Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Б Д З / БДЗ по БЖД.doc
Скачиваний:
133
Добавлен:
16.04.2013
Размер:
73.73 Кб
Скачать

Московский Институт Электронной Техники

(Технический Университет)

Большое домашнее задание

по предмету

Безопасность жизнедеятельности

Вариант 4

Студентки гр.ЭТМ-33

Егановой С.Ю.

Преподаватель

Рябышенков A.C.

Москва

2001

Безопасность жизнедеятельности – это комплексная науная дисциплина, изучающая закономерности системы “Человек – окружающая среда” с целью оптимизации ее по параметрам безопасности.

Содержание

Задание 1

    1. Участок эпитаксии (1.4)

    2. Расчет неободимого воздухообмена (5)

    3. Задача (4)

Задание 2

    1. Методика расчета ПДВ для низких выбросов (4)

    2. Методы контроля и приборы для измерения концентрации пылеобразных примисей в атмосфере (29)

    3. Отбор проб в воздухе (54)

Список использцуемой литературы

Задание 1

    1. Участок эпитаксии

Будем рассматривать методику анализа ПЭБ в соответствии со схемой:

  1. Декомпозиция анализируемых объектов с целью выявления материальных носителей потенциальной опасности.

Предметы труда (исходные материалы)

Исходные материалы: полупроводниковые слои, в качестве которых используются пленки кремния.

Средства труда: машины, орудия, сооружения, здания, энергия.

На этапе заготовительных операций используется следующее оборудование: установки с вертикальным реактором УИЭС–1 , УИЭС–2, УИЭС –2П–В;

Продукты труда, полуфабрикаты

- полупроводниковая ИМС, на которой в процессе эпитаксиального наращивания получают транзисторные структуры;

Технологический процесс, операции, действия

Наиболее широко для образования эпитаксиальных слоев применяется хлоридный метод, при котором пленки кремния получают путем восстановления его тетрахлорида в среде водорода, причем полупроводниковую пластину подвергают предварительному газовому травлению смеси HCL и H2. В процессе роста эпитатаксиальных слоев легко достигается легиронание их примесями, которые подаются в реакционную камеру вместе с газами, несущими полупроводниковое соединение. При этом легирование осуществляется одним из следующих методов:

- введением в реакционную камеру примеси отдельным

газовым потоком. Так, в качестве донорных примесей вводят фосфин PH3, арсин AsH3, а в качестве акцепторной примеси - диборан;

- добавлением к жидкому четыреххлористому кремнию летучих примесей (PCl5 или SbCl5), которые, испаряясь вместе с ним, поступают в реакционную камеру.

Процесс образования эпитаксиальных слоев происходит в реакционной камере при температуре 1150 - 1300 оC. Разогрев реакционной камеры производится энергией токов ВЧ.

Производственная среда

В помещении, где проводятся работы с силаном, недопустимо наличие открытого пламени, вне помещения работы необходимо проводить с инструментом в искробезопасном исполнении. Вследствие специфичности операции эпитаксиального наращивания ее можно проводить в отдельном производственном помещении, тем самым не подвергаясь и не оказывая влияния на дальнейший процесс изготовления печатных плат.

Природно-климатическая среда

Предприятие находится в средней полосе РФ. Максимально возможная температура в течении года +30  +35С, минимально возможная –35  – 40С. Средняя летняя температура +25С, средняя зимняя –25С . В зимнее время большую часть дня необходимо искусственное освещение.

Тут вы можете оставить комментарий к выбранному абзацу или сообщить об ошибке.

Оставленные комментарии видны всем.

Соседние файлы в папке Б Д З