- •Конспект лекций
- •Оглавление
- •Элементы зонной теории твердых тел
- •Статистика электронов и дырок в полупроводниках
- •Литература…………………………………………………………. .73
- •Приложение 2 Фазовая и групповая скорости, фононы………….. 87
- •1. Элементы зонной теории твердых тел
- •1.1 Электронный газ в периодическом потенциальном поле
- •1.2. Зоны Бриллюэна
- •1.3. Эффективная масса электрона
- •1.4. Зонная схема кристаллических тел - проводники, диэлектрики, полупроводники
- •2. Статистика электронов и дырок в полупроводниках
- •2.1. Собственные и примесные полупроводники
- •2.2. Зависимость концентрации свободных носителей в полупроводнике от положения уровня Ферми
- •2.3. Уровень Ферми и равновесная концентрация носителей в невырожденных собственных полупроводниках
- •2.4. Положение уровня Ферми и концентрация носителей в примесных полупроводниках
- •2.5. Неравновесные носители, рекомбинация носителей
- •2.6. Поверхностная рекомбинация
- •2.7. Уравнение непрерывности
- •3. Электропроводность твердых тел
- •3.1. Движение электронов под действием внешнего поля
- •3.2. Зависимость подвижности носителей заряда от температуры
- •3.3. Электропроводность чистых металлов
- •3.4. Электропроводность собственных полупроводников
- •3.5. Электропроводность примесных полупроводников
- •3.6. Диффузионные уравнения
- •4. Контактные явления
- •4.1. Контакт электронного и дырочного полупроводников
- •4.2. Равновесное состояние р-n-перехода
- •4.3. Зонная диаграмма р-n-перехода при положении внешнего поля
- •4.4. Вах тонкого р-n-перехода
- •5. Поверхностные явлении
- •5.1. Поверхностные состояния
- •5.2. Эффект поля. Мдп-структуры
- •5.3. Вольт-фарадная характеристика
- •6. Полевые транзисторы
- •6.1. Общие сведения
- •6.2. Полевые транзисторы с изолированным затвором
- •6.3 Статические характеристики
- •6.4. Основные параметры мдп-транзисторов
- •6.5 Полевые транзисторы с управляющим
- •7. Электрофизические свойства p-n-переходов и структур металл-диэлектрик-полупроводник
- •7.1. Барьерная и диффузионная емкость p-n-перехода
- •7.2. Механизмы пробоя p-n-переходов
- •7.3. Механизмы переноса заряда через тонкие диэлектрические пленки
- •Сильно-полевая туннельная инжекция и инжекционная модификация.
- •Литература
- •Прямоугольный барьер полубесконечной толщины
- •Приложение 2 Фазовая и групповая скорости, фононы
3.2. Зависимость подвижности носителей заряда от температуры
Рассеяние электронов и дырок проводимости может происходить на ионах и нейтральных атомах примеси, дефектах структуры, границах кристалла, тепловых колебаниях решетки.
В области высоких температур основное значение имеет рассеяние электронов на тепловых колебаниях решетки. Установлено, что в области высоких температур, в которой основное значение имеет рассеяние на фотонах, т.е. на тепловых колебаниях решетки, подвижность невырожденного газа пропорциональна температуре в степени –3/2
. (3.2.1)
Подвижность же носителей вырожденного газа обратно пропорциональна температуре
. (3.2.2)
В области низких температур основное значение имеет рассеяние на ионизированных примесных атомах. Ионы примеси отклоняют электроны, проходящие вблизи них, и тем самым уменьшают скорость их движения в первоначальном направлении.
Показано, что подвижность носителей заряда в области низких температур, обусловленная рассеянием на ионизированных примесях, пропорциональна T3/2 для проводников с невырожденным газом и не зависит от Т для проводников с вырожденным газом.
У чистых металлов, у которых концентрация примеси очень мала и при низких температурах основным механизмом рассеяния остается рассеяние на колебаниях кристаллической решетки. Поэтому подвижность вырожденного электронного газа в этих металлах пропорциональна T-5.
3.3. Электропроводность чистых металлов
Вычислим плотность электрического тока протекающего по кристаллу, независимо от того является ли он полупроводником или металлом.
Пусть электроны обладают скоростью VD. Построим мысленно внутри полупроводника цилиндр, площадь основания которого равна единице, а образующая VD (рис 3.1). Все электроны, заключенные в этом цилиндре за 1 секунду пройдут через основание. При этом плотность тока будет равна:
, (3.3.1)
т.к.
см. (3.1.1), то
,
(3.3.2)
где q - заряд электрона;
n - число электронов в единице объема, т.е. концентрация;
-
подвижность.
Электропроводность металлов обусловлена дрейфом свободных носителей заряда одного знака. У большинства металлов этими носителями являются электроны, и лишь у некоторых дырки (бериллий, цинк).
Металлы являются вырожденными проводниками, поэтому концентрация электронного газа в них практически не зависит от температуры. Вследствие этого зависимость электропроводности от температуры полностью определяется температурной зависимостью подвижности электронов вырожденного газа. Поэтому в области высоких температур
;
V=aT
(3.3.3)
в области низких температур
;
V
=bT5
(3.3.4)
где A,B,a,b - коэффициенты пропорциональности.
На рис. 3.2 показана зависимость удельного сопротивления металлов от температуры. В области абсолютного нуля основное значение даже в чистых металлах приобретает рассеяние на примесях. При этом V не зависит от температуры.
Vd
Vp S=1
Рис. 3.1
~T+5 ~T+1 T
Рис. 3.2
