Заключение.
Для решения широкого круга задач
тонкопленочной технологии разработаны
различные методы генерации потока
осаждаемого вещества, основанные на
механизмах термического испарения
(резистивное, электронно-лучевое,
импульсное лазерное, электродуговое)
и ионного распыления (катодное,
магнетронное, высокочастотные) в
несамостоятельном разряде и автономными
источниками. Проведенный анализ
физических процессов, лежащих в основе
каждого метода, позволяет выбрать
наиболее эффективный метод для решения
конкретной технической задачи и может
быть использован при разработке новых
комбинированных систем генерации
плазмы.
Список использованной литературы.
-
Бутовский К. Г., Лясников В. Н. Напыленные
покрытия, технология и оборудование.
– Саратов.: «Саратовский госуд. техн.
университет»,1999 – 117 с.;
-
Карпенко Г. Д., Рубинштейн В. Л. Современные
методы генерации осаждаемого вещества
при нанесении тонкопленочных покрытий
в вакууме. Минск: БелНИИНТИ,
1990 – 36 с.
16
