
- •2. Які основні характеристики і параметри хімічних сенсорів?
- •3. Дайте означення понять "адсорбція", "адсорбат", "адсорбент", “ступінь покриття поверхні”. Яка різниця між фізичною та хімічною адсорбцією? Як їх розрізнити експерименально?
- •4. Моделі адсорбції. Рівняння Гібса та ізотерми адсорбції Ленгмюра. Порівняйте висновки з теорії адсорбції Брунауера-Еммета-Теллера та Ленгмюра.
- •5. Опишіть можливі процеси адсорбції молекул води на поверхню твердого тіла. За яких умов виникає капілярна конденсація?
- •6. Що таке каталізатори і як вони працюють? Поясніть енергетичну діаграму для каталітичних реакцій на прикладі адсорбції н2 в системі Pd–SiO2.
- •7. Мультисенсори. Дайте приклад алгоритму математичної обробки матриці хімічних сенсорів за "методикою розпізнавання образів" та «головних компонент».
- •8. Поясніть зонну модель поверхні SnO2. Як відбувається обмін зарядами між твердим тілом і донорними/акцепторними молекулами на прикладі молекул со, н2, о2?
- •9. Виведіть формулу для розрахунку концентрації адсорбованих молекул кисню на поверхні метал-оксиду.
- •10. Виведіть формулу для розрахунку концентрації ко-адсорбованих на поверхні метал-оксиду молекул кисню та редокс-газу
- •12. Сенсори вологості на метал-оксидах. Наведіть еквівалентну електричну схему для контакту гранула–гранула–електрод для адсорбції води. Сенсорний метод контролю процесів горіння.
- •13. Поясніть принцип дії λ-сенсорів резитивного та потенціометричного типів.
- •14. Принцип дії польового транзистора з інверсним шаром. Основні характеристики приладу.
- •15. Принцип дії сенсору GasFet сенсора на водень. Модель чутливості до водню для Pd затворів. Як розрахувати парціальний тиск водню? Як впливає на чутливість до водню атмосферний кисень?
- •16. Параметри GasFet сенсорів на водень. Сенсори інших газів на основі польового транзистора. Модель чутливості до аміаку мон-структури. Польовий транзистор з підвішеною мембраною.
- •17. РН метр на isfet структурі. Як визначити значення рН розчину?
- •18. Сенсори водню на основі бар’єрів Шоткі. Зміною яких параметрів бар’єру визначається чутливість структури до адсорбції?
- •19.Потенціометричний сенсор зі світловою адресацією ((laPs). Навести принцип роботи та приклад характеристики фотоструму від прикладеної напруги в газовій атмосфері.
- •Принцип роботи сенсору електроліт-ізолятор-напівпровідник (еіs). Як підняти чутливість цього сенсору?
- •Газові сенсори на основі методу вібруючого електроду (метод зонду Кельвіна).
- •22. Назвіть та поясніть методи отримання квантових структур кремнію за високими технологіями, хімічного та електрохімічного травлення.
- •26. Поясніть, які механізми описують транспорт носіїв заряду в макропоруватому та нанопоруватого кремнії. Вплив адсорбції на електричні властивості поруватого Si.
- •28. Сенсор на польовому транзисторі із використанням пористого кремнію. Поясніть принцип дії. Який принцип дії газового сенсора з пористим кремнієм на основі кмон процесу?
- •29. Основні властивості полімерів. Π-спряжені зв’язки. Використання полімерів для сенсорів провідності.
- •31 Калориметричні сенсори на кремнієвих термопарах та транзисторах
- •32. Калориметричний сенсор з плаваючою мембраною: еквівалентна електрична схема та параметри. Термічний сенсор вологості.
- •33. Ефект зникаючого поля в оптичному волокні. Сенсори на оптичному волокні. Оптод.
- •Як використовується ефект поверхнево-підсиленого комбінаційного розсіяння світла для газових сенсорів.
- •35 Дайте означення біосенсору. Сенсори на основі біоспорідненості та метаболізму. Перші біосенсори на глюкозу та сечовину.
