
- •Основы электротехнологии
- •Иваново, 2011 Литература
- •1 Введение. Классификация электротехнологических установок
- •2 Лазерные установки Введение
- •Классификация лазеров
- •2.1 Теоретические основы лазерных установок.
- •2.1.1 Физические явления при получении лазерного излучения.
- •Возбужденное состояние
- •Невозбужденное состояние
- •2.1.2 Принцип получения лазерного излучения
- •2.1.3 Методы создания инверсии населенности
- •2.1.4 Оптические резонаторы
- •Виды и условие устойчивости оптических резонаторов
- •Резонансные частоты и размер пучка излучения.
- •2.1.5 Свойства лазерного излучения.
- •2.1.6 Принцип действия, устройство и параметры твердотельных лазеров. Устройство и работа твердотельного лазера
- •Лазер на рубине.
- •Неодимовый лазер.
- •2.1.7 Принцип действия, устройство и параметры газовых лазеров.
- •Газостатические молекулярные лазеры.
- •Устройство и работа газостатического лазера
- •Излучатели с конвективным охлаждением рабочей смеси.
- •Электроаэродинамические лазеры
- •Электроионизационные лазеры.
- •2.1.8 Накачка электрическим разрядом.
- •2.1.9 Полупроводниковые лазеры.
- •Устройство полупроводникового лазера
- •2.2 Инженерные основы лазерных технологических установок. Введение
- •2.2.1 Требования к промышленным и технологическим лазерам и лту
- •2.2.2 Схемы и конструкции лту на базе твердотельных лазеров.
- •2.2.3 Лту на основе газоразрядных лазеров с диффузионным охлаждением (лдо).
- •2.2.4 Лту на основе газовых лазеров с конвективным охлаждением (быстропроточные лазеры- бпл).
- •2.2.5 Электрические схемы высоковольтных источников питания Источники питания лазеров импульсного действия
- •Источник питания с индуктивным накопителем энергии
- •Источник питания с ёмкостным накопителем энергии
- •Источник питания с управляемым током зарядки
- •Источники питания лазеров непрерывного излучения
- •Источники питания современных высоковольтных технологических лазеров.
- •Конструкция преобразователя напряжения
- •2.2.6 Оптические системы формирования лазерного излучения в технологических установках
- •3. Электроплазменные технологические установки
- •3.1 Классификация электроплазменных процессов.
- •3.2 Способы осуществления электроплазменных процессов.
- •3.3 Устройство и принцип действия электроплазменных установок
- •3.4 Конструкция плазмотронов
- •Характеристики плазмотронов.
- •4. Ускорители заряженных частиц и их применение
- •4.1. Назначение и классификация ускорителей заряженных частиц
- •4.2. Конструкция и принцип действия ускорителей
- •4.3. Применение ускорителей
Источник питания с ёмкостным накопителем энергии
Такие источники питания получили в настоящее время наиболее широкое применение на практике. Источники питания с емкостными накопителями можно разделить на две группы:
1 схемы с неуправляемым током зарядки
2 схемы с управляемым током зарядки.
Зарядное напряжение емкостных накопителей лазерных установок колеблется в пределах от нескольких кВ до нескольких десятков кВ.
К первой схеме относятся схемы с зарядкой емкостей от источника напряжения через токоограничивающие элементы: активный резистор, индуктивность, конденсатор.
Принципиальная схема высоковольтного источника питания в виде источника напряжения с активным токоограничивающим резистором представлена на рис. .
Рис.
Т1-регулировочный трансформатор
Т2- ВВ трансформатор ( повышает напряжение)
V- ВВ диод для получения выпрямленного напряжения, для зарядки конденсаторов С1-С4
С1-С4 – батарея ВВ конденсаторов , суммарная емкость которых сотни, тысячи мкФ.
R2 – разрядное сопротивление для разрядки конденсаторов С1-С4 при отключении установки.
kV- киловольтметр, для измерения зарядного напряжения
Lp- индуктивности для обеспечения импульса разрядного тока требуемой формы
ИЛ- импульсная лампа, постоянно подключена к батарее конденсаторов но не пробивается, т.к. напряжение на конденсаторах выбрано меньше пробивного.
Работа схемы
При включении S1 происходит зарядка батареи ВВ конденсаторов Сб через Т1, т2, V1 и R1 до установившегося значения напряжения Uз. Таким образом происходит запасание эл. Энергии в батарее конденсаторов Сб. Величина зарядного напряжения Uз устанавливается с помощью регулировочного трансформатора Т1 и контролируется kV. После этого с помощью схемы поджига вызывается пробой газоразрядного промежутка импульсной лампы ИЛ. Батарея конденсаторов разряжается через Lp и импульсную лампу. Эл энергия , запасаемая в Сб преобразуется в световую энергию, излучаемую лампой.
Для такой схемы применяют два режима зарядки батареи конденсаторов:
- постоянная времени зарядной цепи много
меньше полупериода питающего напряжения,
те
, где fс – частота
питающего напряжения
-
В первом случае время зарядки равно
,
те зарядка батареи конденсаторов
происходит за время изменения
синусоидального напряжения от «0» до
амплитудного значения. А
-
амплитудному значению напряжения на
выводах источника те Т2.
Во втором случае время зарядки батареи
конденсаторов до напряжения источника
составляет
,
кпд процесса зарядки независимо от
применяемого режима , можно определить
по формуле
(2.33)
-
энергия запасаемая в батарее конденсаторов,
ЕП- энергия потерь.
В первом случае
поэтому
Во втором
,
тогда
,
на практике
,
тк время заряда имеет меньшую величину:
Первый режим применяется в лазерах с высокой частотой следования импульсов- до 100 Гц.
Электрическая энергия, подводимая к излучателю, может быть определена по
формуле
,
(2.34)
где
-
напряжения, до которого разряжается
батарея конденсаторов
Можно определить режим зарядки Сб при котором достигается наиболее высокий к.п.д. в процессе зарядки батареи конденсаторов
Рис.
Согласно схемы замещения зарядной цепи (рис. ), энергия потерь в активном сопротивлении определяется по формуле
,
т.к.
,
где tз- время зарядки.
Минимальное значение
достигается при
,
т.е.
.
(2.35)
Другими словами минимальные потери соответствуют постоянному зарядному току.
Электрические схемы источников питания с зарядкой через индуктивный и емкостный токоограничивающий элемент отличаются от приведенной (рис. ) только тем , что вместо резистора R1 включают индуктивности или емкости соответственно. Такие схемы получили применение в лазерах малой мощности и с точки зрения технологического применения лазеров интереса не представляют.