- •Аннотация
- •Содержание
- •Введение
- •Описание структуры, свойств и применения селенида ртути
- •Описание селенида ртути
- •Исходные данные
- •Анализ синтеза соединения HgSe из газообразных компонентов
- •Расчет термодинамических величин для основного процесса
- •Определение температурного диапазона синтеза соединения HgSe
- •Анализ процессов сублимации и испарения исходных компонентов
- •Анализ процесса испарения Hg
- •Анализ процесса сублимации Se
- •Построение p-t-диаграмм
- •Определение термодинамических условий проведения процесса
- •Оценка возможности окисления компонентов
- •Заключение
- •Список литературы
Анализ процесса сублимации Se
Рассчитаем значения основных термодинамических параметров для сублимации селена.
Реакция:
Примеры расчета:
Т.к. , то:
;
Для T=843 К:
;
Таблица 4: Значения рассчитанных термодинамических величин для Se
T,K |
H, Дж/моль |
S, Дж/(моль*K) |
G, Дж/моль |
ln(kp3) |
T=298 |
68350 |
79,5 |
44659 |
-18,034 |
Т=ТплSe=494 |
67180,94 |
76,59 |
29345,71 |
-7,149 |
Т=ТрабHgSe =843 |
61540,82 |
66,62 |
5378,75 |
-0,768 |
Т= ТплHgSe =1043 |
59855,94 |
64,83 |
-7759,88 |
0,895 |
Рис. 5. Температурная зависимость равновесных давлений паров Se
Выбираем расчетную температуру кипения Se
Tрасч=909,1 K
Погрешность получившейся температуры составляет 4,6 %
Построение p-t-диаграмм
Термодинамические расчеты равновесий трех приведенных процессов позволяют построить первое приближение P-T-диаграмм для соединения HgSe в виде линий трехфазных равновесий в системе. Реальные диаграммы состояния отличаются от расчетных только в области температур, близкой к температуре плавления химического соединения.
В первом приближении процессы формирования различных типов дефектов в полупроводниковых химических соединениях можно считать напрямую зависящими от соотношения давлений.
Расчет стехиометрических давлений и давлений на границах области гомогенности выполним путем решения систем уравнений при каждой из анализируемых температур.
Примеры расчета (в примере представлены расчеты для Т=494):
Решая систему, получим:
4,637
6,33
Таблица 5: Значения давлений компонентов Hg и Se на границах области гомогенности и на линии стехиометрии
T |
lg(PHg)гогHg |
lgPHgстех |
lg(PHg)гогSe2 |
lg(PSe2)гогSe2 |
lgPSe2стех |
lg(PSe2)гогHg |
298 |
-5.597 |
-14.692 |
-14.356 |
-15.644 |
-14.992 |
-33.183 |
494 |
-1.367 |
-6.193 |
-6.334 |
-6.21 |
-6.493 |
-16.137 |
843 |
1.2 |
-0,889 |
-1.152 |
-0.667 |
-1.191 |
-5.371 |
1043 |
1.87 |
0.535 |
0.264 |
0.78 |
0.234 |
-2.435 |
Рис. 6. P-T-диаграмма селенида ртути в координатах lg(PA) – 1000/T
Рис. 7. P-T-диаграмма селенида ртути в координатах lg(PB2) – 1000/T
Оценка диапазона изменения отношения давлений в пределах области гомогенности фазы HgSe при рабочей температуре позволяет правильно выбрать соотношение давлений компонентов для создания определенных электрофизических свойств формируемого материала. Например, для HgSe при температуре 843 К:
Это значит, что у HgSe может образоваться как n-тип электропроводности, так и p-тип электропроводности. Нам необходимо получить n-тип электропроводности, поэтому выберем соотношение давлений, при котором будет образовываться донорный эффект.
Условие для парциальных давлений: .