- •Cхема біосенсора
- •38.Еванесцентні хвилі. Хвилі, що локалізовані на межі розподілу «зовнішнє середовище-метал», «зовнішнє середовище-напівпровідник».
- •40.Закон дисперсії поверхневого плазмон-поляритону.
- •4 1.Параметри, що впливають на збудження та розповсюдження ппп.
- •42. Ефект поверхневого плазмон поляритонного резонансу пппр.
- •43. Схема вимірювання поверхневого плазмон поляритонного резонансу пппр.
- •44. Принципи побудови датчиків на основі поверхневого плазмон поляритонного резонансу пппр.
- •45. Методи, що використовуються для покращення умов збудження та розповсюдження ппп.
- •46. Методи, що використовуються для підвищення чутливості пппр датчика біомолекул.
- •47. Методи, що використовуються для підвищення селективності пппр датчика біомолекул.
- •48. Коефіцієнт відбиття від багатошарової системи. Методи обробки даних пппр вимірювань.
10. Виведіть формулу для розрахунку концентрації ко-адсорбованих на поверхні метал-оксиду молекул кисню та редокс-газу
У випадку спільної адсорбції кисню та газів, які можуть взаємодіяти з киснем (молекули органіки, СО, Н2 тощо), треба враховувати типи можливих хімічних реакцій. Для спрощення аналізу будемо вважати, що при адсорбції оксидуючого агента кисню можливе утворення двох типів негативних іонів О– та O2‑, проте внаслідок більшої активності О– ніж O2‑ редокс-реакція буде відбуватися саме з іонами О–. Експериментально отримано, що каталітично активна форма О– є домінантною при температурах Т> 800C на ZnO, T>4000C на TiO2 та T>1500C на SnO2. Тому для цих трьох оксидів низькотемпературні (які працюють при кімнатних температурах) хімічні сенсори не є ефективними.
Для поверхні без каталізатора можна записати можливі реакції:
(2.20)
де k1, k–1, k2, k3 – константи швидкості для відповідних реакцій, R – редокс-агент, ns – концентрація електронів на поверхні. Тоді легко отримати зміну концентрації [О–] та [O2‑]:
(2.21)
За рівноважних умов
враховуючи, що Ns=[О–]+[O2‑]:
(2.22)
Із формули (2.22) випливає, якщо змінюється концентрація [R], то змінюється густина поверхневих станів Ns і концентрація вільних електронів на поверхні ns. Фактично рівняння (2.22) встановлює залежність концентрації поверхневих зарядів ns від концентрації редокс-газу (наприклад, горючого газу – водню, вуглеводнів тощо) [R], а за допомогою рівнянь (2.15), (2.16) і (2.19) встановлюється взаємозв'язок між зміною опору та концентрацією газу [R].
Більш складний випадок реалізується коли редокс-агент взаємодіє з киснем ґратки метал-оксидного напівпровідника, створюючи донорні кисневі вакансії:
(2.23)
де V0- є кисневою іонною вакансією. Утворення мобільних дефектів типу кисневих вакансій веде до дрейфу параметрів сенсора із часом і тому для покращення стабільності параметрів газових сенсорів намагаються зменшити вірогідність перебігу процесів (2.23).
11. Сенсори провідності порошкового типу та плівкового типу на метал-оксидах. Пелістор (сенсор Тягучі). Які виміри використовуються для визначення концентрації адсорбованих молекул кисню та редокс – газу?
Сенсори провідності порошкового типу. Одним із найпоширеніших методів формування метал-оксидних сенсорів є пресування порошку цього матеріалу з наступним термічним відпалом. Це так звані керамічні сенсори. При високих температурах електропровідність у таких матеріалах можна вивчати в моделі тісного електричного контакту між гранулами порошку (рис. 2.4). Модель утворення контактів типу Шотткі між гранулами справедлива, коли дебаївська довжина екранування LD менше радіуса гранули LD<r.
