6. Каков механизм физического обезжиривания?

Энергетическая диаграмма для физически адсорбированных молекул загрязнения 1 на поверхности тела (а) и то же (б) при наличии молекул растворителя 2, уменьшающих глубину потенциальной ямы для молекул загрязнения на величину ΔUф

7. Какова роль поверхностно-активных веществ в процессе очистки?

С целью улучшения смачивания и повышения эффективности очистки в моющую жидкость (воду) нередко добавляют поверхностно активные вещества (ПАВ), относящиеся к классу высокомолекулярных органических соединений (соли высших жирных кислот и спиртов типа мыла)

8. В чем состоит механизм ультразвуковой очистки?

Для интенсификации пpoцессов очистки и промывки, в дистиллированной и деионизованной воде, используют ультразвук. При ультразвуковой отмывке поверхности в растворителе под действием акустических волн создаются переменные сжимающие и растягиющие напряжения. При растягивающих напряжениях в жидкости образуются кавитационные пузырьки, т.е. полости в которых возникает некоторое разряжение.

9. Какова сущность процесса химического травления?

????химическое удаление загрязнителя вместе с частью подложки

При химическом травлении решаются различные технологические задачи: очистка от загрязнений с растворением и удалением поверхностного споя полупроводниковой подложки, контролируемое удале- ние материала с целью локальною профилирования поверхности, селективное травление с целью выявления неоднородностей структуры и дефектов кристалла.

Для травления кремния используют два вида травителей – кислотный(смеси азотной и плавиковой кислот) и щелочной.

10. Что такое селективность травления?

Селективность травления проявляется в преимущественном вытравливании дефектных мест на поверхности в форме ямок травления (например, в районе выхода дислокаций). В районе этих мест атомы находятся в возбужденном состоянии, что увеличивает локальную скорость травления.

11. Каковы условия для полирующего химического травления?

????Скорость процесса определяется диффузией реагентов, т.е. диффузия – самая медленная реакция в системе.

12. Что такое анизотропность травления?

Анизотропность травления – зависимость скорости травления от ориентации травимого вещества - связана с различной скоростью травления разных кристаллографических граней, характеризуемых разными индексами Миллера. Обычно (например, для кремния Si и арсенида галлия GaAs) выполняются неравенства v(100) > v(110)>v(111). В результате этого даже на бездефектных поверхностях, ориентированных по плоскостям {100} или {110}, при локальном травлении через специальное окно в защитной маске можно получить профилированные углубления, ограниченные плоскостями, которые характеризуются малыми скоростями травления.

13. Как обеспечивается газовое травление?

Сущность процесса в химическом взаимодействии обрабатываемого материала с газообразным веществом и образовании при этом легко удаляемых летучих соединений.

Загрязнения при газовом травлении удаляются вместе с поверхностным слоем пластин или подложек.

В качестве газов-реагентов для травления кремниевых пластин применяют смеси водорода и гелия с галогенами (фтор, хлор, бром), галогеноводородами (HBr, HCl), сероводородом и др.

Молярные соединения этих веществ в водороде или гелии могут изменяться от десятых долей % до нескольких %. Очистку производят при температурах 800 1300°С.