- •Технология производства материалов электронной тезники
- •Введение
- •1. Основные положения
- •1.1. Общая тематика курсовых работ
- •1.2. Объём курсовой работы
- •1.3. Содержание курсовой работы
- •1.4. Порядок разработки курсовой работы
- •1.5. Структура курсовой работы
- •1.6. Порядок рецензирования и защиты курсовой работы
- •2. Рекомендации по выполнению курсовой работы
- •2.1. Сбор материала
- •2.2. Выполнение курсовой работы
- •2.2.1. Анализ найденной информации
- •2.2.2. Составление плана курсовой работы
- •2.2.3. Рекомендации по структуре работы
- •2.2.4. Рекомендации по техническому оформлению работы
- •3. Рекомендуемая литература
- •Приложение 1
- •Перечень вопросов, которые подлежат разработке:
- •Раздел 1.
- •Раздел 2.
- •Раздел 3. Разработка предложений по совершенствованию технологических процессов производства данного материала либо контроля его параметров на предприятии
- •Приложение 3 Перечень поисковых систем и электронных библиотек
3. Рекомендуемая литература
Физический энциклопедический словарь/ Гл. ред. А.М. Прохоров. Ред. Кол. Д.М. Алексеев, А.М. Бонч-Бруевич, А.С. боровик-Романов и др. – М.: Сов. Энциклопедия, 1984. 944 с.
Батавин, В.В. Измерение параметров полупроводниковых материалов и структур/ В.В. Батавин, Ю.А. Концевой, Ю.В. Федорович. – М.: Радио и связь, 1985. – 264 с., ил. – (Измерения в электронике).
Батавин, В.В. Контроль параметров полупроводниковых материалов и эпитаксиальных слоёв/ В.В. Батавин. – М.: Сов. Радио, 1976 – 104 с.
Пирс, К. Технология СБИС: в 2-х т./ К. Пирс, А. Адамс, Л. Кац и др. Под ред. С. Зи; пер. с англ. – М.: Мир, 1986. – Т.1. – 404 с.
Таруи, Я. Основы технологии СБИС/ Я. Таруи; пер. с япон. – М.: Радио и связь, 1985. – 480 с.
Фелдман, Л. Основы анализа поверхности и тонких плёнок/ Л. Фелдман, Д. Майер; пер. с англ. – М.: Мир, 1989, - 344 с.
Юинг Г. Инструментальные методы химического анализа/ Г. Юинг; пер. с англ. – М.: Мир, 1989. - 608 с.
Смирнов, С.В. Методы исследования материалов и структур электроники: учеб. пособие/ С.В. Смирнов - Томск: Томский межвузовский центр дистанционного образования, 2006.- 179 с.
Пилипенко, В.А. Физические измерения в микроэлектронике/ В.А. Пилипенко, В.Н. Пономарь, В.А. Горушко, А.А. Солонинко. – Мн.: БГУ, 2003. – 171 с.
Методы исследования полупроводников/ Ю.В. Воробьёв, В.Н. Добровольский, В.И. Стриха. – К.: Выш. шк. Головное изд-во, 1988. – 232 с.
Глудкин, О.П. Технология испытания микроэлементов радиоэлектронной аппаратуры и интегральных микросхем: учеб. пособие для вузов./ О.П. Глудкин, В.Н. Черняев. – М.: Энергия, 1980. – 360 с.
Мазель, Е.З. Планарная технология кремниевых приборов/ Е.З. Мазель, Ф.П. Пресс. – М., «Энергия», 1974. – 384 с.
Малышева, И.А. Технология производства микроэлектронных устройств: учебник для техникумов/ И.А. Малышева. – М.: Энергия, 1980. – 448 с.
Конников, С.Г. Электронно-зондовые методы исследования полупроводниковых материалов и приборов/ С.Г. Конников, А.Ф. Сидоров. – М.: Энергия, 1978. – 136 с.
Раков, А.В. Спектрофотометрия тонкоплёночных полупроводниковых структур/ А.В. Раков. – М.: Сов. Радио, 1975. – 176 с.
Кустанович, И.М. Спектральный анализ/ И.М. Кустанович. - М.: Высшая школа. 1962. – 399 с.
Скрышевский В.А. Инфракрасная спектроскопия полупроводниковых структур/ В.А. Скрышевский, В.И. Толстой. – К.: Лыбидь, 1991. – 188 с.
Уманский, Я.С. Кристаллография, рентгенография и электронная микроскопия/ Я.С. Уманский, Ю.А. Скаков, А.Н. Иванов, Л.Н. Расторгуев. – М.: Металлургия, 1982. – 632 с.
Рентгенотехника: Справочник: в 2-х т./ Под ред. В.В. Клюева. – М.: Машиностроение, 1980. – Т.1. – 431 с.
Рентгенотехника: Справочник: в 2-х т./ Под ред. В.В. Клюева. – М.: Машиностроение, 1980. – Т.2. – 383 с.
Киттель, Ч. Введение в физику твёрдого тела/ Ч. Киттель. – М.: Наука, 1978. -789 с.
Русаков, А. Рентгенография металлов: учебник/ А. Русаков – М.: Атомиздат, 1976. – 479 с.
Лиопо, В.А Рентгеновская дифрактометрия: учеб. пособие/ В.А. Лиопо, В.В. Война. – Гродно: ГрГУ, 2003. – 171 с.
Быстров, Ю.А. Технологический контроль размеров в микроэлектронном производстве/Ю.А. Быстров, Е.А. Колгин, Б.Н. Котлецов. – М.: Радио и связь, 1988. – 168 с.
Рид, С. Электронно-зондовый микроанализ/ С. Рид. – М.: Мир, 1979. – 423 с.
Практическая растровая электронная микроскопия/ Под ред. Дж. Гоулдстейна и Х. Яковица. – М.: Мир, 1978. - 656 с.
Горелик, С.С. Рентгенографический и электроннооптический анализ/ С.С. Горелик,Л.Н. Расторгуев, Ю.А. Скаков. – 2-е изд. – М.: Металлургия, 1970. – 366 с.
Боровский, И.Б. Локальные методы анализа материалов. И.Б. Боровский, Ф.Ф. Водоватов, А.А. Жуков, В.Т. Черепин. – М.: Металлургия, 1973. – 296 с.
Горшков, М.М. Эллипсометрия/ М.М. Горшков. – М.: Сов. Радио, 1974. – 200с.
Аззам, Р. Эллипсометрия и поляризованный свет/ Р. Аззам, Н. Башара; пер с англ. – М.: Мир, 1981. – 583 с.
Неволин, В.К. Зондовые нанотехнологии в электронике/ В.К. Неволин. – М.: Техносфера, 2005.
Миронов, В. Л. Основы сканирующий зондовой микроскопии/ В.Л. Миронов. – 2004. 144 с.
Ратхор, Т.С. Цифровые измерения. Методы и схемотехника/ Т.С. Ратхор. – М.:Техносфера, 2006. – 392 с.