Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Технология многослойных печатных плат

..pdf
Скачиваний:
41
Добавлен:
15.11.2022
Размер:
9.99 Mб
Скачать

та: централизованное управление ГЛ, в том числе их автоопера­ торами, от одной управляющей машины и децентрализованное управление с помощью специально разрабатываемых управляю­

щих вычислительных комплектов (УВК) для

каждой

ГЛ на ба­

зе микроЭВМ. Анализ показал преимущества

второго

варианта

структуры.

В [39] описана система управления автоматизированной ли­ нией АГ-44. Эта система выполнена на базе технических средств КТС ЛИУС-2 (КТС для локальных информационно-управляющих систем на базе микросхем с повышенной степенью интеграции в микропроцессоров). Созданная система обеспечивает: управление автооператорами линии по циклограммам; управление темпера­ турными режимами ванн; включение — отключение установок фильтрации растворов и струйной промывки и т. д. При разработ­ ке структурной системы управления, исходя из требований повы­ шенной надежности и живучести системы, задачи управления, сбо­ ра, первичной обработки информации, диагностики, подготовки и редактирования программ были разделены между отдельными микропроцессорными блоками управления, а также была преду­ смотрена возможность ручного управления ГЛ в случае от­ каза системы с пункта дистанционного управления. Струк­ турная схема системы управления приведена на рис. 11.1: ЦП — центральный процессор; ОА — автооператор; ПА — локаль­ ная автоматика; КС-5205 и КС-5206 — контроллеры связи; БУ — блок управления; ВТА — видеотерминал алфавитный.

Управление автооператорами линии АГ-44 осуществляется от­ дельными блоками управления с помощью битового программно-

к У В К

Рис. 11.1. Структурная схема управления линий АГ-44

торой ПО ГАП представляется в виде совокупности взаимодейст­ вующих программных модулей (ПМ). Каждый модуль выполня­ ет одну функцию ГАП, следовательно, выбор необходимых функ­ ций осуществляется введением в ПО ГАП соответствующих ПМ. Взаимодействие ПМ обеспечивается управляющей программой ГАП. Следует отметить, что требования снижения затрат на раз­ работку ПО ГАП предполагает построение ПО на базе стандарт­ ных операционных систем.

12. ТРАВЛЕНИЕ МЕДИ

12.1. ОБЩИЕ СВЕДЕНИЯ

Травление меди — важнейшая технологическая операция, оп­ ределяющая качество печатных проводников. Брак, допущенный при выполнении этой операции, практически не может быть ис­ правлен. Типичные виды брака: значительное подтравливание (больше, чем на 1/3 ширины проводника) и нарушение целостно­ сти проводников в результате перетравливания. Травление меди— сложный окислительно-восстановительный процесс, в котором окислителем является травильный раствор, переводящий медь из металлического состояния в ионное.

Травильные растворы должны: быстро и равномерно травить за­ готовку по всему полю при сравнительно невысокой температуре; не давать нерастворимых продуктов реакции; не поглощаться по­ верхностью основания; обеспечивать стабильность параметров про­ цесса травления при эксплуатации раствора; обладать высокой емкостью по меди; не давать вредных испарений при работе и до­ пускать возможность регенерации и полной нейтрализации стоков. Травитель также должен быть недефицитным и по возможности дешевым. Выбор травильных растворов зависит от нескольких факторов: типа применяемого резиста (резист может быть несов­ местим с данным раствором); типа оборудования (для травильных растворов, выделяющих при травлении вредные газы, необходимы герметизированные установки); требуемого коэффициента под* травливания; скорости травления.

Постоянно совершенствуются как собственно процесс травле­ ния, так и методы контроля его качества. Нежелательность дли­ тельного воздействия агрессивных травильных растворов на пла­ ты, стремление к повышению производительности труда вынуж­ дает предельно сокращать продолжительность этого процесса.

Травление меди может выполняться следующим способом: по­ гружением платы в раствор, наплескиванием травильного раст­ вора на плату с применением барботажа и подачей травильного раствора на плату в виде струй. Т р а в л е н и е п о гр у ж е н и е м — мед­ ленный процесс и приводит к большому подтравливанию. Т р а в л е ­ н и е н а п л е с к и в а н и е м , например с помощью лопастей, погружае­ мых в травильный раствор, обеспечивает лучшее качество травле*

184

ния. Однако при наплескивании коэффициент полезного использо­ вания раствора весьма низок: из общего количества наплескивае­ мого раствора в процессе травления активно участвует около 1% раствора. Травление с барботированием характеризуется лучшим использованием раствора. В струйных травильных установках активно участвует весь объем раствора и скорость травления во много раз больше, поэтому в производстве ПП широкое примене­ ние нашли, в основном, струйные методы травления.

