- •К.И. Таперо, в.Н. Улимов, а.М. Членов Радиационные эффекты в кремниевых интегральных схемах космического применения Аннотация
- •Содержание
- •Введение
- •1 Основы физики взаимодействия ионизирующих излучений с полупроводниками
- •1.1 Краткое описание радиационных характеристик в окружающем пространстве
- •1.1.1 Радиационные условия в космическом пространстве Внешние воздействующие факторы космического пространства
- •Источники ионизирующих излучений в космическом пространстве
- •1.1.2 Ионизирующие излучения ядерного взрыва
- •1.1.3 Ионизирующие излучения атомных электростанций
- •1.2 Величины, характеризующие ионизирующее излучение и его взаимодействие с веществом
- •1.2.1 Некоторые величины и единицы, характеризующие ионизирующее излучение и его поле
- •1.2.2 Некоторые величины и единицы, характеризующие взаимодействие ионизирующего излучения с веществом
- •1.2.3 Некоторые дозиметрические величины и единицы
- •Определение поглощенной дозы при постоянном значении лпэ ионизирующих частиц
- •Определение поглощенной дозы с учетом изменения лпэ ионизирующих частиц по мере прохождения их через образец
- •1.2.4 Некоторые величины и единицы, характеризующие изотопные источники ионизирующих излучений
- •1.3 Физические процессы при взаимодействии ионизирующих излучений с материалами электронной техники
- •1.3.1 Первичные радиационные эффекты при воздействии проникающей радиации на полупроводниковые материалы
- •1.3.2 Смещение атомов из узлов решетки при воздействии ионизирующих излучений
- •Смещение атомов при облучении нейтронами
- •Смещение атомов при облучении заряженными частицами
- •Смещение атомов при облучении гамма-квантами
- •1.3.3 Ионизация при воздействии проникающей радиации на полупроводниковые материалы Ионизация при облучении нейтронами
- •Ионизация при облучении заряженными частицами
- •Ионизация при облучении гамма-квантами
- •Эффект усиления дозы
- •1.3.4 Ядерные превращения при воздействии ионизирующих излучений
- •1.3.5 Термостабильные радиационные центры в полупроводниках
- •1.3.6 Изменение электрофизических параметров полупроводниковых материалов при радиационном облучении
- •2 Изменение электрофизических параметров биполярных приборных структур вследствие введения структурных дефектов при радиационном облучении
- •2.1 Диодные структуры
- •2.2 Транзисторные структуры
- •2.3 Устойчивость радиационных изменений электрических параметров полупроводниковых приборов
- •3 Дозовые ионизационные эффекты в структуре Si/SiO2 и их влияние на характеристики полупроводниковых приборов и микросхем
- •3.1 Особенности строения структуры Si/SiO2
- •3.1.1 Особенности строения диоксида кремния
- •Кристаллические формы SiO2
- •Аморфный диоксид кремния
- •Дефекты в диоксиде кремния, отвечающие за накопление заряда
- •3.1.2 Особенности строения границы раздела Si/SiO2 Структура границы раздела
- •Дефекты на границе раздела Si/SiO2, отвечающие за накопление заряда
- •3.1.3 Влияние водорода и водородсодержащих соединений на свойства структуры Si/SiO2
- •3.2 Электрические методы исследований заряда в оксиде и плотности поверхностных состояний
- •3.2.1 Метод вфх
- •3.2.2 Метод подпороговых вах
- •3.2.3 Методы, основанные на измерении надпороговой вах транзисторов
- •3.2.4 Метод накачки заряда
- •3.3 Накопление и релаксация зарядов в структуре Si/SiO2 при радиационном облучении и отжиге
- •3.3.1 Общее описание процессов накопления заряда в структурах Si/SiO2 при радиационном облучении
- •3.3.2 Выход заряда
- •3.3.3 Перенос дырок через SiO2
- •3.3.4 Накопление и нейтрализация заряда на ловушках в оксиде
- •3.3.5 Механизм нейтрализации заряда в оксиде
- •3.3.6 Особенности накопления поверхностных состояний при радиационном облучении
- •3.3.7 Латентное накопление поверхностных состояний
- •3.3.8 Накопление поверхностных состояний в зависимости от интенсивности излучения
- •3.3.9 Отжиг поверхностных состояний
- •3.3.10 Механизм накопления поверхностных состояний
- •3.3.11 Граничные ловушки
