
- •Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение Высшего профессионального образования
- •Лабораторный практикум по курсу «Молекулярно-лучевая эпитаксия в технологии наноструктур» для студентов специальности 210601.65 Нанотехнология в электронике
- •Введение
- •1.1. Задачи лабораторной работы
- •1.2. Теоретическая часть
- •1.2.1. Фотоэлектрические процессы в инжекционном полупроводниковом лазере
- •1.2.2. Основные характеристики и параметры лазерных диодов
- •1.3. Объект исследования
- •1.6. Внешний вид волоконно-оптического лазерного модуля
- •1.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •1.5. Порядок выполнения работы
- •Содержание отчета
- •1.7. Контрольные вопросы
- •2.1. Задачи лабораторной работы
- •2.2. Теоретическая часть
- •2.2.1. Фотоэлектрические процессы в p-I-n фотодиоде
- •2.2.2. Основные параметры и характеристики p-I-n фотодиода
- •2.3. Объект исследования
- •2.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •2.5. Порядок выполнения работы
- •2.6. Содержание отчета
- •2.7. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №3 измерение частотной характеристики
- •3.1. Задачи лабораторной работы
- •3.2. Теоретическая часть
- •3.3. Объект исследования
- •3.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •3.5. Порядок выполнения работы
- •3.6. Содержание отчета
- •3.7. Контрольные вопросы
- •4.1. Задачи лабораторной работы
- •4.2. Теоретическая часть
- •4.2.1. Лавинный процесс в р-п переходе
- •4.2.2. Характеристики лфд
- •4.3. Объект исследования
- •4.4. Описание измерительной установки и методов измерения
- •4.5. Порядок выполнения работы
- •4.6. Содержание отчета
- •4.7. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №5 получение методом молекулярно-лучевой эпитаксии светодиодов и измерение яркостно-токовой характеристики
- •5.1. Задачи лабораторной работы
- •5.2. Теоретическая часть
- •5.2.1. Физические процессы в р-п переходе светодиода
- •5.2.2. Основные параметры и характеристики фотоприемников
- •5.3. Объект исследования
- •5.4. Описание измерительной установки и методов измерения
- •5.5. Порядок выполнения работы
- •5.6. Содержание отчета
- •5.7. Контрольные вопросы
- •Оценка погрешностей результатов измерений
- •Значение коэффициента Стьюдента t для случайной величины X, имеющей распределение Стьюдента с (n-1) степенями свободы
- •Алгоритм обработки результатов косвенных измерений
- •Расчет погрешностей типовых задач
- •Литература
1.5. Порядок выполнения работы
1. Ознакомиться с составом лабораторной установки.
2. Включить приборы в указанном выше порядке.
3. Ознакомиться с работой интерфейсной программы.
4. Установить при помощи интерфейсной программы температуру лазерного диода 20°С и напряжение питания фотодиода -5 В.
5. Установить при помощи интерфейсной программы ток накачки 0 мА. Подождать пока не установится постоянное значение напряжения на сопротивлении нагрузки фотодиода.
6. Подставив измеренное вольтметром напряжение на сопротивлении нагрузки фотодиода в формулу (1.2), рассчитать мощность излучения лазерного диода.
7. Повторить измерение по пп. 5-6 для различных токов накачки в диапазоне от нуля до максимального значения, установленного интерфейсной программой.
8. Повторить измерения по пп. 5-7 для значений температур 30, 40 и 50°С.
9. Для уменьшения ошибок измерений повторить измерения не менее 5 раз.
10. Произвести расчет ошибок измерений.
11. Построить семейство ватт-амперных характеристик лазерного диода для различных температур.
12. Определить крутизну ватт-амперной характеристики для каждой температуры.
13. С помощью семейства ватт-амперных характеристик лазерного диода для различных температур, построить зависимость порогового тока лазерного диода от температуры.
Содержание отчета
Отчет о проделанной лабораторной работе должен содержать:
название работы, ф.и.о. студента и номер группы;
таблицы с экспериментальными данными;
расчет ошибок измерений;
ватт-амперные характеристики лазерного диода при различных температурах;
значения крутизны ватт-амперной характеристики для каждой температуры;
график зависимости порогового тока лазерного диода от температуры;
выводы.
1.7. Контрольные вопросы
1. Объясните физический принцип работы инжекционного полупроводникового лазера.
2. Укажите основные отличия лазерного диода от других типов лазеров.
3. Приведите основные характеристики и параметры лазерного диода и укажите их сущность.