Конструкции установок обеспечивают непрерывное, равномер­ ное омывание всей поверхности постоянно сменяемыми порциями раствора, нагретого до заданной температуры, и энергичное пере­ мешивание его в рабочей камере, что интенсифицирует процесс травления по всей площади рисунка схемы и исключает стравли­ вание узких проводников на платах. Для уменьшения бокового подтравливания профиля элементов схемы оптимальным является перпендикулярное воздействие распыленных струй травящего раствора. В современном производстве ПП широко применяются конвейерные струйные установки двустороннего травления с ши­ рокими конвейерами и горизонтальным расположением обраба­ тываемых плат. Расположенная на роликах конвейера плата пе­ ремещается через травильную камеру. Из неподвижных или дви­

жущихся

возвратно-поступательно форсунок поверхность платы

омывается

распыленным

травильным

раствором,

подаваемым

с

помощью

специального

насоса. При

этом верхняя

плоскость

и

центр платы протравливаются несколько быстрее из-за образова­ ния подушки жидкости. В процессе травления ПП возникают две проблемы: загрязнение сточных вод и потребление большого объе­ ма воды. Для уменьшения концентрации ионов меди в сточных во­ дах необходимо между модулями обработки предусмотреть от­ жимные валики или воздушные «ножи», удаляющие с поверхности платы остатки химических растворов после каждой операции. Во­ да для промывки должна поступать при заданном давлении, при его понижении расход воды возрастет.

Для травления меди используется ряд растворов. Травильные растворы на основе хлорной меди являются наиболее перспектив­

ными

[43]. Они могут быть как щелочными, так и кислыми.

В

процессе травления избегают возможного осаждения про­

дуктов реакции на твердой поверхности соответствующим подбо­ ром состава травильного раствора. При взаимодействии с поверх­ ностью раствор должен давать растворимые соединения металлов, для чего иногда в состав травильных растворов вводят вещества, которые могут стать лигандами растворимых комплексных соеди­

нений,

например,

CuO + 4NH4OH-^[Cu(NH3)4]2+-f4H20.

идущих

При

травлении

меди с ПП

следует избегать реакций,

с выделением газов. Пузырьки

газа могут задерживаться

на по­

верхности, искажать ее форму после травления. Поэтому травиль­ ные ванны содержат окислители, которые восстанавливаются без выделения газов и тем самым исключают восстановление водоро­ да и его выделение в газообразном состоянии.

Применение щелочных растворов получило развитие лишь с начала 70-х гг. Такие растворы имеют преимущество по сравне­ нию с кислыми — совместимость с металлическим резистом — сплавом ОС. В щелочных травильных растворах на основе хлор­ ной меди используются карбонаты аммония, которые при взаимо­ действии со свинцом и оловом образуют нерастворимые солщ Фо­ торезисты на основе ПВС и СПФ стойки к воздействию щелочных медно-аммиачных травителей. Нельзя травить ПП, защищенные СПФ водно-щелочного проявления, холодной эмалью (ХЭ), ще­ лочерастворимыми красками. Примерные составы щелочных тра­ вильных растворов на основе хлорной меди:

 

 

Медно-щелочные растворы

 

 

 

 

Медь

хлорная

СиСЬ,

г/л

60... 70

60

70

А м м о н и й

углекислый

(NH4)2C 03, г/л

2 1 0 ...230

 

Аммоний хлористый NH4CI, г/л

1 0 0

120

100

120

Соли

углеаммонийные,

г/л

 

370

390

 

 

Медно-аммиачные растворы

 

 

 

 

Медь

хлорная

СиС12, г/л

150

160

60...,70

Аммоний

хлористый (NH4) 2C1, г / л

1 0 0 ,... ПО

1 0 0

110

Аммиак, 25%-ный NH4OH, г/л

145

150

145.... 160

Процесс

травления

меди в щелочном

растворе

(температура

40° С, pH = 8,5 9,1) протекает по реакции

Cu-f Си (NH3)4C12+ 1/202 + (NH4)2C 03 + 2NH4C1-*

-+2CU (NH3)4C1 + 2H20 + C02.

