- •Политехнический колледж № 39
- •Электропроводность полупроводников. Зависимость электропроводности от внешних факторов. Материал полупроводников.
- •Электронные ключи и формирование импульсов.
- •Политехнический колледж № 39
- •Задача. Изобразить схему усилительного каскада на полевом транзисторе
- •Определение и свойства p-n- перехода. Вах p-n- перехода
- •Триггеры, устройство, принцип действия, применение
- •Триггер на логических элементах. Асихронный rs-триггер.
- •Виды электронной эмиссии, применение в электронных приборах.
- •Политехнический колледж № 39
- •Выпрямительные полупроводниковые диоды (определение, уго, прямое и обратное включение)
- •Параметры ппд:
- •Стабилитроны (определение, уго, параметры, включение в цепь)
- •Политехнический колледж № 39
- •1. Биполярные транзисторы (определение, структура, обозначение, принцип работы)
- •2. Режимы работы усилителя.
- •3. Задача. Коэффициент усиления по току для схемы с общим эмиттером
- •Политехнический колледж № 39
- •1. Классификация и условное графическое обозначение на схемах полупроводниковых диодов.
- •Параметры ппд:
- •3. Задача. Для биполярного транзистора коэффициент передачи тока
- •Политехнический колледж № 39
- •Политехнический колледж № 39
- •1. Назначение фото и светоэлементов. Условное графическое обозначение
- •2. Усилитель постоянного тока. Гальваническая межкаскадная связь.
- •3. Задача. Для схемы включения биполярного транзистора с оэ для
- •Политехнический колледж № 39
- •3. Задача. Какое количество электронов вызывает фототок 100 мА,
- •Политехнический колледж № 39
- •1. Основные параметры биполярных транзисторов.
- •Входные и выходные характеристики транзисторов.
- •Обратная связь в усилителях.
- •Политехнический колледж № 39
- •Политехнический колледж № 39
- •1 Полевые транзисторы с управляемым p-n- переходом
- •Политехнический колледж № 39
- •1. Биполярные транзисторы (определение, структура, уго, принцип работы).
- •2. Оптроны (схемы, состав, принцип действия, применение)
- •3. Задача. Подсчитать коэффициент усиления трехкаскадного усилителя,
- •Политехнический колледж № 39
- •1. Условное графическое обозначение на схемах биполярных
- •Политехнический колледж № 39
- •2. Виды эмиссии. Работа электровакуумного диода и триода.
- •Политехнический колледж № 39
- •Упт с преобразователем и без него. Дифференциальный упт.
- •Биполярный дифференциальный каскад. Дифференциальный усилитель:
- •Политехнический колледж № 39
- •Искажения, вносимые усилителем
- •Политехнический колледж № 39
- •3. Задача. Изобразить принципиальную электрическую
- •Политехнический колледж № 39
- •Искажения, вносимые усилителем
- •Политехнический колледж № 39
- •Политехнический колледж № 39
- •Политехнический колледж № 39
- •Планарно-эпитаксиальная технология
- •Политехнический колледж № 39
- •2. Характеристики фотоэлементов: вах, световая, спектральная. Фотоэлектронный умножитель.
- •Политехнический колледж № 39
- •2. Фотодиоды, фототранзисторы, фоторезисторы (определение, уго, принцип действия, параметры и применение)
- •3. Задача. Определить угловую частоту затухающих колебаний w0 и
- •Политехнический колледж № 39
- •1. Светодиоды: назначение, применение, обозначение на схемах, принцип работы.
- •2. Работа логических элементов «и», «или», «не», «и-не». Таблицы истинности логических элементов.
- •3. Задача 30. Подсчитать индуктивное и емкостное сопротивление для
Планарно-эпитаксиальная технология
Дает возможность наращивать ПП слой на подложку любого типа проводимости. Состав наращенного слоя (эпитаксиальной пленки) может отличаться от состава подложки. Наращивая эпитаксиальный слой n- типа на подложку из кремния p-типа, можно сформировать p-n-переход, причем однородный по структуре эпитаксиальный слой может служить основой для изготовления других p-n- переходов, если его покрыть защитным слоем, а затем повторить технологический процесс.
Технологические приёмы планарной технологии.
Окисление исходного кремния при температуре 10000С в среде влажного О2 до образования на поверхности диэлектрической пленки SiO2
Фотолитографию используют для защиты отдельных участков кремниевой пластины при создании окон. На поверхность пластины наносят слой фоторезиста. Который засвечивают через шаблон с прозрачными и непрозрачными участками в соответствии с количеством и конфигурацией окон. После обработки фотослоя отдельные его участки вытравливают, чем обеспечивается локальный доступ к поверхности пластины.
Травление – операция, при которой образовавщаяся
на поверхности пластины пленка SiO2 растворяется
плавиковой кислотой на незащищенных участках
Диффузия – операция по формированию p-n-
переходов на заданных участках полупроводника.
Пластину кремния помещают в термостат с
Температурой около 12000С, содержащий газ с
необходимыми примесями, диффундирующими в
Исходныйполупроводник через окна в пленке SiO2.
Изменяя тип и концентрацию примесей, можно
получить требуемую многослойную p-n- структуру
В кристалле полупроводника.
