- •1.1 ТЕРМИНЫ И ОПРЕДЕЛЕНИЯ
- •1.2 ДИФРАКЦИЯ НА ЩЕЛИ
- •1.2.1 Дифракционный предел разрешения
- •1.2.2 Критерий Релея
- •1.2.3 Оптимальная (нормальная) ширина щели
- •1.2.4 Дифракция на входной щели прибора
- •1.3 АБЕРРАЦИИ ЭЛЕМЕНТОВ СПЕКТРАЛЬНЫХ ПРИБОРОВ
- •1.3.1 Сферическая аберрация и продольная дефокусировка
- •1.3.2 Кома
- •1.3.3 Астигматизм и кривизна поля
- •1.3.4 Дисторсия
- •1.4 ОПТИЧЕСКИЕ МАТЕРИАЛЫ
- •1.4.1 Дисперсия света в оптических материалах
- •1.4.1.1 Спектр одиночного осциллятора
- •1.4.1.3 Спектральная дисперсия изотропных материалов
- •1.4.2 Оптически анизотропные материалы
- •1.4.3 Оптические материалы, применяемые в практике спектроскопии
- •1.5 ФОТОМЕТРИЯ
- •1.5.1 Энергетические единицы в системе СИ
- •1.5.2 Световые единицы
- •1.5.3 Внесистемные единицы
- •1.5.4 Основные типы приемников излучения
- •1.6 ТЕПЛОВЫЕ ПРИЕМНИКИ ИЗЛУЧЕНИЯ
- •1.6.1 Основные параметры тепловых приемников
- •1.6.2 Элементы теории тепловых приемников
- •1.6.3 Термоэлементы
- •1.6.4 Болометр
- •1.7 ФОТОЭЛЕКТРОННЫЙ УМНОЖИТЕЛЬ
- •1.7.1 Устройство и основные узлы фотоэлектронного умножителя
- •1.7.1.1 Фотокатод
- •1.7.1.2 Катодная камера
- •1.7.1.3 Динодная система
- •1.7.1.4 Анодный блок
- •1.7.2 Принцип работы и режимы использования ФЭУ
- •1.7.2.1 Форма сигнала на выходе ФЭУ
- •1.7.2.2 Режим счета одноэлектронных импульсов
- •1.7.2.3 Режим постоянного тока
- •1.7.2.4 Режим счета многоэлектронных импульсов
- •1.7.2.5 Питание ФЭУ
- •1.7.3 Характеристики ФЭУ
- •1.7.3.1 Спектральная характеристика
- •1.7.3.2 Анодная чувствительность и коэффициент усиления
- •1.7.3.3 Темновой ток, шум, пороговая чувствительность, обнаружительная способность
- •1.7.3.4 Открытые электронные умножители (ВЭУ) и микроканальные умножительные пластины (МКП)
- •1.7.4 Эмиссия электронов из твердых тел
- •1.7.4.1 Термоэлектронная эмиссия.