Уменьшение исходной концентрации хлорной меди позволяет повысить предел насыщения раствора стравленной медью без об­ разования осадка. При этом происходит снижение концентрации ионов хлора, оказывающих большое влияние на скорость травле­ ния. Поэтому для поддержания концентрации ионов хлора в раст­ вор вводится хлористый аммоний. При содержании меди в тра­ вильном растворе 60 ...85 n/л он становится мутным, и иногда про­ исходит выпадение осадка. Периодическое удаление осадка после отстаивания декантацией и введение углекислого аммиака поддер­ живает постоянное время травления.

В процессе травления требуется периодическая корректиров­ ка раствора слоями ам,мон.ия: при накоплении 9 0 ...10 л/л страв­ ленной меди производится корректировка путем замены 0,5 объ­ ема отработанного травильного раствора новым раствором (ам­ моний хлористый NH4C1 ПО г/л, аммоний углекислый (NH4)2C03 220 г/л). Хлорная медь используется только для пер­

воначального приготовления раствора. При снижении pH

ниже

8,3 и перерывах в работе раствор становится неустойчивым,

возни­

кает опасность выпадения осадка. После травления платы промы­ вают в 5 10%-ном растворе аммиака для удаления травителя. Промывка водой запрещается, так как на поверхности платы об-

186

разуются нерастворимые продукты гидролиза солей меди. Особен­ ность процесса травления прецизионных МПП — получение ри­ сунка внутренних слоев с шириной проводников и зазорами меж­

ду ними до 150 мкм и сохранение блеска

покрытия олово — сви­

нец при травлении рисунка внешних слоев.

 

Травление внутренних слоев прецизионных МПП разделяется на дифференциальное травление и травление с металлорезистом олово — свинец. Сущность дифференциального метода заключает­ ся в том, что, имея фольгу толщиной 5 мкм и осажденное на про­ воднике медное покрытие (35... 40 мкм), медь стравливается на глубину фольги по всей поверхности платы. Однако -при диффе­ ренциальном травлении частыми дефектами являются нечеткость краев проводника и его перетравливание из-за различной толщи­ ны осадка меди на поверхности платы. С целью устранения недо­ статков, возникающих при дифференциальном травлении, и повы­ шении качества печатного рисунка слоев МПП используется ме­ таллический резист олово — свинец, который защищает элементы печатного рисунка. Геометрия проводника имеет оптимальный профиль прямоугольной формы, поэтому для получения внутрен­ них слоев прецизионных МПП принят вариант позитивного полу­ чения рисунка с использованием защитного металлорезиста ОС

[8].

Для определения оптимального режима травления исследова­ на зависимость бокового подтравливания проводников от pH травильного раствора. При исследовании зависимости внешнего вида покрытия ОС от pH травильного раствора оказалось, что при pH = 8,5 9,4 блеск металлического резиста отсутствует по всей

поверхности

проводящего

рисунка, при pH = 9,5... 9,8 блеск исче­

зает на отдельных его участках, а при

рН=10 10,2

блеск ме­

таллорезиста

сохраняется.

Внешний вид

блестящего

покрытия

ОС-61 после травления сохраняется при рН >10, однако оптималь­ ное значение подтравливания наблюдается при рН = 8,9 ... 9,5. Ком­ промиссное решение — это травильный раствор с pH =8,5 9.

 

Корректировка медно-щелочного травильного раствора произ­

водится углеаммонийными солями — это смесь

различных карбо­

натов аммония, в основном аммония

двууглекислого — NH4HC03

(75

80%) и аммония углекислого

(NH4)2C 03

(6... 12%). Вместо

220

г/л (NH4)2C 03 в раствор вводится 380 г/л

углеаммонийных

солей. Отработанный медно-щелочной травильный раствор подкис­ ляется, медь извлекается из него по реакции цементрации на стали. Раствор подкисляется НС1 до pH = 2, затем в него погружаются стальные стружки. Окончание процесса определяется по отсутст­ вию выделения медного осадка на контрольном образце из стали марки Ст. 3, погруженном в раствор на 15 мин. Раствор отделяется от осадка декантацией, нейтрализуется известковым молоком или 10%-ным раствором соды до рН = 6,5 8,5 и после отстаивания сливается в канализацию.

