
переход – такой переход, у которого на
границе раздела pи nобластей
.
Так как концентрация примеси в p-n
переходе меняется лишь по одному
направлению, то внутреннее электрическое
поле внутри p-n
перехода также меняется лишь по одной
координате и отсутствует в других
направлениях, то есть при анализе можно
ограничиться одномерным случаем. (см.
рис.)
Так как объёмные
заряды в p-n
переходе образуются за счёт диффузионного
разделения зарядов ранее скомпенсированных,
то в целом p-n
переход как изолированная система
остаётся электронейтральным. Поэтому
заряд отрицательных ионов, нескомпенсированных
в p-области, равен заряду
положительных ионов нескомпенсированных
доноров в n-области, то
есть
.
Для резкого p-nперехода
заряд
,
Величина электрического поля, создаваемого этими зарядами определяется из уравнения Пуассона:
Рис. Напряженность электрического поля и распределение потенциалов в резком p-nпереходе
.
При
- нескомпенсированных зарядов нет, тогда
,
.
Отсюда
при
.
Аналогично можно
получить
при
.
«-» показывает, что при выбранном
направлении координаты «x»
вектор напряжённости
направлен навстречу «x».
E – максимально на границе раздела p-n областей.
Постоянные интегрирования
и
определяются следующими условиями. Для
того, чтобы электрон перешёл из n-области
в p-область, ему надо
преодолеть силы электрического поля.
Поэтому если потенциал рассчитывается
для отрицательных частиц (электронов),
то потенциал p- области
будет выше потенциала n-области
на величину
.
Потенциал изменяется только там, где
имеются силы электрического поля.
Следовательно, изменение потенциала
наблюдается только в области объёмного
заряда, а в глубине p-и
n-областей потенциал
постоянен. В полупроводниковой технике
потенциал n-области обычно
считается нулевым.
При
:
,
.
При
:
,
.
при
.
при
.
То есть в пределах
p-nперехода
потенциал меняется по квадратичному
закону с точкой перегиба
.
В глубине p- и n-
областей потенциал постоянен.
Ширина области объёмного заряда резкого p-nперехода6
Из непрерывности
электрического поля на границе p-n
перехода получаем:
,
,
тогда
.
Полную ширину области объёмного заряда
обозначим через
.
.
,
отсюда
.
Аналогично
.
Из условия непрерывности потенциала на границе p-n областей:
.
.
То есть ширина области объёмного заряда (часто её называют шириной обеднённой области p-nперехода, шириной запорного слоя p-n перехода, или просто шириной p-n перехода) определяется степенью легирования p-n областей.
Причём, чем больше степень легирования, тем уже область объёмного заряда. С уменьшением степени легирования, область объёмного заряда увеличивается. Связано это с тем, что область объёмного заряда создаётся неподвижныминескомпенсированными ионами примеси. Поэтому, чем больше степень легирования, тем меньше расстояние между ионами примеси, а большая плотность ионов определяет меньший объём, занимаемый зарядом Q, а, следовательно, и меньшее .
Обеднённая зона – мало подвижных носителей. Запорный слой – поле против движения основных носителей.
Так как объёмные
заряды в p- и n-
областях равны, то в случае несимметричного
p-n перехода,
то есть с резким отличием концентраций
носителей, а значит
и
,
равные заряды
и
будут занимать разные объёмы.
Например,
,
тогда
.
Рис. Ширина несимметричного p-nперехода
То есть в несимметричном p-n переходе ширина области объёмного заряда в основном определяется шириной высокоомной области. в зависимости от степени легирования может быть от сотых долей до десятков мкм. В современных полупроводниковых приборах и схемах обычно сравнима с толщиной p- и n- областей.
