
- •Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение Высшего профессионального образования
- •Лабораторный практикум по курсу «Молекулярно-лучевая эпитаксия в технологии наноструктур» для студентов специальности 210601.65 Нанотехнология в электронике
- •Введение
- •1.1. Задачи лабораторной работы
- •1.2. Теоретическая часть
- •1.2.1. Фотоэлектрические процессы в инжекционном полупроводниковом лазере
- •1.2.2. Основные характеристики и параметры лазерных диодов
- •1.3. Объект исследования
- •1.6. Внешний вид волоконно-оптического лазерного модуля
- •1.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •1.5. Порядок выполнения работы
- •Содержание отчета
- •1.7. Контрольные вопросы
- •2.1. Задачи лабораторной работы
- •2.2. Теоретическая часть
- •2.2.1. Фотоэлектрические процессы в p-I-n фотодиоде
- •2.2.2. Основные параметры и характеристики p-I-n фотодиода
- •2.3. Объект исследования
- •2.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •2.5. Порядок выполнения работы
- •2.6. Содержание отчета
- •2.7. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №3 измерение частотной характеристики
- •3.1. Задачи лабораторной работы
- •3.2. Теоретическая часть
- •3.3. Объект исследования
- •3.4. Описание лабораторной установки и методов измерения
- •3.5. Порядок выполнения работы
- •3.6. Содержание отчета
- •3.7. Контрольные вопросы
- •4.1. Задачи лабораторной работы
- •4.2. Теоретическая часть
- •4.2.1. Лавинный процесс в р-п переходе
- •4.2.2. Характеристики лфд
- •4.3. Объект исследования
- •4.4. Описание измерительной установки и методов измерения
- •4.5. Порядок выполнения работы
- •4.6. Содержание отчета
- •4.7. Контрольные вопросы
- •Лабораторная работа №5 получение методом молекулярно-лучевой эпитаксии светодиодов и измерение яркостно-токовой характеристики
- •5.1. Задачи лабораторной работы
- •5.2. Теоретическая часть
- •5.2.1. Физические процессы в р-п переходе светодиода
- •5.2.2. Основные параметры и характеристики фотоприемников
- •5.3. Объект исследования
- •5.4. Описание измерительной установки и методов измерения
- •5.5. Порядок выполнения работы
- •5.6. Содержание отчета
- •5.7. Контрольные вопросы
- •Оценка погрешностей результатов измерений
- •Значение коэффициента Стьюдента t для случайной величины X, имеющей распределение Стьюдента с (n-1) степенями свободы
- •Алгоритм обработки результатов косвенных измерений
- •Расчет погрешностей типовых задач
- •Литература
4.1. Задачи лабораторной работы
Измерить вольт-амперную характеристику лавинного фотодиода в тем- новом режиме и при освещении, определить напряжение лавинного пробоя и зависимость коэффициента умножения лавинного фотодиода от напряжения смещения.
4.2. Теоретическая часть
4.2.1. Лавинный процесс в р-п переходе
Лавинные фотодиоды (ЛФД) используются в тех случаях, когда необходимо увеличить чувствительность фотоприемной части оптоэлектронной системы. Особенно это важно для протяженных линий, где применение ЛФД позволяет увеличить расстояние между ретрансляторами и тем самым уменьшить стоимость системы. Увеличение чувствительности в ЛФД достигается за счет внутреннего усиления возбужденных светом неосновных носителей заряда. Для реализации ударной ионизации необходимо выполнить два условия:
1. электрическое поле Е области пространственного заряда должно быть достаточно большим, чтобы на длине свободного пробега 4 носитель заряда набрал энергию, большую, чем ширина запрещенной зоны полупроводника
Eg:
eEl > 3/2 Eg;
2. ширина области пространственного заряда W должна быть существенно больше, чем длина свободного пробега: W>>1%.
Процесс ударной ионизации характеризуется коэффициентом лавинного умножения М, определяемым через отношение:
М = I/I0, (4.1)
где I - ток фотодиода в режиме ударной ионизации; I0 - ток при малых обратных напряжениях, когда умножения носителей еще нет.
Коэффициент умножения М лавинного фотодиода можно рассчитать по эмпирической формуле Миллера в зависимости от напряжения обратного смещения U:
, (4.2)
где R - общее сопротивление электрической цепи (включая область умножения лавинного фотодиода и сопротивление нагрузки, Рисунок 3.2); U0 - напряжение лавинного пробоя, когда М стремится к бесконечности; п - показатель степени, значения которого лежат в широком диапазоне (обычно от 2 до 6) и зависят от коэффициентов ударной ионизации электронов п и дырок р. В приближении постоянного электрического поля внутри слоя умножения коэффициент умножения М может быть выражен через коэффициенты удар-
ной ионизации и толщину слоя умножения dM
. (4.3)
Как известно, для низкого уровня шумов, высоких быстродействия и коэффициента умножения в ЛФД необходимо, чтобы коэффициенты ударной ионизации п и p как можно больше отличались друг от друга, что верно, например, для Si. К сожалению, используемый в качестве поглощающего слоя в диапазоне длин волн от 1,0 мкм до 1,6 мкм индий-галлий-мышьяк InGaAs имеет почти равные коэффициенты ударной ионизации, поэтому современные высокоскоростные ЛФД имеют сложную гетероструктуру с разделенными областями поглощения на основе InGaAs и умножения на основе материала с отличающимися коэффициентами ионизации, например фосфидом индия InP. Рисунок 4.1 показывает типичную структуру современного ЛФД, предназначенного для работы в указанном диапазоне длин волн.
Рисунок 4.1. - Типичная структура ЛФД
При небольших напряжениях смещения ЛФД работает как p-i-n фотодиод и его коэффициент усиления равен 1 (Рисунок 4.2). Усиление появляется только при больших напряжениях смещения, когда напряженность электрического поля в слое умножения достаточна для развития ударной ионизации (обычно больше 107 В/м), поэтому для уменьшения темнового тока и увеличения надежности ЛФД необходимо обеспечить условия, при которых ударная ионизация в активной области фотодиода будет доминирующим процессом пробоя фотодиода. Для исключения краевой ударной ионизации ЛФД конструируют так, чтобы напряженность электрического поля в центре фотодиода оказалась на порядок больше чем на краю и у поверхности, для чего обычно используют охранные кольца и создают сложный профиль легирования р+-области. Следует отметить, что ток насыщения ЛФД, как правило, не превышает величины 10100 мкА, и сами фотодиоды используются при мощностях оптического излучения не более 110 мкВт.
Рисунок 4.2. - Зависимость фототока и коэффициента усиления ЛФД
от напряжения смещения
Быстродействие ЛФД определяется RC постоянной времени цепи фотодиода, временем дрейфа фотоносителей и временем образования лавины M, которое в приближении постоянного электрического поля внутри слоя умножения толщиной dM равно:
,
где n и р – скорость электронов и дырок в слое умножения.
Для увеличения рабочей полосы частот ЛФД необходимо уменьшать как толщину поглощающего слоя, теряя при этом в эффективности, так и толщину слоя умножения. Однако, если минимальная толщина поглощающего слоя ограничена только малым значением квантовой эффективности, то толщина слоя умножения ограничена туннельными токами и минимальным расстоянием необходимым для того, чтобы носитель заряда приобрел энергию, необходимую для возникновения ударной ионизации. Поэтому полоса частот современных ЛФД ограничена временем образования лавины и не превышает 30 ГГц. При увеличении коэффициента усиления рабочая полоса частот ЛФД уменьшается, потому что увеличивается время образования лавины.