- •3.4 Влияние космической радиации на характеристики приборов и микросхем, изготовленных на основе моп-структур
- •3.4.1 Изменение характеристик моп-транзисторов и кмоп-логических элементов при радиационном облучении
- •3.4.2 Влияние конструктивно-технологических характеристик на радиационную стойкость моп-структур
- •3.4.3 Радиационные эффекты в моп-структурах с ультратонкими оксидами
- •3.4.4 Некоторые особенности дозовых радиационных эффектов в мдп-структурах с альтернативными диэлектриками
- •3.4.5 Влияние полевых оксидов на радиационную стойкость ис
- •3.4.6 Особенности проявления дозовых радиационных эффектов в микросхемах, изготовленных по кни-технологии
- •3.5 Особенности радиационных испытаний приборов и микросхем на основе моп- и кмоп-структур
- •3.5.1 Корреляция между отдельными транзисторами и микросхемами
- •3.5.2 Наихудший электрический режим
- •3.5.3 Влияние на радиационную стойкость высокотемпературной нагрузки (наработки) перед облучением
- •3.5.4 Выбор источников ионизирующих излучений при проведении радиационных испытаний моп и кмоп ис
- •3.5.5 Процедуры радиационных испытаний, учитывающие влияние факторов низкой интенсивности облучения
- •4 Особенности деградации биполярных приборов и микросхем при воздействии низкоинтенсивного ионизирующего излучения (эффект eldrs)
- •4.1 Влияние интенсивности излучения на радиационный отклик биполярных транзисторов
- •4.2 Влияние интенсивности излучения на радиационный отклик биполярных интегральных схем
- •4.3 Физические модели эффектов низкоинтенсивного облучения биполярных приборов и микросхем
- •4.4 Проблема экспериментального моделирования воздействия излучений низкой интенсивности на биполярные изделия
- •4.5 Выводы
- •5 Одиночные события в бис при воздействии отдельных заряженных частиц космического пространства
- •5.1 Основные виды и классификация одиночных событий
- •5.1.1 Краткое описание основных видов ос Обратимые одиночные сбои (seu)
- •Одиночные события радиационного защелкивания (sel)
- •Одиночный микродозовый эффект (sehe)
- •Одиночный эффект прерывания функционирования (sefi)
- •Эффект выгорания (seb)
- •Эффект пробоя диэлектрика (segr)
- •Одиночный эффект вторичного пробоя в моп-транзисторах (ses)
- •Одиночные события, связанные с импульсной переходной ионизационной реакцией (set)
- •5.1.2 Основные параметры чувствительности полупроводниковых приборов и микросхем к одиночным событиям
- •5.2 Физические процессы, приводящие к возникновению одиночных событий
- •5.2.1 Общее описание процессов возникновения одиночных событий
- •5.2.2 Образование носителей заряда (ионизация)
- •5.2.3 Рекомбинация неравновесных носителей заряда
- •5.2.4 Перенос неравновесных носителей
- •5.2.5 Сбор заряда
- •5.3 Экспериментальные методы исследования чувствительности изделий полупроводниковой электроники к одиночным событиям при воздействии тяжелых заряженных частиц и протонов
- •5.3.1 Эксперименты на ускорителях протонов
- •5.3.2 Эксперименты на ускорителях ионов
- •5.3.3 Эксперименты с изотопными источниками
- •5.3.4 Эксперименты с использованием ионных микропучков
- •5.3.5 Эксперименты с использованием имитаторов
- •Литература
Одиночный эффект прерывания функционирования (sefi)
Одиночный эффект прерывания функционирования (SEFI) — это тип аномалий в работоспособности функционально сложных БИС, связанный с временной потерей или прерыванием их функционирования. Настоящее определение данного класса обратимых одиночных событий было введено стандартом EIA/JESD57 в 1996 году [88]. Там же подчеркивается, что под SEFI надо понимать одиночный эффект, при возникновении которого восстановление работоспособности не связано с отключением питания, но при этом невозможно выявить схемотехническую и топологическую область для диагностики одиночных сбоев.
В зависимости от функционального класса и индивидуальных особенностей БИС проявления SEFI могут быть различны. Кроме того, некоторые типы БИС могут иметь различные типы SEFI, обусловленные различными механизмами возникновения и характеристиками.
