- •Воронеж 2015
- •Введение
- •1. Структура и физические свойства точечных, линейных и двумерных нанообъектов
- •1.1. Фундаментальные явления
- •1.2. Квантовое ограничение
- •1.3. Баллистический транспорт носителей заряда
- •1.4. Туннелирование носителей заряда
- •2. Элементы низкоразмерных структур
- •2.1. Свободная поверхность и межфазные границы
- •2.2. Сверхрешетки
- •2.3. Квантовые ямы (колодцы)
- •2.4. Модуляционно-легированные структуры
- •3. Методы изготовления нИзКоРазмеРных структур (нанотехнология)
- •3.1. Традиционные методы осаждения пленок
- •3.1.1. Химическое осаждение из газовой фазы
- •3.1.2. Молекулярно-лучевая эпитаксия
- •3.2. Нанолитография
- •Электронно-лучевая литография
- •3.3. Нанопечать
- •4. Образование низкоразмерных структур в СаморегулирующиХся процессАх
- •4.1. Самоорганизация в объемных материалах
- •4.2. Нанокристаллиты в неорганических материалах
- •4.3. Самоорганизация при эпитаксии
- •4.4. Формирование наноструктурированных материалов
- •4.4.1. Пористый кремний
- •4.4.2. Пористый оксид алюминия и структуры на его основе
- •4.4.3. Углеродные нанотрубки
- •5.2. Просвечивающая электронная микроскопия
- •5.3. Рентгеновский микроанализ
- •5.4. Электронная оже-спектроскопия
- •6. Электронные приборы на основе низкоразмерных структур
- •7. Методы изготовления и структура
- •7.1. Рентгеновский микроанализ
- •7.2. Морфология поверхности пленок-композитов на основе SnO2
- •8. Физические свойства
- •На их основе
- •8.1. Механизмы газовой чувствительности полупроводниковых слоев диоксида олова
- •8.2. Влияние размера зерна в поликристаллических пленках диоксида олова на механизм газовой чувствительности
- •8.3. Газовая чувствительность пленок-композитов на основе диоксида олова
- •Заключение
- •Библиографический список
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
4. Образование низкоразмерных структур в СаморегулирующиХся процессАх
4.1. Самоорганизация в объемных материалах
Самоорганизация - процесс упорядочения элементов одного уровня в системе за счёт внутренних факторов, без внешнего специфического воздействия (изменение внешних условий может также быть стимулирующим либо подавляющим воздействием).
Спонтанная самоорганизация в объеме и на поверхности твердого тела является эффективным нанотехнологическим средством создания квантовых шнуров и квантовых точек. Из числа таких процессов наиболее значимым и часто используемым является процесс спонтанной кристализации. Закономерности этого процесса определяются как индивидуальными физико-химическими свойствами среды, в которой он протекает, так и внешними условиями, в которых эта среда находится.
Самоорганизация — это процесс, приводящий к определенному упорядоченному расположению взаимодействующих атомов в твердом теле, соответствующему минимуму потенциальной энергии данной атомной системы. Например, процесс кристаллизации аморфных пленок.
Образование поверхности зародышей требует совершения над системой работы, в то время как формирование кристаллического объема зародышей высвобождает энергию в системе. Изменение свободной энергии имеет максимум для кластера с критическим радиусом
, (4.1)
где σ* - удельная поверхностная энергия, Δg – изменение энергии системы.
Зарождение кристаллических кластеров с радиусом меньше и больше критического требует меньшего изменения свободной энергии, чем для кластера критического размера, и система в таких условиях оказывается нестабильной. Образующиеся вследствие тепловых и структурных флуктуации кластеры с отличными от критического радиусами тут же распадаются. Между тем всегда существует некоторое динамически равновесное количество таких кластеров.
Зародыши с критическим размером имеют благоприятные энергетические условия для последующего роста. Скорость образования кристаллитов vn пропорциональна концентрации зародышей с критическим размером и скорости их роста:
vn ~ exp(-ΔGcr/kBT)exp(-Ea/kBT), (4.2)
где ΔGcr - изменение свободной энергии при образовании критического зародыша, kB - постоянная Больцмана, Т - абсолютная температура. Член exp(-Ea/kBT) учитывает вклад диффузии атомов в образование зародышей и их последующий рост. Он характеризуется энергией активации Еа. Поскольку величина ΔGcr обратно пропорциональна T2, то скорость образования кристаллитов зависит от температуры как ехр(-1/T3). Очевидно, что зарождение каждой определенной кристаллической фазы происходит в узком температурном интервале, ниже которого ничего не происходит, а выше процессы образования и распада зародышей протекают настолько быстро, что не оставляют возможности для роста даже зародышам с критическими размерами.
Спонтанная кристаллизация широко применяется для создания структур с квантовыми точками без использования литографических методов. С ее помощью формируют нанокристаллиты как в неорганических, так и в органических материалах.