Для виникнення умов протікання електричного струму електрони мусять рухатися від гранули до гранули. Проте кожна гранула має поверхневий бар'єр (збіднену область) на поверхні, і тому електрони повинні мати відповідну активаційну енергію для надбар'єрного проходження, що дорівнює висоті цього потенціального бар'єра eψS. Висота потенціального бар'єра збільшується при адсорбції кисню й зменшується при адсорбції редукованих молекул. Висота потенціального бар'єра буде визначати поверхневу концентрацію електронів ns і, відповідно, поверхневу провідність.
Якщо припустити, що всі гранули однакові й контактна площа між гранулами пропорційна G0, то:
(2.24)
|
Рис.2.4. Бар'єри на міжгранульному контакті в пресованому порошку. Три гранули з адсорбованим киснем утворюють поверхневу збіднену область. Ці збіднені шари викликають високий контактний опір. Внизу – відповідна зонна модель для кількісного аналізу переносу електронів над поверхневим бар'єром |
Чутливість
сенсора визначають як відношення
логарифму опору R до логарифму тиску
газу, де
,
A – константа:
(2.25)
де
парціальний тиск PR,
пропорційний концентрації газу [R].
Взявши цю похідну знаходимо, що
(2.26) де a=k-1Ns,
b=A(k1[O2]‑k2Ns).
Таким чином, у загальному випадку чутливість сенсора залежить від концентрації (парціального тиску) кисню та редукованого газу (2.26). Сенсори, побудовані за цим принципом, використовуються, наприклад, для вимірювання відношення концентрацій повітря/паливо у вихлопах автомобілів, алкоголю та альдегідів.
Сенсори провідності плівкового типу.
Прикладом сенсора провідності плівкового типу є так званий сенсор Тагучі або пелістор (рис. 2.8). У ньому золоті електроди нанесені на невелику керамічну трубку, паста напівпровідника наноситься ззовні трубки. До складу пасти, крім метал-оксиду SnO2 входять добавки металевих чи оксидних каталізаторів. За допомогою нагрівального елементу в центрі трубки створюється температура, оптимальна для максимальної чутливості сенсора до певного газу. Задля більшої точності вимірювання опору проводять за 4-електродною схемою.
|
|
Рис. 2.8. Сенсор Тагучі (патент компанії Фігаро, Японія, 1974): керамічна трубка з нанесеною пастою SnO2 + Pd ззовні та нагрівачем усередині |
Рис. 2.9. Відносна зміна провідності сенсора (плівка SnO2 з каталізатором Sb) залежно від температури в атмосфері 1000 ppm редокс-газів C2H5OH, CO, H2, CH4 |
Такі сенсори створюють також при використанні інших метал-оксидних напівпровідників – WO3, Fe2O3, LaCrO3, CoO, TiO2, NiO, Nb2O3, In2O3. Як каталізатори використовують благородні метали, оксиди перехідних металів та ін. Залежно від температури процес хімадсорбції на поверхні сенсора відбувається з відповідною швидкістю. Чутливість до визначеного газу може контролюватися вибором напівпровідника, каталізатора та робочої температури (рис. 2.9). Чутливість промислових SnO2 сенсорів до органічних газів становить: 11 ppm (CH3SH), 1000 ppm (H2), 4000 ppm (C2H4, C3H8), 4400 ppm (CO), 10000 ppm (C2H5OH, SO2), 20000 ppm (C2H6, C4H10), 40000 ppm (CO2).
Наприклад, при постійному парціальному тиску кисню та робочій температурі, експериментальні залежності між провідністю та парціальним тиском моногазу добре апроксимуються залежністю:
(2.27)
де γ – постійна, яка залежить від матеріалу, Pgas – парціальний тиск газу, m – стала, яка характеризує чутливість напівпровідника до адсорбції даного типу молекул. Якщо монокристалічний шар напівпровідника повністю збіднений електронами, то для адсорбції СО (у присутності сталого тиску кисню) величина m = 1/2. Проте для полікристалічних тонких плівок метал-оксидів (SnO2 з каталізатором Bi2O3, Т = 723 К), величина m=1/3 для адсорбції Н2, СО та СН4 в області концентрацій 102–104 ppm.