
- •Нормативный документ по стандартизации ркт
- •1 Область применения
- •2 Нормативные ссылки
- •3 Термины и определения
- •4 Сокращения
- •5 Общие положения
- •6 Метод определительных испытаний цифровых сбис
- •7 Метод определительных испытаний цифровых сбис к
- •8 Метод контрольных испытаний цифровых сбис к воздействию
- •9 Метод контрольных испытаний цифровых сбис к воздействию
- •Приложение а (справочное) Типы одиночных радиационных эффектов в цифровых сбис
- •Приложение б (обязательное) Типовая последовательность испытаний цифровых сбис на
- •Приложение в (рекомендуемое)
- •Приложение г (обязательное) Обработка экспериментальных результатов, полученных при проведении определительных испытаний цифровых сбис к воздействию одиночных
- •Приложение д (справочное) Зависимости величин лпэ и пробегов от энергии тзч
Приложение б (обязательное) Типовая последовательность испытаний цифровых сбис на
ускорителях ВЭП и ТЗЧ
Типовая последовательность проведения испытаний цифровых СБИС на воздействие одиночных ВЭП и ТЗЧ КП заключается в выполнении следующих процедур:
1 Проведение контроля работоспособности СБИС.
2 Удаление (при необходимости) крышек или части корпуса над полупроводниковым кристаллом корпуса СБИС.
3 Визуальный контроль поверхности кристалла СБИС с целью выявления возможных механических повреждений и наличия защитных покрытий из компаунда или лака (при выполнении пункта 1).
4 Удаление (при необходимости) лакового защитного покрытия кристалла СБИС.
5 Проведение контроля работоспособности СБИС.
6 Подготовка оснастки для проведения испытаний на испытательной установке.
7 Прокладка линий связи (при необходимости).
8 Проверка линий связи между зоной облучения и экспериментальной комнатой.
9 Включение установки и предварительный контроль параметров потока ядерных частиц. Снятие облучения из зоны облучения СБИС.
10 Подключение образцов СБИС рядом к средствам функционального контроля и удаленного доступа.
11 Проверка функционального и параметрического теста СБИС в реальных условиях эксперимента, но в отсутствии действия излучения.
12 Установка СБИС с оснасткой в зону облучения. Пункты 10 и 11 могут выполняться после п. 12.
13 Установка средств мониторинга потока частиц (при необходимости).
14 Позиционирование (установка) СБИС в поле излучения (при необходимости).
15 Обеспечение необходимого разряжения в вакуумной камере зоны облучения (при необходимости).
16 Облучение СБИС ионами или протонами, при которых количество ОРЭ определенного типа составляет N 102, либо до предельного уровня воздействия.
17 Прекращение облучения, контроль радиационного фона и замена образца БИС ОЗУ. Повторение пп. 10…16 для нового образца или для новых значений энергий протонов или ЛПЭ ионов.
Приложение в (рекомендуемое)
Структурная схема типового рабочего места для испытаний
цифровых СБИС на ускорителях ВЭП и ТЗЧ
Структурная схема типового рабочего места для испытаний цифровых СБИС на стойкость к воздействию отдельных ВЭП и ТЗЧ КП на ускорителях протонов и ионов представлена на рисунке В.1.
1- вакуумированный ионопровод,
2- направление движения высокоэнергетических частиц,
3- разделительная фольга (при необходимости),
4- вакуумная камера (при необходимости),
5 - объект испытаний на теплопередающей коммутационной плате,
6 - устройство позиционирования объекта испытаний,
7 - средства управления устройством позиционирования,
8 - детекторы мониторинга потока частиц,
9- электроника детекторов мониторинга потока частиц,
10 - аппаратура для задания электрических режимов и проведения функционального и параметрического тестирования объекта испытаний,
11- термостатирующее устройство (при необходимости),
12 - устройство управления термостатирующим устройством (при необходимости), 13,14,15 - персональные компьютеры.
Рисунок В.1 - Структурная схема типового рабочего места для испытаний цифровых СБИС на стойкость к воздействию отдельных ВЭП и ТЗЧ КП на ускорителях протонов и ионов