Химический способ утилизации отработанных растворов приво­ дит к большому расходу химических реагентов, потере дефицитных

Материалов, простою специального технологического оборудова­ ния. В связи с этим в 70-х гг. разработан способ регенерации, который осуществляется путем электрохимического выделения на: титановом катоде отравленной меди в порошкообразной форме,, а на графитовом аноде— азота и кислорода:

на титановом катоде

Си (NH3)4С12 + 2е-*-Си + 4NH3 + 2С1-; Cu(NH3)4Cl2 + e^C u(N H 3)2Cl + 2NH3+Cl-;

на графитовом аноде

2NH3 + 60Н -—6e-*N2 + 6Н20 ; 40Н -—4в->02 + 2Н20.

Концентрацию меди в растворе рекомендуется поддерживать* 25 ... 65 г/л; плотность тока при регенерации 30... 35 А/дм2; время цикла регенерации 2 ... 4 мин; общая токовая нагрузка на электро­ лизерах не менее 6000 А; производительность по извлечению меди не менее 4000 г/ч.

Медно-аммиачные травильные растворы на основе хлорной5 меди. Константа нестойкости аммиачного комплекса двухвалент­ ной меди составляет [Cu]2+[iNH3] 4/[Cu(NH3) 4]2+ = 2-10-13. В ре­ акцию травления может вступать образовавшийся комплекс меди, Си + Си (NH3)4С1г->2Си (NH3)2С1.

Ввиду большой устойчивости этого комплекса металлическая? медь при доступе воздуха растворяется в травильном растворе

Cu+ l/202+2NH4Cl +NH4OH-^-CU (NH3)4C12 + 3H20.

Если рассматривать щелочной медно-аммиачный травильный раствор, в состав которого входит хлорная медь (в виде медно-ам­ миачного комплекса), аммоний хлористый, аммоний углекислый^ аммиак водный, то схему травления можно представить двумя по­ следними реакциями. В результате проведенных исследований был выбран раствор:

CuCl2-2 H20 , г/л

150.. . 160

NH4CI,

г/л

1 0 0 ... ПО

NH4OH,

25%-ный мл

145 150

При определении зависимости скорости травления от содержа­ ния меди в травильном растворе было установлено, что при кон­ центрации меди в растворе 20... 60 г/л скорость травления увели­ чивается от 12 до 25 мкм/мин, а при 60... 80 г/л меди скорость травления постоянна и приблизительно 25... 27 мкм/мин. При со­ держании меди в растворе свыше 80 г/л скорость травления? уменьшается вследствие разрушения комплексов в растворе. Мед­ но-аммиачные растворы могут работать в широком диапазоне рН =

= 8... 13. Однако при рН >9,5 сплав ОС темнеет

и

увеличивается

подтравливание, а при pH < 8

травильный раствор

разлагается it

выпадает

гидроокись меди.

Система

корректировки — это под­

держание

концентрации ионов меди,

хлора

и

pH раствора

188

в

оптимальных пределах путем добавления корректирующе­

го

раствора в травильную камеру. Концентрация меди в

растворе может определяться по

его плотности,

так

как

она

пропорциональна изменению

концентрации ионов

меди.

При достижении верхнего предела концентрации меди часть тра­ вильного раствора удаляется и заменяется эквивалентным коли­ чеством корректирующего раствора, содержащего хлористый ам­ моний и гидроокись аммония.

Недостатком большинства этих травильных растворов явля­ ется высокая концентрация аммиака, а это требует частой кор­ ректировки, налагает определенные требования на конструкцию оборудования. Большое парциальное давление аммиака над раст­ вором приводит к его сильному испарению, что снижает pH и способствует образованию нерастворимых солей меди. Поэтому требуется частая корректировка травителей аммиаком. Для сни­ жения давления аммиака используются растворы, содержащие со­ ли аммония, углекислый аммоний, хлористый аммоний.

