
- •Основы электротехнологии
- •Иваново, 2011 Литература
- •1 Введение. Классификация электротехнологических установок
- •2 Лазерные установки Введение
- •Классификация лазеров
- •2.1 Теоретические основы лазерных установок.
- •2.1.1 Физические явления при получении лазерного излучения.
- •Возбужденное состояние
- •Невозбужденное состояние
- •2.1.2 Принцип получения лазерного излучения
- •2.1.3 Методы создания инверсии населенности
- •2.1.4 Оптические резонаторы
- •Виды и условие устойчивости оптических резонаторов
- •Резонансные частоты и размер пучка излучения.
- •2.1.5 Свойства лазерного излучения.
- •2.1.6 Принцип действия, устройство и параметры твердотельных лазеров. Устройство и работа твердотельного лазера
- •Лазер на рубине.
- •Неодимовый лазер.
- •2.1.7 Принцип действия, устройство и параметры газовых лазеров.
- •Газостатические молекулярные лазеры.
- •Устройство и работа газостатического лазера
- •Излучатели с конвективным охлаждением рабочей смеси.
- •Электроаэродинамические лазеры
- •Электроионизационные лазеры.
- •2.1.8 Накачка электрическим разрядом.
- •2.1.9 Полупроводниковые лазеры.
- •Устройство полупроводникового лазера
- •2.2 Инженерные основы лазерных технологических установок. Введение
- •2.2.1 Требования к промышленным и технологическим лазерам и лту
- •2.2.2 Схемы и конструкции лту на базе твердотельных лазеров.
- •2.2.3 Лту на основе газоразрядных лазеров с диффузионным охлаждением (лдо).
- •2.2.4 Лту на основе газовых лазеров с конвективным охлаждением (быстропроточные лазеры- бпл).
- •2.2.5 Электрические схемы высоковольтных источников питания Источники питания лазеров импульсного действия
- •Источник питания с индуктивным накопителем энергии
- •Источник питания с ёмкостным накопителем энергии
- •Источник питания с управляемым током зарядки
- •Источники питания лазеров непрерывного излучения
- •Источники питания современных высоковольтных технологических лазеров.
- •Конструкция преобразователя напряжения
- •2.2.6 Оптические системы формирования лазерного излучения в технологических установках
- •3. Электроплазменные технологические установки
- •3.1 Классификация электроплазменных процессов.
- •3.2 Способы осуществления электроплазменных процессов.
- •3.3 Устройство и принцип действия электроплазменных установок
- •3.4 Конструкция плазмотронов
- •Характеристики плазмотронов.
- •4. Ускорители заряженных частиц и их применение
- •4.1. Назначение и классификация ускорителей заряженных частиц
- •4.2. Конструкция и принцип действия ускорителей
- •4.3. Применение ускорителей
Федеральное агентство по образованию
Государственное образовательное учреждение
высшего профессионального образования
"Ивановский государственный энергетический
университет имени В.И. Ленина"
Кафедра высоковольтных электроэнергетики, электротехники
и электрофизики
Методическое пособие
по изучению дисциплины
Основы электротехнологии
Составил: А.М. СОКОЛОВ
Иваново, 2011 Литература
Основная
-
Лазерная техника и технология. Кн. 1 – Кн.7, под ред. А.Г. Григорянца, авт: В.С. Голубев, Ф.В. Лебедев, А.Г. Григорянц и др. М., Высшая школа, 1987г.
-
А.В. Донской, В.С. Клубникин. Электроплазменные процессы и установки в машиностроении. Л. Машиностроение, 1979 г.
-
Основы электронно – лучевой обработки материалов. Н.Н. Рыкалин и др. М.: Машиностроение, 1975 г.
-
А.Л. Лившиц, М.Ш. Отто. Импульсная электротехника. М. Энергоатомиздат, 1983.
Дополнительная
-
Л.Л. Гольдин. Физика ускорителей. М.: Наука 1983 г.
-
процессы и установки электронно – ионной технологии. В.Ф. Попов, Ю.Н. Торин, М.: Высшая школа, 1988 г.
-
О. Звелто. Принципы лазеров. М.: Мир, 1984 г.
-
Мощные газоразрядные СО2 – лазеры и их применение в технологии. Г.А. Абильсиитов, Е.П. Велихов и др. М.: Наука, 1984 г.
-
В.Н. Вакуленко, Л.П. Иванов. Источники лазеров. М.: Сов. радио, 1980 г.
-
Ю.В. Байбородин. Основы лазерной техники. Киев, Высшая школа, 1988г
1 Введение. Классификация электротехнологических установок
Электротехнологические установки также называют высоковольтные электрофизические технологические установки. Такие устройства позволяют использовать энергию сильных электрических и магнитных полей в различных технологических процессах и устройствах. Применение электрических и магнитных полей в технологии основано на превращении (преобразовании) энергии электрического поля высокого напряжения и энергии магнитного поля в другие виды энергии, которые в свою очередь используются как рабочий фактор в различных технологических процессах. Все электротехнологические процессы и установки по энергетическим показателям можно разделит на две категории (группы): высокоэнергетические (энергоёмкие, энергонасыщенные) и низкоэнергетические. Деление это довольно условное и четкая грань на данный момент не определена. В настоящем курсе рассматриваются установки данных типов.
Классификация установок по энергетическим показателям:
I группа – высокоэнергетические (энергонасыщенные),
II группа – низкоэнергетические.
Установки первой группы характеризуются высокими значениями плотности энергии или мощности в процессе её преобразования и использования. Как правило, в этом случае происходит сильная деформация или нагрев обрабатываемого материала вплоть до его плавления и испарения. Во втором случае наблюдаются относительно невысокие значения плотности мощности, которые не приводят к эффектам, возникающим от высокоэнергетических установок.
К установкам I группы можно отнести следующие устройства:
- электротермические установки, в которых электрическая энергия преобразуется в тепловую, например, за счёт активного сопротивления или нагрева в электромагнитном поле.
- лазерные технологические установки, в которых энергия электрического поля с помощью электрического разряда в газах преобразуется в энергию направленного излучения (потока фотонов).
- электроплазменные установки, в которых электрическая энергия посредством дугового разряда в газе преобразуется в тепловую энергию высокотемпературной плазмы.
- ускорители заряженных частиц (электронно-лучевые установки). В них энергия электрического (или магнитного) поля преобразуется в кинетическую энергию движущихся заряженных частиц.
- импульсные установки, работают на основе накопленной энергии. В таких установках энергия электрического или магнитного поля, запасённая в емкостных или индуктивных накопителях энергии превращается в механическую и тепловую энергию.
К установкам II группы (низкоэнергетические):
- установки для технологического использования электрических полей и разрядов в газах: поверхностная обработка материалов для очистки, модификации др., электрография, электрокаплеструйная печать;
- электрогазодинамические (электроаэрозольные) установки: электроочистка газов, электроокраска, электрооперация и нанесение порошковых покрытий, электрические воздействия на атмосферные процессы, нейтрализация статического электричества;
- электрохимические установки и технологии: размерная электрохимическая обработка, электролиз, гальванотехника, озонные технологии;
- электровакуумные установки по обработке материалов тлеющим разрядом и нанесении покрытий;
- электромагнитные устройства для фиксации объектов в пространстве стабилизация плазменного шнура термоядерного реактора, магнитная подвеска;
- электромагнитные устройства с использованием ферромагнитных композиций и жидкостей (например, для нанесения покрытия, герметизация и т.д.).
К числу электротехнологических установок следует отнести электрические машины, электродвигатели (поскольку в них энергия электромагнитного поля преобразуется в механическую энергию), а также электросварочные аппараты и электродуговые печи. Поскольку эти устройства подробным образом рассматриваются в других дисциплинах, то в настоящем курсе их рассмотрение опускается.
Лазерные и электрофизические технологические установки и их широкое применение представляет собой одно из новейших и перспективнейших направлений научно-технического прогресса в настоящее время. История развития этого направления непродолжительна, порядка 15÷20 последних лет. Но при этом было установлено, что применение лазерных и электрофизических установок обеспечивает значительный технический, экономический и социальный эффект. Например, значительно увеличивается производительность многих технологических процессов (скорость лазерной резки металлов не менее чем в 3 раза выше скорости традиционных способов резки, а при пробивке отверстий в 10 и 100 раз). Повышается качество изделий, например, при использовании лазерной и электронно-лучевой технологии в производстве микросхем повышается выход готовой продукции, стабильности параметров, надёжности микросхем. Некоторые технологические операции могут быть выполнены только с использованием лазерных и электрофизических установок (пробивка очень малых отверстий в сверхтвёрдых материалах, получение сверхчистым металлов с помощью электронно-лучевых и электроплазменных устройств.)