- •Билет 1. Классификация веществ. Зонная диаграмма. Понятие носителей заряда. Теория проводимости. Собственная и примесная проводимость.
- •Билет 3 . Уравнение Шредингера.
- •Билет 5. Циклотронный резонанс.
- •Билет 11. Концентрация носителей в соб.
- •Билет 12. Рассеяние на ионах примеси.
- •Билет 13. Рассеяние на атомах примеси и дислокациях. Рассеяние на нейтральных примесях
- •Рассеяние на ионизированной примеси
- •Билет 15. Подвижность носителей заряда.
- •Билет 16. Удельная проводимость и удельное сопротивление полупроводника.
- •Билет 17. Рекомбинация полупроводника в условиях равновесного состояния.
- •Билет 18. Рекомбинация полупроводника в условиях неравновесного состояния.
- •Билет 19. Механизм рекомбинации носителей на ловушках.
- •Билет 20. Механизм поверхностной рекомбинации.
- •Билет 21. Движение носителей заряда. Уравнение непрерывности для электронов и дырок. Плотности электронного и дырочного токов.
- •Билет 22. Диффузионный и дрейфовый токи. Диэлектрическая релаксация.
- •Билет 23 и 24. Эффект поля. Зонная диаграмма при эффекте поля
- •Билет 25. Диффузионный ток в полупроводнике.
- •Билет 26. Диффузия и дрейф неравновесных носителей заряда в случае монополярной проводимости. Движение неосновных носителей заряда.
- •Билет 27. Монополярная диффузия носителей.
- •Билет 28. Биполярная диффузия носителей.
- •Билет 29. Образование p-n перехода, база диода, энергетическая диаграмма. Структура и классификация диодов.
- •Билет 30. P-n переход в равновесном состоянии.
- •Билет 31. P-n переход в неравновесном состоянии.
- •Билет 32. Невыпрямляющий контакт металл-полупроводник
- •Билет 35. Идеальная модель диода. Характеристические сопротивления и тепловой ток.
- •Билет 36. Особенности реального диода. Обратная вах. Эквивалентная схема диода при обратном смещении.
- •Билет 37. Туннельный пробой p-n перехода.
- •Билет 38. Лавинный пробой p-n перехода.
- •Билет 39. Тепловой пробой p-n перехода.
- •Билет 40. Прямая характеристика реального диода. Ток рекомбинации. Сопротивление базы.
- •Билет 41. Прямая характеристика реального диода. Зависимость напряжения прямой характеристики от температуры. Работа диода при высоком уровне инжекции. Распределение токов в базе.
- •Билет 42. Прямая характеристика реального диода. Дрейфовая составляющая тока инжектированных носителей. Коэффициент инжекции.
- •Билет 43. Прямая характеристика реального диода. Модуляция сопротивления базы. Эквивалентная схема диода при прямом смещении.
- •Билет 44. Инерционные свойства диодов. Барьерная емкость.
- •Билет 45. Инерционные свойства диодов. Диффузионная емкость.
- •Билет 47. Туннельный диод. Диод Шоттки.
- •Билет 48. Биполярный транзистор. Структура и режимы работы биполярного транзистора. Транзисторный эффект.
- •Билет 49. Биполярный транзистор. Режимы работы биполярного транзистора при схеме включения с Общей Базой.
- •Билет 50. Биполярный транзистор. Эффект Эрли.
- •Билет 52. Эквивалентная схема Эберса-Молла.
- •52. Биполярный транзистор. Входные и выходные вах идеального транзистора в схеме об. Вах идеального транзистора в схеме ок.
- •Билет 57. Сопротивления эмиттерного и коллекторного переходов.
- •Билет 63. Мдп транзистор. Вах идеального мдп транзистора. Физические причины насыщения тока стока. …
- •Билет 64. Мдп транзистор. Выбор рабочей точки. Крутая и пологая область мдп. Удельная крутизна транзистора.
- •Билет 65. Мдп транзистор. Равновесные и неравновесные состояния.
- •Билет 66. Мдп транзистор. Эквивалентная сх, сх.Вкл.
- •Билет 67. Фотоэлектрический явления. Внутренний фотоэффект.
- •Билет 68. Фотоэлектрический явления. Теория фотопроводимости.
- •Билет 72. Эффект Холла
Билет 63. Мдп транзистор. Вах идеального мдп транзистора. Физические причины насыщения тока стока. …
На семействе вольт-амперных характеристик можно выделить две области (линейную область и область насыщения), разделенные штриховой линией. В этих точках (при конкретных, связанных между собой потенциалах затвора и стока) имеет место отсечка канала. Видно, что в линейной области (до отсечки) ток стока растет с увеличением потенциала стока, а в области насыщения (после отсечки канала) ток стока практически не зависит от потенциала стока. С увеличением потенциала затвора растет ток стока и отсечка канала наступает при бóльших потенциалах стока. Физической причиной насыщения тока стока является перекрытие канала вблизи его стокового конца. Это происходит потому что с увеличением напряжения на стоке снижается разность потенциалов Uзи-Uси, уменьшается электрическое поле Ех и его величина оказывается недостаточной для обеспечения режима сильной инверсии. В результате вблизи стока концентрация дырок в канале уменьшается, канал перекрывается и в области перекрытия устанавливается режим обеднения. Сопротивление этого участка канала становится очень большим. Поэтому при дальнейшем приращении напряжения на стоке оно падает в основном на участке перекрытия, а на оставшейся части оно остаётся равным Uсин (напряжение насыщения).
Пороговое напряжение идеального p- канального МДП транзистора состоит из 2х слагаемых- напряжения, необходимого для удержания заряда в обеднённой области, и напряжения, необходимого для достижения режима сильной инверсии: . В реальном p- канальном МДП транзисторе для достижения режима сильной инверсии необходимо подать на затвор дополнительное отрицательное напряжение (напряжение плоских зон).
Билет 64. Мдп транзистор. Выбор рабочей точки. Крутая и пологая область мдп. Удельная крутизна транзистора.
Выбора рабочей точки не нашёл.
(в лабнике линейная-это крутая, 2я-пологая)
Для крутой области характерно наличие канала под всеми точками затвора. При этом если увеличить напряжение на затворе, то концентрация основных носителей в канале и его проводимость увеличиваются, следовательно, увеличивается ток стока и характеристики идут круче.
Однако при дальнейшем увеличении напряжения Uси рост тока стока замедляется, а при напряжении насыщения почти прекращается. Область ВАХ, для которой выполняется условие: |Uси|>|Uсин|, называется пологой областью. Удельная крутизна транзистора определяется из семейства выходных ВАХ в крутой области.
Билет 65. Мдп транзистор. Равновесные и неравновесные состояния.
Равновесное состояние: Возможные обратимые реакции для электронного полупроводника:
(свободный электрон)+(ионизированный донор)=(нейтральный донор);
(свободный электрон)+(свободная дырка)=(связанный электрон валентной зоны).
Условие равновесия: r – коэффициент рекомбинации
- скорость генерации.
- Количество актов рекомбинации в единице объема и в единице времени (скорость рекомбинации носителей в равновесном состоянии).
Средний интервал между актами рекомбинации (среднее время жизни):
Условие равновесия:
Неравновесное состояние:
Скорости генерации и рекомбинации неодинаковы (происходит накопление или рассасывание носителей заряда) g-R :
Скорость генерации носителей заряда:
У словие сохранения нейтральности: