- •Глава 2 основы физики твердого тела
- •§4 Строение твердых тел
- •4.1. Кристаллическая решетка
- •В каждой сингонии имеется несколько решеток Браве. Решетка Браве для кубической сингонии приведены на рис. 4.3.
- •4.2. Понятие о жидких кристаллах
- •Классификация кристаллов по природе частиц и типам сил взаимодействия между ними
- •4.4. Деффекты в кристаллах
- •§5. Основы зонной теории твердых тел
- •5.1. Приближение сильной связи
- •5.2. Приближение слабой связи
- •5.3. Деление твердых тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •5.4 Движение электрона в кристалле под действием электрического поля. Эффективная масса.
- •§ 6. Металлы
- •6.1 Квантовая статистика электронов в металле.
- •6.2. Понятие о квантовой теории электропроводности металлов и сверхпроводимости
- •§7 Полупроводники
- •7.1 Собственные и примесные полупроводники.
- •7.2. Равновесные концентрации свободных носителей и положение уровня ферми в полупроводнике
- •7.3. Электропроводность полупроводников
- •7 .4. Эффект холла. Определение концентрации, подвижности и знака носителей заряда в полупроводнике
- •7.5. Неравновесная электропроводность полупроводников
- •Диффузионный и дрейфовый токи. Соотношение эйнштейна между подвижностью и коэффициентом диффузии.
- •Уравнение непрерывности для полупроводника
- •§ 8 Контактные явления
- •8.1 Работа выхода электрона из металла и полупроводника
- •Термоэлектронная эмиссия
- •8.3. Контакт двух металлов. Внешняя и внутренняя разности потенциалов.
- •8.4. Термоэлектрические явления
- •Электронно-дырочный переход
- •8.5.1. Электронно-дырочный переход в состоянии равновесия
- •8.5.2. Электронно-дырочный переход в неравновесном состоянии
- •8.5.3 Уравнение вольтамперной характеристики электронно-дырочного перехода.
- •8.5.4. Емкостные свойства электронно-дырочного перехода.
7.2. Равновесные концентрации свободных носителей и положение уровня ферми в полупроводнике
Рассчитаем сначала концентрации свободных электронов n0 и дырок P0 в собственном полупроводнике. Воспользуемся результатами, полученными в §6.1. В собственном полупроводнике свободные электроны расположены на нижних уровнях зоны проводимости, а дырки – на верхних уровнях валентной зоны (рис.7.4).
В
ероятность
заполнения электроном уровня с энергией
Е определяется функцией Ферми-Дирака
(7.6)
Вероятность заполнения энергетического уровня Е вблизи валентной зоны дыркой можно рассматривать как вероятность того, что энергетический уровень не занят электроном, то есть
(7.7)
Так как значения функций (7.6) и (7.7) зависят от разности E-EF , то E и EF необходимо отсчитывать от одного начала отсчета энергии. Примем за начало отсчета энергии потолок валентной зоны (рис.7.4).
Концентрации свободных электронов в зоне проводимости и дырок в валентной зоне в соответствии с формулой (6.9) определяются выражениями.
,
(7.8)
.
(7.9)
С учетом выбора начала отсчета энергии, функции плотности уровней энергии в единице объема полупроводника (6.6) принимают вид:
;
(7.10)
.
(7.11)
Вероятности заполнения электронами уровней зоны проводимости и дырками уровней валентной зоны малы, так как ∆E3 >> кт. Поэтому fp<<1 и fn<<1 и, следовательно, функции (7.6) и (7.7) можно записать в виде:
;
(7.12)
.
(7.13)
Отметим, что функции (7.6) и (7.7) переходят в функции (7.12), (7.13), если
E-EF> 3 K.Т.
Полученные функции представляют собой функции распределения Максвелла-Больцмана (6.14). Таким образом, в случае небольших концентраций электронов и дырок электронный и дырочный газы в полупроводнике являются невырожденными, то есть их свойства подобны свойствам классического идеального газа.