Эпитаксия – операция по наращиванию при высокой
температуре слоя полупроводника одного типа
проводимости на поверхности исходной пластины полупроводника другого типа проводимости.
При этом наращенный слой полностью повторяет
кристаллическую решетку исходного материала.
Напыление – операция по созданию проводников и
Контактных площадок посредством осаждения в
вакууме паров соответствующих материалов на
поверхность кристалла через маску.
Ионное легирование – облучение полупроводниковой
пластины ускоренными до необходимой скорости
ионами примеси
Соединение ИМС с внешними выводами осуществляют золотыми или алюминиевыми проводниками.
В зависимости от материала различают металлостеклянные, металлокерамические, керамические и пластмассовые корпуса
3. Задача 27. Изобразить схему однотактного усилителя мощности
Политехнический колледж № 39
УТВЕРЖДАЮ Зам директора по УР __________________
Стрельникова Т.А. |
ЭКЗАМЕНАЦИОННЫЙ БИЛЕТ № 28
Дисциплина: Электронная техника |
СОГЛАСОВАНО Председатель предметной комиссии ________________ Жданова И.М.
|
«___» апреля 2010 г.
|
Группы: ВМ-25, ВМ-21 |
«___» апреля 2010 г. |
1. Тиристоры (определение, структура, УГО, принцип действия, характеристики, параметры и применение)
Тиристоры - полупроводниковые приборы с тремя и более p-n переходами, которые могут переключаться из закрытого состояния в открытое и наоборот. В закрытом состоянии сопротивление тиристора составляет десятки миллионов Ом, и он практически не пропускает ток при напряжениях до десятков вольт. В открытом состоянии сопротивление стремится к 0. Падение напряжения на нём около 1 вольта при токах в десятки и сотни ампер. 1.Диодные тиристоры (динисторы), имеют два внешних электрода - анод и катод, обладают неизменным напряжением включения. 2.Триодные тиристоры (тринисторы), кроме катода и анода имеют третий электрод - управляющий. Наличие управляющего электрода позволяет не меняя анодного напряжения изменять напряжение включения.
I – закрытое состояние (через динистор проходит небольшой ток); II - переходный от I к III (ограничен Uвкл и Iвыкл) – лавинный процесс динистора, обладает отрицательным дифференциальным сопротивлением; III – открытое состояние динистора, продолжается лавинный процесс, большие токи и малые падения напряжения; все переходы в открытом состоянии, малое внутреннее сопротивление динистора.
Особенности четырехслойной структуры тиристора. Три электронно-дырочных перехода ЭП1,КП, ЭП2. При полярности (p1+ и n2-) ЭП1, и ЭП2 смещены в прямом направлении и обладают небольшим сопротивлением. КП включен в обратном направлении и обладает большим сопротивлением. На первом участке ВАХ через динистор протекает небольшой ток – закрытое состояние. Переход динистора в открытое состояние происходит благодаря лавинному размножению носителей электрических зарядов. Принцип работы. С ростом прямого напряжения из эмиттерной области p1 дырки, преодолевая потенциальный барьер ЭП1 инжектируются в базовую область n1. Дырки, прошедшие базу и коллекторный переход КП, входят в базовую область p2 . Потенциальный барьер эмиттерного перехода ЭП2 задерживает некоторую часть дырок в базовой Области p2 , тем самым образуя в ней нескомпенсированный положительный заряд , снижающий высоту потенциального барьера ЭП2. Снижение потенциального барьера увеличивает
инжекцию электронов из эмиттерной области n2 в базовую область p2. В базовой области n1 как и в p2 создается избыточный заряд электронов, что приводит к еще большей инжекции дырок из эмиттерной области p2. Таким образом в динисторе при некоторой величине прямого напряжения,
называемого напряжением включения динистора Uвкл наблюдается лавинный рост тока с одновременным уменьшением падения напряжения на тиристоре.
Т ринисторы. Недостатком динистора является невозможность управалять напряжением включения не изменяя внешнего напряжения. Этот недостаток устранен в управляемом тиристоре (тринисторе), в котором один из эмиттеров сделан управляющим. Управление напряжением переключения в тринисторе осуществляется подачей напряжения на третий – управляющий электрод, подключенный к одной из баз тринистора. С ростом управляющего тока уменьшается потенциальный барьер, увеличивается инжекция зарядов, растет ток. При некотором управляющем токе (токе спрямления) ВАХ напоминает прямую ветвь ВАХ обычного диода . После перехода тринистора в открытое состояние управляющий электрод теряет свои управляющие свойства. Для перевода тринистора в закрытое состояние необходимо уменьшить напряжение на его аноде до величины, при которой ток тринистора станет меньше тока включения или подать на управляющий электрод импульс обратной полярности. Основное применение тиристоров - схемы с ключевым режимом работы. Маркировка тиристоров. Тиристоры изготавливаются из кремния методом сплавления и диффузии. Первый элемент буква К или цифра 2 указывает на материал тиристора. Второй элемент – буква Н для неуправляемых и У для управляемых тиристоров. Третий элемент – трехзначное число определяет, на какой ток рассчитан тиристор (до 0,3А – 101-199; от 0,3до 10А – 201-299; свыше 10А - 301-399;)