12.3.КИСЛЫЕ РАСТВОРЫ НА ОСНОВЕ ХЛОРНЫХ МЕДИ

ИЖЕЛЕЗА (ЖМХ)

Ранее широко использовались кислые травильные растворы на основе хлорного железа. Однако фенольные смолы диэлектрика частично обладают свойством ионообменных смол и адсорбируют ионы трехвалентного железа, поэтому в производственных услови­ ях на платах часто снижается сопротивление изоляции. Большее распространение получили модифицированные растворы. Модифи­ кация производится введением дополнительных окислителей типа хлорной меди и хлоридов щелочных металлов, влияющих на ско­ рость и качество травления. В смешанных растворах взаимодей­ ствие с медью приводит к ускоренному образованию на поверхно­ сти металла пленки труднорастворимой однохлористой меди, за­ трудняющей дальнейшее травление. Введение же в раствор хлори­ дов щелочных металлов и аммония, образующих хорошо раство­ римые комплексы с одновалентной медью и соляной кислотой, значительно улучшает характеристику травильных растворов. Ин­ тенсификация процесса травления меди в растворах с такими при­ садками обусловлена облегчением второй, химической стадии окисления меди (удаление с поверхности с последующим окисле­ нием первично образующейся однохлористой меди) и повышени­ ем степени участия СиС12 в травильном процессе. По мере выра­ ботки смешанного травильного раствора (старения) доля участия СиС12 в суммарной скорости травления увеличивается. После из­ расходования 50% FeCl3 травление меди происходит уже в основ­ ном за счет СиС12, первоначально находившейся в растворе и об­ разованной в процессе травления 2FeCl3 + Cu~>2FeCl2-fCuCl2. В нашей стране разработан железомеднохлоридный раствор, пред­ назначенный для травления меди при использовании в качестве

защитных покрытий фоторезистов на основе СПФ и трафаретных красок:

Железо

хлорное

FeCl2,

г/л

103

Хлорная

медь СиС12, г/л

148

Хлористый

калий

КС1,

г/л

180

Соляная

кислота

НС1,

мл/л

30 ..

Хлористое

железо

FeCl,

г/л

24..

Г-'ежим работы: температура 40° С, рН = 0

1. Продолжитель­

ность одного цикла регенерации 2 ... 5 мин. При

электрохимичес­

ком процессе протекают реакции:

 

на катоде

 

 

 

 

CuCI2 + 2e^Cu + 2Cl-; F e C b + ^ F e C b + Cl";

на аноде

FeCb-!-Cl--^FeCi3+e; 2С1-->С12 + 2е.

Выделяющийся на аноде хлор требует особого внимания, так как он токсичен. Хлор попадает в наданодное пространство (при откачке хлора эжектором), имеются устройства, через которые поступает атмосферный воздух взамен откаченного хлора. По исте­ чении заданного времени процесс осаждения прерывается, като­ ды выводятся из катодных коробок и перемещаются в механизм очистки их от медного осадка. Осаждение меди происходит на ти­ тановом катоде, аноды графитовые, катодная плотность тока 15...

... 20 А/дм2, выход по току 55%.

Кислые травильные растворы, используемые при изготовлении ПП, приведены в табл. 12.1 [44].

Проводятся исследования по созданию безотходной технологии при травлении меди и применению заряженной угольной суспен­ зии в качестве переносчика положительного заряда на медную поверхность [45]. Исследования были проведены в растворе, не содержащем ионов хлора, так как иначе происходит интенсивное разрушение углеродного материала из-за быстрого внедрения ио­

нов хлора в

суспензированный

уголь вследствие обменной реак-

t а б л и ц а

12.1

 

 

 

 

 

 

 

 

Характеристика кислых травителей

ПП

 

 

 

 

 

 

Температура

Насыщае­

Скорость

 

 

 

Травитель

раствора,

мость

раст­

травления,

 

 

 

°С

вора по

меди,

мкм/мин

 

 

 

 

 

г/л

 

FeCl3 450 ... 600, г/л

3 5 ...4 5

4 0 ...4 5

3 0 ...4 0

HCI 1 ...5%

(по

объему)

40. ..45

30

 

1 2 ...2 0

lNH4)2S20 8

220

 

240 г/л

 

H2S 0 4 16

20

мл/л

2 5 ...3 2

35

 

2 0 ...3 0

Сг03 240

480

г/л

 

H2S 0 4 30

180

 

г/л

40....45

140

 

5 0 ...5 5

CuCI2 135... 150 г/л

 

НС1 20... 30 мл/л

 

 

 

 

NH4C1 140

150 г/л