Подставив выражения (7.10) и (7.12) в формулу (7.8) получим:
.
(7.14)
Сделаем (7.14) замену ε = E -∆E и учтем, что вероятность заполнения электронами верхних уровней зоны проводимости практически равна нулю. Верхний предел интегрирования при этом ε1=E1 -∆E можно заменить на ∞. После выполнения интегрирования в (7.14), находим равновесную концентрацию электронов в зоне проводимости.
(7.15)
Подставив выражения (7.11) и (7.13) в формулу (7.9) получим:
.
(7.16)
Сделаем в (7.16) замену и учтем, что вероятность заполнения дырками уровней вблизи дна валентной зоны практически равна нулю (при этом можно вместо –E2 взять -∞). После выполнения интегрирования в (7.16), получим
.
(7.17)
В собственном полупроводнике свободные электроны и дырки возникают парами, поэтому n0 = P0. Приравняв правые части выражения (7.15) и (7.17) и, выполнив несложные преобразования, для энергии Ферми найдем выражение:
(7.18)
Из
выражения (7.18) следует, что при Т=ОК
уровень Ферми в собственном полупроводнике
расположен посредине запрещенной зоны
(рис.7.4). Как правило
,
поэтому с ростом температуры уровень
Ферми смещается ближе к дну зоны
проводимости.
Подставим найденное для EF выражение (7.18) в выражения (7.15) и (7.17), тогда получим
.
(7.19)
В примесном полупроводнике, если концентрация электронов в зоне проводимости мала, то fn(E) << 1 и, следовательно, она может быть вычислена так же, как n0 для собственного полупроводника:
.
(7.20)
Аналогично, в случае малой концентрации дырок в валентной зоне примесного полупроводника fp(E) <<1, и, следовательно, она вычисляется как р0 для собственного полупроводника:
(7.21)
Перемножим выражения (7.20) и (7.21) и возведем выражение (7.19) в квадрат, тогда получим:
(7.22)
Таким образом, из (7.22) следует равенство:
(7.23)
Равенство (7.23) выражает закон действующих масс, который называют так по аналогии с законом действующих масс в химии. Равновесные концентрации электронов и дырок в любом невырожденном полупроводнике, как следует из равенства (7.23), таковы, что их произведение равно квадрату концентрации электронов или дырок в собственном полупроводнике.
Равенство
(7.23) справедливо при любой температуре,
поэтому при Т ≠ ОК всегда имеются как
равновесные свободные электроны, так
и равновесные свободные дырки, причем
произведение их концентрации отлично
от нуля и равно
(или
).
Равновесные концентрации электронов и дырок в примесных полупроводниках, как следует из выражений (7.20) и (7.21) зависят от положения уровня Ферми. Положение уровня Ферми в примесных полупроводниках не может быть найдено также просто как в собственных, поскольку n ≠P.
На рис. 7.5 представлены температурные зависимости положения уровня Ферми в донорном (рис. 7.5 а) и акцепторном (рис. 7.5 б) полупроводниках.
При абсолютном нуле температуры уровень Ферми располагается посредине между примесными уровнями и дном зоны проводимости – для донорных полупроводников, примесными уровнями и потолком валентной зоны – для акцепторных полупроводников. С повышением температуры уровень Ферми сначала смещается к ближайшей разрешенной зоне и при температурах, при которых примесные атомы полностью ионизуются и увеличение концентрации носителей происходит только за счет возбуждения собственных носителей, он располагается посредине запрещенной зоны, как в собственном полупроводнике.
Е
сли
температура примесного полупроводника
сравнительно низкая и примесные атомы
ионизированы только частично, то
соответствующий расчет приводит к
следующим выражениям для концентраций
основных носителей:
;
(7.24)
(7.25)
где Ng и Na - концентрации атомов доноров и акцепторов, соответственно.
В случае достаточно высоких температур, когда примесные уровни полностью ионизированы (примесное истощение), а концентрация собственных носителей еще невелика (n0 << Ng, р0 << Na) расчет приводит к следующему результату:
(7.26)
