- •21 Загальна х-ка процесу розсіювання високоенергетичних електронів у тв. Тілі
- •22 Відбиті та вторинні електрони
- •23 Будова рем
- •24 Основи формування зображення рем, збільшення та глибина фокусу
- •25 Детектори електронів у рем
- •Детектори сцинтилятор-фотопомножувач. Еверхарт та Торнлі
- •26 Методи обробки сигналу у рем
- •27 Поняття про ідеальне зображення. Аберації 3-го порядку Ідеальне, або гаусівське, зображення
- •28 Конструкція пем. Хід променів у колоні мікроскопа із 3-х ступеневим збільшенням Конструкція пем
- •29 Практичні режими роботи пем: дифракційний, мікродифракційний, світлопольний, темнопольний Режими роботи пем
- •30 Фізичні основи принципу роботи та конструкція скануючого тунельного мікроскопу
- •31 Основи термодинаміки і кінетичної теорії газів (рівноважний тиск металевої пари).
- •32 Основи термодинаміки і кінетичної теорії газів (розподіл атомів металевої пари за швидк).
- •33 Випаровування матеріалів для т.Плівок і покриттів: ел.-променеве, іонне, реактивне)
- •34 Методи контролю та вимірювання товщин тонких плівок.
- •35 Чотири стадії росту плівки; механізм конденсації плівок.
- •36 Утворення дефектів у процесі росту плівки і покриття (дислокації).
- •37 Утворення дефектів у процесі росту плівки і покриття (межі зерен).
- •38 Нанокристал. Та аморфні плівкові матеріали.
- •39 Внутрішні макронапруження в конденсатах.
- •40 Процеси старіння в тонких плівках.
- •1 Основні х-ки вакуумної системи. Основне р-ня вакуумної техніки.
- •2 Класифікація вакуумних насосів. Параметри і робочий діапазон дії.
- •5 Конструкція та принцип дії багатоступеневого паромасляного дифузійного насосу.
- •6 Конструкція і принцип роботи іонно-сорбційних, адсорбційних, кріогенних насосів.
- •7 Механ. Молекулярні та турбомолекул. Насоси.
- •8 Принцип роботи обертальних пластинчатих насосів. Робочі рідини для оберт. Насосів.
- •9 Розбірні вакуумні з’єднання. Гнучкі вакуумні з’єднання. Передача руху у вакуум.
- •10 Конструкція і принцип роботи вакуумних уловлювачів.
- •11 Послідовність формування та схема техн.. Процесу дифузійно-планарних імс
- •12 Послідовність формування та схема техн.. Процесу епітаксійно-планарних імс.
- •13 Послідовність формування та схема техн.. Процесу виготовлення V-канальних німс.
- •14 Послідовність формування та схема техн.. Процесу німс з діелектричною ізоляцією
- •15 Впровадження домішки у напівпровідник шляхом термічної дифузії
- •16 Впровадження домішки у напівпровідник шляхом іонної імплантації
- •17 Автоепітаксія кремнію як базовий технологічний процес виготовлення імс.
- •18 Загальна х-ка фотолітографічного процесу.
- •19 Схема технолог. Процесу виготовлення товсто плівкових гімс. Х-ка та трафаретний друк.
- •20 Загальна х-ка етапів та методів зборки імс.
34 Методи контролю та вимірювання товщин тонких плівок.
Товщина плівкового зразка є найважливішою характеристикою. В одних випадках вона виступає як структурний, а в інших як термодинамічний п-тр. Визначення товщини залишається серйозною методичною проблемою. На даний момент відомо ряд прямих та непрямих методів, які гарантують різну точність. Першим був розроблений ваговий метод, суть,якого полягає у визначенні за кількістю випаруваної речовини маси плівки та площі, яку вона займає. Товщину можна знайти за відношень-ням об'єму, плівки до її площі.
Мікрозважування. Маса плівки детально визначається в методі мікрозважування, який є різновидом вагового методу. Основним робочим элементом пристрою є крутильні мікротерези, які дозволяють визначати вагу моноатомної плівки площею ~1см2. Плівка осаджується на слюдяну фольгу, яка підвішується вертикально на нитці. У результаті осадження плівки приводиться в рух невелике дзеркальце, зв'язане з коромислом терезів, на яке падає промінь світла. За зміщенням світлового зайчика на шкалі можна визначити зміщення коромисла, тобто визначити масу.
Метод кварцового резонатора. Суть методу базується на вимірюванні зміни частоти кварцу при осадженні на нього тонкої плівки. Пристрій для вимірювання товщини складається із кварцового генератора, кварцового еталона частоти, вимірника частоти, само запису-вача, стабілізатора температури кварцового криста-ла генератора. Кварцовий кристал встановлюється в тримачі, так що одна спеціально зрізана грань залишається відкритою для потоку атомів випаровуваної речовини. Конденсація плівки зменшує резонансну частоту прямопропорційно масі сконденсованої речовини: ∆m = C(w0-w), де С - постійна приладу. У зв'язку з тим, що частота змінюється при нагріванні або охолодженні, застосовують охолодження тримача кристала проточною водою. Вибір частоти залежить від діапазону товщин плівок. Недоліки пов'язані з непередбачуваною поведінкою частоти кварцу та необхідністю його градуювання.
Оптичні методи. У технології тонких плівок метод оптичної інтерференції з його модифікаціями застосовується найбільш широко. Це пов'язано з тим, що товщина плівок має величину порядку довжини світлової хвилі. На рисунку схематично показано хід променів у найбільш простому (двопроменевому) інтерферометрі. Цей метод буде досить ефективним за умови, що відбивання променів на межах вакуум-плівка та плівка-підкладка несильне. Тоді інтерференційна картина буде формуватися двома променями (1 та 2). Але в цьому випадку різкість інтерференційних смуг буде слабкою, і відповідно це призведе до великої похибки у визначенні товщини. Цей недолік відсутній у більш громіздкому методі багатопроменевої інтерференції. Для його реалізації необхідно, щоб відбивання променів на межах розділу було дуже інтенсивним (це досягається штучно за допомогою скляних пластин, одна з яких є підкладкою з нанесеною на неї ]напівпрозорою плівкою срібла). Багатопроменева інтерферометрія має два різновиди:; вимірювання смуг Фізо (метод Толанського) та використання смуг рівного хроматичного порядку. Ці методи дозволяють вимірювати товщину з точністю до 0,1 нм. Схематичне зображення двопроменевого відбиття та проходження променів світла через тонку плівку (n- коефіцієнт заломлення). Показано випадок, коли n1< п2< n3