4.3 Результаты оценки влияния уф-излучения

на жизнеспособность спор гриба Verticillium lecanii

Влияние УФ-излучения на жизнеспособность спор гриба Verticillium lecanii оценивали с помощью облучения споровой суспензии под ультрафиолетовой лампой. Опыт проводился на ЛПФ и спорах без добавок (контроль – К). В таблицах 9, 10 и 11 находятся данные, которые являются результатами опыта по облучению.

Рисунок 10 – Биологическая эффективность препаративных форм на 14-е сутки

Рисунок 11 – Биологическая эффективность препаративных форм через 4 недели

По таблицам 9 и 10 можем сделать следующие выводы:

1 процент прорастания спор без облучения превышает процент прорастания спор с облучением примерно в 2-2,5 раза;

2 процент прорастания спор в ЛПФ превышает процент прорастания контроля;

3 процент прорастания спор с диоксидом титана выше, чем без него, но не на много.

Было установлено, что процент прорастания для двух ламп с разной энергетической освещенностью и разным временем облучения схож. Однако, наличие вентилятора в первой лампе приводило к росту посторонней микрофлоры, кроме того время облучения для этой лампы было больше.

Таблица 9 – Влияние УФ-облучения ламп с разной энергетической освещенностью на прорастание спор Verticillium lecanii

Вид воздей-ствия	Без облучения		Облучение без УФ-протектора				Облучение с диоксидом титана Облучение второй лампой с диоксидом титана
			Первая лампа		Вторая лампа		Первая лампа		Вторая лампа
Препа-ратив-ная форма	ЛПФ	К	ЛПФ	К	ЛПФ	К	ЛПФ	К	ЛПФ	К
Прора-стание,%	92,0±1,2	77,0±6,0	35,4±2,7	20,7±1,3	28,3±1,9	21,8±1,7	37,5±3,1	24,8±1,6	34,0±4,0	33,0±3,2

Таблица 10 – Влияние УФ-облучения лампы с энергетической освещенностью 15200 Вт/м² на прорастание спор Verticillium lecanii

Вид воздействия	Без облучения		Облучение без УФ-протектора		Облучение с диоксидом титана
Вид препара-тивой формы	ЛПФ	К	ЛПФ	К	ЛПФ	К
Прорас-тание,%	64,6 ±1,2	60,1 ±4,6	30,7 ±4,2	24,6 ±2,2	40,5 ±1,0	38,0 ±1,2

По таблице 11 можем сделать следующие выводы:

1 прорастание спор без облучения превышает прорастание спор с облучением примерно в 2 раза;

2 прорастание спор в ЛПФ выше, чем в контроле (спорах без добавок);

3 процент прорастания споровой суспензии с УФ-протектором выше, чем процент прорастания для суспензии, несодержащей его для облученных вариантов;

4 процент прорастания споровой суспензии с каолином и диоксидом титана ниже по сравнению с активированным углем;

5 для вариантов без облучения процент прорастания без УФ-протектора сходен с процентом прорастания с добавлением УФ-протектора, то есть эти УФ-протекторы не оказывают ингибирующего воздействия на прорастание спор.

Таблица 11 – Влияние УФ-облучения лампы с энергетической освещенностью 15200 Вт/м² на прорастание спор Verticillium lecanii

Препаративная форма	Прорастание,%
	без облучения	с облучением
ЛПФ	80,1±0,7	39,1±1,2
ЛПФ+каолин	66,8±1,2	53,7±1,3
ЛПФ+акт.уголь	78,6±0,6	64,3±3,7
ЛПФ+диоксид титана	75,3±1,5	55,3±0,7
К	71,1±1,5	32,1±3,0
К+каолин	71,6±3,3	47,1±2,2
К+акт.уголь	72,1±2,0	53,5±2,8
К+диоксид титана	73,0±3,9	49,5±1,7

Рисунок 12 – УФ-излучения на жизнеспособность спор гриба Verticillium lecanii