Одним из возможных проявлений SEFI в БИС динамической памяти может быть ее самопроизвольное переключения в «тестовый» режим. В свою очередь в микросхемах электрически перепрограммируемых ПЗУ была найдена область контрольной логики, при возникновении в которой одиночного сбоя, имела место потеря нормального функционирования ИС с выводом необычного выходного кода.
При возникновении одиночных сбоев в аналогоцифровых преобразователях (АЦП) в выходном коде обычно наблюдаются случайные ошибки. Однако в случае возникновения SEFI наблюдается полная потеря функции преобразования.
Одним из распространенных типов SEFI в микропроцессорах является «зависание» (lock-up) — остановка функционирования, при этом для продолжения работы требуется переинициализация (reset).
В различных типах ИС SEFI наблюдали как при воздействии ТЗЧ, так и при воздействии протонов. Обычно пороговые значения ЛПЭ частиц, вызывающих SEFI, сравнимы с аналогичными величинами для одиночным сбоев и составляют 1–10 МэВсм2/мг. В то же время сечение насыщения для SEFI, как правило, оказываются на несколько порядков меньше, чем для SEU.
Эффект выгорания (seb)
Эффект выгорания возникает при пролете через полупроводник транзистора отдельной заряженной частицы. Часть сечения полевого транзистора, трек частицы и паразитный биполярный транзистор (BJT) показаны на рис. 5.3 [89, 90].
Механизм эффекта SEB заключается в следующем [91, 92]: заряженная частица, попадая в транзистор, теряет свою энергию, вызывая тем самым появление избыточных электронно-дырочных пар на своем пути за счет ионизации полупроводника. Плотность электронно-дырочных пар достигает очень больших величин в субмикронном диаметре трека частицы. Если полевой транзистор находится в состоянии «off» (неактивное, на затворе потенциал близок к 0) и на сток подано высокое напряжение относительно эмиттера ( 50 В), то электроны начинают двигаться к области стока, а дырки — к истоковой области, т.е. начинает течь электрический ток от стока к истоку, плотность которого может превышать значение 104 А/см2. Этот вертикальный ток течет вдоль трека частицы и вблизи границы раздела диэлектрик-полупроводник горизонтально отклоняется в сторону истока. В результате возникает разность потенциалов на переходе база-эмиттер паразитного транзистора, что в свою очередь, может привести к включению BJT. Если это произойдет, то начнет действовать механизм обратной связи, при котором электроны из эмиттера через базу будут инжектироваться в коллектор [93], поддерживая протекание тока большой величины через полевой транзистор, что в результате приведет к перегреву и выходу его из строя.
Рис. 5.3. Поперечное сечение вертикального полевого n-канального транзистора, трек заряженной частицы и паразитный биполярный транзистор [20]
В отсутствие SEB ток течет через канал полевого транзистора под управлением напряжения на затворе. При возникновении SEB (в момент попадания частицы) ток начинает протекать через паразитный транзистор и, если включается механизм обратной связи, ток через BJT продолжает расти до разрушения транзистора. Более подробная модель показана на рис. 5.4, б [90]. Здесь Cbe и Cbc — емкости эмиттерного и коллекторного переходов паразитного биполярного транзистора соответственно.
Обычно мощные МОП-транзисторы состоят из тысяч маломощных транзисторов, соединенных параллельно. На рис. 5.4 [90] представлена модель одного из маломощных транзисторов. Источник тока Iion служит для имитации импульса тока в момент попадания частицы. Источник тока gIc имитирует механизм обратной связи.
Для лучшего понимания данного явления можно воспользоваться схемой, показанной на рис. 5.4, а. Здесь подложка полевого транзистора соединена с базой паразитного транзистора и через резистор Rb с истоком. Ток внутри полевого транзистора может проходить по двум путям: через канал полевого транзистора и через коллектор BJT.
|
|
а |
б |
Рис. 5.4. Модель полевого транзистора (а) и более подробная его модель (б), поясняющие механизм возникновения SEB [90]
Вероятность возникновения SEB зависит от напряжения на стоке, температуры, угла и места попадания частицы, ее линейных потерь энергии, режима работы транзистора [89]. В настоящее время выпускаются транзисторы, стойкие к появлению эффекта SEB. Это достигается путем модифицирования геометрии транзистора и уровней легирования полупроводника, что приводит к уменьшению вероятности включения BJT.
