- •Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение Высшего профессионального образования
- •Лабораторный практикум по курсу «Молекулярно-лучевая эпитаксия в технологии наноструктур» для студентов специальности 210601.65 Нанотехнология в электронике
- •Введение
- •1.1. Задачи лабораторной работы
- •1.2. Теоретическая часть
- •1.2.1. Фотоэлектрические процессы в инжекционном полупроводниковом лазере
- •1.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •1.2.2. Основные характеристики и параметры лазерных диодов
- •1.3. Объект исследования
- •1.6. Внешний вид волоконно-оптического лазерного модуля
- •1.5. Порядок выполнения работы
- •Содержание отчета
- •1.7. Контрольные вопросы
- •2.1. Задачи лабораторной работы
- •2.2. Теоретическая часть
- •2.2.1. Фотоэлектрические процессы в p-I-n фотодиоде
- •2.2.2. Основные параметры и характеристики p-I-n фотодиода
- •2.3. Объект исследования
- •2.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •2.5. Порядок выполнения работы
- •2.6. Содержание отчета
- •2.7. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №3 измерение частотной характеристики
- •3.1. Задачи лабораторной работы
- •3.2. Теоретическая часть
- •3.3. Объект исследования
- •3.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •3.5. Порядок выполнения работы
- •3.6. Содержание отчета
- •3.7. Контрольные вопросы
- •4.1. Задачи лабораторной работы
- •4.2. Теоретическая часть
- •4.2.1. Лавинный процесс в р-п переходе
- •4.2.2. Характеристики лфд
- •4.3. Объект исследования
- •4.4. Описание измерительной установки и методов измерения
- •4.5. Порядок выполнения работы
- •4.6. Содержание отчета
- •4.7. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №5 получение методом молекулярно-лучевой эпитаксии светодиодов и измерение яркостно-токовой характеристики
- •5.1. Задачи лабораторной работы
- •5.2. Теоретическая часть
- •5.2.1. Физические процессы в р-п переходе светодиода
- •5.2.2. Основные параметры и характеристики фотоприемников
- •5.3. Объект исследования
- •5.4. Описание измерительной установки и методов измерения
- •5.5. Порядок выполнения работы
- •5.6. Содержание отчета
- •5.7. Контрольные вопросы
- •Оценка погрешностей результатов измерений
- •Значение коэффициента Стьюдента t для случайной величины X, имеющей распределение Стьюдента с (n-1) степенями свободы
- •Алгоритм обработки результатов косвенных измерений
- •Расчет погрешностей типовых задач
- •Литература
1.1. Задачи лабораторной работы
Измерить зависимость выходной оптической мощности инжекционного полупроводникового лазера от тока накачки при различных температурах, определить его пороговый ток и крутизну ватт-амперной характеристики.
1.2. Теоретическая часть
1.2.1. Фотоэлектрические процессы в инжекционном полупроводниковом лазере
Инжекционные полупроводниковые лазеры (их также называют лазерными диодами) подобно другим типам лазеров (твердотельным или газовым), генерируют когерентное оптическое излучение. Вместе с тем по ряду важных характеристик лазерные диоды существенно отличаются от обычных лазеров:
квантовые переходы в лазерных диодах обусловлены зонной структурой материала, поэтому в них достигается большое внутренне усиление;
лазерные диоды имеют малые размеры (до 100 мкм в длину, порядка нескольких микрометров в ширину, и доли микрометра толщиной), поэтому они имеют широкую диаграмму излучения;
лазерное излучение возникает непосредственно под действием тока, протекающего через прямо смещенный диод, что позволяет проводить модуляцию мощности излучения лазерного диода за счет модуляции тока накачки;
наличие встроенного оптического резонатора, образованного либо гранями кристалла (лезерный диод с резонатором Фабри-Перо) либо с помощью нанесения дифракционной решетки на поверхности кристалла (лазерный диод с распределенной обратной связью).
Работа лазерного диода связана с тремя основными процессами, обусловленными переходом носителей: поглощением, спонтанной эмиссией и стимулированным излучением. Для описания этих процессов используем простую модель, которая состоит из двух энергетических уровней, характеризующих основное (E1) и возбужденное (Е2) состояние атома (Рисунок 1.1).
Любой переход между этими состояниями сопровождается испусканием или поглощением фотона с частотой которую можно определить из соотношения = Е1-Е2. При обычных температурах большинство атомов находится в основном состоянии и переходит в возбужденное состояние в результате воздействия на систему фотона с энергией, равной . Атом в состоянии Е1 поглощает фотон и переходит в возбужденное состояние Е2 (Рисунок 1.1, а). Возбужденное состояние является нестабильным, поэтому через короткий промежуток времени (в пределах 10-9-10-3 с) без какого-либо внешнего воздействия атом переходит в основное состояние, испуская фотон с той же энергией . Такой процесс называется спонтанной эмиссией (Рисунок 1.1, б). Столкновение фотона, обладающего энергией , с атомом, находящимся в возбужденном состоянии, стимулирует мгновенный переход атома в основное состояние с испусканием фотона с энергией и фазой, соответствующей фазе падающего излучения. Такой процесс называется стимулированным излучением (Рисунок 1.1, в).
Рисунок 1.1. а - поглощение; б - спонтанное излучение; в - стимулированное излучение Основные типы переходов между энергетическими уровнями
Аналогичным образом происходят переходы при приложении внешнего напряжения смещения. Смещение лазерного диода в прямом направлении вызывает протекание тока и переход атомов в возбужденное состояние и обратно. Поэтому вначале, при низких значениях тока, возникает спонтанно излучение, распространяющееся во всех направлениях. При увеличении смещения ток достигает порогового значения, когда большинство атомов находится в возбужденном состоянии, при котором создаются условия для стимулированного излучения, и р-п переход испускает монохроматичный и строго направленный луч света. В результате систему будет покидать больше фотонов с энергией , чем входить в нее. Такое явление называется квантовым усилением.
Для гомоструктур пороговая плотность тока быстро увеличивается с ростом температуры. С целью ее уменьшения используются лазеры на гете- роструктурах, в которых локализация носителей заряда происходит в узкой активной области, что способствует усилению стимулированного излучения и соответственно уменьшению пороговой плотности тока. Рисунок 1.2 показывает структуру такого лазерного диода и его зонную диаграмму. Две боковые грани структуры скалываются или полируются перпендикулярно плоскости перехода. Две другие грани делаются шероховатыми для того, чтобы исключить излучение в направлениях, не совпадающих с главным.
Рисунок 1.2. — Структура полоскового лазерного диода с двумя гетеропереходами и зонная диаграмма его активной области
За счет применения полосковой геометрии удается реализовать ряд преимуществ:
уменьшить площадь поперечного сечения излучающей области, что приводит к снижению рабочего тока;
устранить возможность возникновения нескольких областей с высокой интенсивностью излучения (так называемых шнуров) при увеличении тока накачки (при ширине канала менее 15 мкм в лазере с полосковой геометрией можно обеспечить одношнуровой режим с излучением основной моды вдоль плоскости перехода);
улучшить надежность за счет отдаления большей части периметра перехода от граней кристалла;
уменьшить инерционность за счет снижения емкости перехода.
Рисунок 1.3 показывает типичную схема включения лазерного диода.
Рисунок 1.3. - Типичная схема включения лазерного диода:
а) на низких и высоких частотах, б) - в СВЧ диапазоне