4. Объясните зависимость порогового тока лазерного диода от температуры.
ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА №2
ПОЛУЧЕНИЕ МЕТОДОМ МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВОЙ
ЭПИТАКСИИ P-I-N ФОТОДИОДА И ИЗМЕРЕНИЕ
ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК
2.1. Задачи лабораторной работы
Измерить вольт-амперную характеристику p-i-n фотодиода при разных мощностях оптического излучения и его энергетическую характеристику, определить монохроматическую токовую чувствительность фотодиода и критическую мощность излучения.
2.2. Теоретическая часть
2.2.1. Фотоэлектрические процессы в p-I-n фотодиоде
Работа p-i-n фотодиода основана на непосредственном преобразовании оптического сигнала в электрический сигнал при поглощении квантов оптического излучения за счет явления внутреннего фотоэффекта в полупроводниках. Под действием излучения, энергия кванта которого превышает ширину запрещенной зоны полупроводника (>Eg), в полупроводнике образуется пара свободных носителей заряда: электрон в зоне проводимости и дырка в валентной зоне (Рисунок 2.1, межзонный переход 1). Под действием электрического поля, сформированного потенциальным барьером р-п перехода либо с помощью приложенного внешнего обратного смещения, происходит разделение возбужденных светом носителей заряда (фотоносителей), в результате чего генерируется фототок.
1
- межзонный;
2
- акцептор - зона проводимости;
3
- донор - зона проводимости;
4
- валентная зона - донор;
5
- валентная зона - акцептор;
6
- акцептор - донор;
7
- экситонный;
8
- внутризонный;
9
- с участием ловушек
Рисунок 2.1. - Механизмы переходов с поглощением света в полупроводнике.
Благодаря высокой квантовой эффективности и надежности, планарной технологии изготовления и относительно низкой цене p-i-n фотодиоды на основе твердых растворов Ini1-хGaxAsуPi1-у, работающие в спектральном диапазоне 0.81.65 мкм, являются наиболее распространенными высокоскоростными фотодетекторами в волоконно-оптических системах, где они используются для детектирования и преобразования оптических сигналов, генерации СВЧ колебаний, а также для оптического управления СВЧ устройствами.
Р
исунок
2.2 схематически показывает структуру
и энергетическую диаграмму типичного
p-i-n
фотодиода
с гетеропереходом на основе фосфида
индия InP.
Фотодиод
представляет собой гетероструктуру
р+-InР/п0-
In0,47Ga0,53
As/n+-InP.
Широкозонные
p+-InP
и n+-InP
(EgInP
= 1.35 эВ) слои сильно легированы, а
поглощающий In0,47Ga0,53As
(EgInGaAs
= 0.74 эВ)
слой не легирован и имеет низкую
остаточную концентрацию фоновой донорной
примеси 5101451015
см-3.
При попадании оптического излучения с
энергией кванта
hv
EgInGaAs
и
hv
<
Eg
lnP
(что
соответствует длинам волн от 0.95 мкм до
1.65 мкм) на фоточувствительную поверхность
фотодиода в InGaAs
слое
происходит поглощение фотонов и генерация
электронно-дырочных пар. Генерированные
оптическим излучением в области
пространственного заряда электроны и
дырки разделяются электрическим полем
р-п
перехода, причем в обедненной области
перенос носителей заряда осуществляется
с помощью дрейфового механизма, а
носители, появившиеся на расстояниях
порядка диффузионной длины по обе
стороны от р-п
перехода вне области пространственного
заряда - с помощью диффузионного
механизма. При этом неосновные
носители заряда проходят через
р-п
переход, а основные остаются в той же
области структуры, где они были созданы
светом.
Рисунок 2.2. - Типичная структура p-i-n фотодиода с гетеропереходом фотодиода с гетеропереходом и его зонная диаграмма
Обычно к p-i-n фотодиоду прикладывается обратное напряжение смещения, достаточное для полного обеднения поглощающего i-слоя. В результате исключается более медленный диффузионный механизм переноса носителей заряда, снижается емкость перехода, расширяется область поглощения падающего излучения, что в совокупности приводит к увеличению чувствительности и рабочей полосы частот фотодиода. Рисунок 2.3 показывает типичную схему включения p-i-n фотодиода в СВЧ диапазоне и на низких или высоких частотах.
Р исунок 2.3. - Типичная схема включения p-i-n фотодиода:
а) на низких и высоких частотах, б) - в СВЧ диапазоне