8. Заключение

В настоящее время в технологии СБИС преобладают методы оптической литографии (фотолитографии) с переносом и мультипликацией изображения и проекционной оптической литографии. Электронно-лучевая литография используется для изготовления эталонных шаблонов и для переноса изображений на полупроводниковую пластину в особых случаях.

Возможности применения процесса литографии определяются тремя параметрами: разрешением, точностью совмещения и производительностью.

Предельные возможности и тенденции развития электронно-лучевой литографии

Основным преимуществом литографии с непосредственным формированием топологии электронным лучом являются воз­можность получения субмикронного разрешения и большая точ­ность межуровневого совмещения по сравнению с основными литографическими методами. Кроме того, электронно-лучевые системы могут быть легко перестроены для выполнения раз­личных литографических операций. Изготавливаемые на заказ СБИС могут быть получены без выполнения первой технологи­ческой операции изготовления шаблона, которая приводит к по­грешностям и дефектам формирования топологического рисун­ка схемы. Задачей, стоящей перед электронно-лучевой литогра­фией, является получение субмикронного разрешения при эко­номически приемлемой производительности. Действие эффектов близости может быть скорректировано, но часто за счет сниже­ния производительности выхода изделий вследствие увеличения машинного времени. Высокого разрешения можно достичь це­ной снижения чувствительности резиста и уменьшения произво­дительности. Для получении высокой производительности элек­тронно-лучевого литографического оборудования в сочетании с высоким разрешением необходима разработка источников, об­ладающих большей яркостью и большей величиной тока элек­тронного луча.

Список литературы

1. Курносов А. И., Юдин В. В. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. – М.: Высшая школа, 1986.

2. Березин А. С., Мочалкина О.Р. Технология и конструирование интегральных микросхем. Учебное пособие для высших учебных заведений. – М.: Радио и связь, 1992

3. Коледов Л. А. Технология и конструкции микросхем, микропроцессоров и микросборок. – СПБ.: Издательство «Лань», 2009.

4. Технология СБИС: В 2-х кн. Кн. 1. Пер. с англ./Под ред. С. Зи. – М.: Мир, 1986.

5. Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. В 10 кн.: Кн. 8. Литографические процессы В. В. Мартынов, Т. Е. Базарова. – М.: Высш. шк., 1990.