2.8.2. Влияние технологических параметров на процессы сухого травления

Влияние энергии и угла падения ионов на интенсивность распыления, определяемую числом атомов поверхности, выбиваемых с нее одним падающим ионом, представляет интерес, так как распыление и сопутствующие ему эффекты происходят при травлении в реактивной плазме, которую наиболее часто применяют в технологии СБИС. Энергия ионов должна превышать пороговую величину порядка 20 эВ, при которой начинается распыление, и должна быть намного выше указанной величины (несколько сотен электрон-вольт) для достижения практически приемлемых скоростей ионно-плазменного травления. Интенсивность распыления большинства материалов монотонно возрастает по мере повышения энергии ионов в интервале энергий ионов, соответствующем сухому травлению (до 2 кэВ), но при энергии свыше ~ 300 эВ скорость этого возрастания уменьшается. Интенсивность распыления зависит от угла, под которым ионы соударяются с поверхностью. Ионы, падающие на поверхность под наклонным углом, характеризуются более высокой по сравнению со случаем нормального падения вероятностью эмиттирования атома, вектор скорости которого направлен от поверхности подложки. Ионы, образующиеся в процессе разряда, соударяются с поверхностью подложки как при плазменном, так и при реактивном ионном травлении. Распыление способствует увеличению скорости травления, но при обычных рабочих параметрах процесса это увеличение незначительно. Существенно большую важность имеет эффект, оказываемый атомными соударениями на протекающие на поверхности химические реакции. В настоящее время эти стимулируемые ионами реакции являются предметом интенсивного изучения. Растущее число экспериментальных фактов свидетельствует о том, что стимулируемые ионами реакции между электрически нейтральными травящими частицами, образованными в разряде, и поверхностью твердого тела играют доминирующую роль во многих процессах сухого травления, которые применяются в технологии СБИС.

Для реактивного травления часто применяют многокомпонентные смеси, представляющие собой главную компоненту с одной или более добавками, которые вводятся для обеспечения наряду с требуемой скоростью травления других заданных характеристик: селективности, однородности, профиля края. Примером влияния таких добавок на скорость травления служит плазменное травление Si в SiO₂ в смесях, содержащих CF₄. Скорость травления Si в SiO₂ в плазме CF₄ относительно низкая. При добавлении в рабочий газ кислорода скорость травления как Si, так и SiO₂ резко возрастает. Максимальная скорость травления достигается для Si при добавлении 12% O₂, для SiO₂ при добавлении 20% O₂. При повышении концентрации O₂ скорость травления понижается, причем для Si в большей степени, чем для SiO₂.

Давление газа, плотность мощности и частота прикладываемого электрического поля - независимые параметры, но на практике индивидуальное влияние каждого из них на процесс травления иногда трудно объяснить или предсказать. Однако являются очевидными несколько общих тенденций. Понижение давления и (или) частоты и повышение плотности мощности приводят к увеличению средней энергии электронов и энергии падающих на подвергаемую травлению поверхность ионов. Повышение плотности мощности вызывает также повышение плотности радикалов и ионов в плазме. Таким образом, в процессах ионно-стимулируемого травления путем уменьшения давления и частоты или увеличения мощности можно повысить степень анизотропии скорости травления. Как правило, с увеличением мощности скорость травления монотонно возрастает, хотя темп приращения замедляется. Почти вся прикладываемая мощность в конечном счете рассеивается в виде тепла, поэтому при обеспечении очень большой плотности мощности электрического поля необходимо предусматривать охлаждение подложек во избежание нежелательных последствий нагрева, таких, как плавление и подгорание фоторезиста или потеря селективности травления. В последние годы исследователи проявляют большой интерес к сверхскоростному травлению в реакторах, рассчитанных на индивидуальную обработку пластин. Такие системы работают при относительно высоком давлении и очень большой плотности мощности (несколько Вт/см²).

При обычных условиях протекания процесса скорость потока рабочего газа оказывает незначительное воздействие на скорость травления. Это влияние проявляется при экстремальных условиях, когда либо скорость потока настолько мала, что скорость травления лимитируется доставкой травителя к подложке, либо скорость травления столь велика, что унос газовым потоком становится доминирующим механизмом потерь активных компонент. Возможность реализации последней ситуации зависит от скорости откачки, вязкости рабочего газа и вида материалов, находящихся внутри реактора. Если время жизни активных компонент мало (вследствие проявления других механизмов потерь), влиянием скорости газового потока можно пренебречь. Такая ситуация типична, когда в роли активной компоненты выступает атомарный хлор. Влияние скорости потока на скорость травления может проявиться при использовании травящих компонент с более длительным временем жизни, например атомов фтора. Продолжительность пребывания травящих компонент в плазме обратно пропорционально зависит от скорости потока.

При реактивном травлении иногда наблюдается уменьшение скорости травления при увеличении суммарной площади поверхности, подвергаемой травлению. Это явление известно как загрузочный эффект, происходящий в тех случаях, когда активные компоненты быстро вступают в реакцию с подвергаемым травлению материалом, но обладают длительным временем жизни в отсутствие этого материала. В этом случае доминирующим механизмом потерь активных компонент является само травление, поэтому, чем больше площадь подвергаемой травлению поверхности, тем выше скорость потерь. Скорость образования активных компонент определяется рабочими характеристиками процесса (давлением, мощностью, частотой и т. д.) и почти не зависит от количества подвергаемого травлению материала в реакторе. Таким образом, средняя концентрация активных компонент, равная разности скоростей образования и потерь, уменьшается с увеличением площади поверхности, подвергаемой травлению.