- •1.7.4.2 Фотоэлектронная эмиссия
- •1.7.4.3 Вторичноэлектронная эмиссия (ВЭЭ)
- •1.7.4.4 Автоэлектронная эмиссия
- •1.7.5 Лабораторная работа "Исследование фотоэлектронного умножителя"
- •1.7.5.1 Задание
- •1.7.5.2 Экспериментальная установка
- •1.7.5.3 Параметры установки
- •1.7.5.4 Оптическая пирометрия
- •1.7.5.5 Законы теплового излучения
- •2.1. Призма
- •2.1.1. Угол наименьшего отклонения
- •2.1.2. Угловая дисперсия
- •2.1.3. Угловое увеличение
- •2.1.4. Разрешающая способность
- •2.1.5. Аберрации призмы
- •2.1.6. Специальные виды призм (системы призм)
- •2.2. ДИФРАКЦИОННАЯ РЕШЕТКА
- •2.2.1. Дифракция на плоской отражательной решетке
- •2.2.2. Инструментальный контур и распределение энергии по дифракционным порядкам
- •2.2.3. Дисперсия и меридиональное увеличение
- •2.2.5. Наложение порядков
- •2.2.6. Решетки с профилированным штрихом
- •2.2.7. Неплоские решетки
- •2.2.8. Аберрации решеток
- •2.3. ВСПОМОГАТЕЛЬНЫЕ УЗЛЫ СП
- •2.3.1. Фокусирующие системы
- •2.3.1.1. Коллиматоры и объективы
- •2.3.1.2. Входные осветители
- •2.3.2. Интегрирующая сфера
- •2.3.3. Светоделительные устройства
- •2.4. КОНСТРУКЦИИ И ПАРАМЕТРЫ СП
- •2.4.1. Общая оптическая схема прибора
- •2.4.1.1. Параметры оптической схемы
- •2.4.1.2. Спектрометры
- •2.4.2. Дифракционные приборы
- •2.4.2.1. Дисперсия и сканирование спектра
- •2.4.2.3. Приборы с вогнутыми решетками
- •2.4.3. Практические схемы приборов
- •3.1 ИЗ ИСТОРИИ ОПТИКИ И ПЛАНЕТАРНОЙ МОДЕЛИ АТОМА
- •3.2 АТОМ БОРА
- •3.3 СПЕКТРЫ ВОДОРОДОПОДОБНЫХ АТОМОВ
- •3.3.1. Атом водорода и одноэлектронные ионы
- •3.3.2. Ридберговские серии в спектрах многоэлектронных атомов и молекул
- •3.3.2.1. Щелочные металлы. Квантовый дефект
- •3.3.2.2. Квантовомеханическая трактовка задачи об атоме водорода
- •3.3.2.3. Ридберговские серии в молекулярных спектрах
- •3.4 СВЕРХТОНКАЯ СТРУКТУРА АТОМНЫХ СПЕКТРОВ
- •3.4.1. Вычисление магнитных моментов ядер по сверхтонкому расщеплению уровней
- •3.5 ОПИСАНИЯ ЛАБОРАТОРНЫХ РАБОТ
- •3.5.1. Постоянная Ридберга
- •3.5.2.1. Экспериментальное определение параметров сверхтонкого расщепления спектральных линий.
- •3.5.2.2. Определение ядерного магнитного момента
- •3.5.2.3. Порядок работы и практические указания
В рассмотренном случае (λ = 500 нм, a = 50 мм) при фокусном расстоянии объективов f1 = f2 = 300 мм минимальная ширина изображе-
ния бесконечно узкой входной щели составит S1 = 3 10–2 мм, т.е. 30 микрон. Следовательно, оптимальная ширина щели в нашем случае составит также 30 микрон.
1.2.4Дифракция на входной щели прибора
Отметим сразу, что дифракционное уширение на оптимальной входной щели равно апертуре прибора, a/f. В этом случае прибор "заполнен светом". При большей ширине щели и неграмотной конструкции осветителя может оказаться, что апертура прибора использована лишь частично, освещена область шириной а1 < a. Тогда края изображения будут размазаны соответственно шире, чем на рис. 1.2.4 (в пределе очень узкого входного пучка мы получим просто дифракционный контур большой ширины). Если осветитель заполняет всю апертуру прибора, то за счет дифракции на входной щели пучок окажется несколько расширен и не весь пройдет через апертурную диафрагму. Возникнут потери света и в приборе появится "ненужный" свет, который, переотражаясь от внутренних стенок, может достичь выходной фокальной поверхности и создать нежелательный фон, фон рассеянного света.
Но это не очень существенно. Рассеянный свет будет всегда и основная его часть рождается при рассеянии на дефектах оптических элементов (в том числе - на осевшей на них пыли). Важно, что дифракция на входной щели не влияет на разрешение прибора, а лишь приводит к тому, что при полном использовании апертуры прибора несколько (весьма незначительно) увеличится интенсивность рассеянного света.
23