
- •1) Электронная конфигурация внешних оболочек атомов и типы сил связи в твердых телах.
- •2) Структуры важнейших полупроводников - элементов aiv, avi и соединений типов аiiiвv, аiiвvi , аivвvi.
- •3) Симметрия кристаллов.
- •4)Трансляционная симметрия кристаллов.
- •5) Базис и кристаллическая структура.
- •6) Элементарная ячейка.
- •7) Примитивная ячейка.
- •8) Ячейка Вигнера—Зейтца. Решетка Браве.
- •Решетки Бравэ
- •9) Обозначения узлов, направлений и плоскостей в кристалле.
- •10) Обратная решетка, ее свойства.
- •11) Зона Бриллюэна.
- •Характерные точки зоны Бриллюэна
- •Интересные особенности
- •12) Примеси и структурные дефекты в кристаллических и аморфных полупроводниках.
- •13) Химическая природа и электронные свойства примесей.
- •14) Точечные, линейные и двумерные дефекты.
- •Источники и стоки точечных дефектов
- •Комплексы точечных дефектов
- •Одномерные дефекты
- •Двумерные дефекты
- •Трёхмерные дефекты
- •15) Методы выращивания объемных монокристаллов из жидкой фазы
- •16) Методы выращивания эпитаксиальных пленок (эпитаксия из жидкой и газовой фазы).
- •17) Молекулярно-лучевая эпитаксия.
- •18) Металлоорганическая эпитаксия
- •19) Методы легирования полупроводников
- •21) Основные приближения зонной теории.
- •22) Волновая функция электрона в периодическом поле кристалла.
- •23) Зона Бриллюэна.
- •24) Энергетические зоны.
- •25) Эффективная масса.
- •Эффективная масса для некоторых полупроводников
- •26) Плотность состояний.
- •Определение
- •27) Уравнения движения электронов и дырок во внешних полях.
- •28) Искривление энергетических зон в электрическом поле.
- •29) Связь зонной структуры с оптическими свойствами полупроводника.
- •30) Уровни энергии, создаваемые примесными центрами в полупроводниках.
- •31) Доноры и акцепторы.
- •32) Мелкие и глубокие уровни.
- •33) Водородоподобные примесные центры.
- •34) Функция распределения электронов.
- •35) Концентрация электронов и дырок в зонах, эффективная плотность состояний.
- •36) Невырожденный и вырожденный электронный (дырочный) газ.
- •37) Концентрации электронов и дырок на локальных уровнях.
- •38) Положение уровня Ферми и равновесная концентрация электронов и дырок в собственных и примесных (некомпенсированных и компенсированных) полупроводниках.
- •39) Многозарядные примесные центры.
- •40) Проводимость, постоянная Холла и термо-эдс. По характеру проводимости. Собственная проводимость
- •Примесная проводимость
- •Полупроводник p-типа
- •41) Дрейфовая скорость, дрейфовая и холловская подвижности, фактор Холла.
- •42) Дрейфовый и диффузионный ток.
- •43) Соотношение Эйнштейна.
- •44) Механизмы рассеяния носителей заряда в неидеальной решетке.
- •45) Взаимодействие носителей заряда с акустическими и оптическими фононами.
- •46) Рассеяние носителей заряда на заряженных и нейтральных примесях.
- •47) Генерация и рекомбинация неравновесных носителей заряда.
- •48)Уравнение кинетики рекомбинации.
- •49) Времена жизни.
- •50) Фотопроводимость.
- •51) Механизмы рекомбинации.
- •52) Излучательная и безызлучательная рекомбинация.
- •53) Межзонная рекомбинация.
- •54) Рекомбинация через уровни примесей и дефектов.
- •55) Центры прилипания.
- •57) Схема энергетических зон в контакте металл-полупроводник.
- •58) Обогащенные, обедненные и инверсионные слои пространственного заряда вблизи контакта.
- •59) Вольт-амперная характеристика барьера Шоттки.
- •60) Энергетическая диаграмма р-п перехода.
- •61) Инжекция неосновных носителей заряда в р-п переходе.
- •62) Гетеропереходы.
- •63) Энергетические диаграммы гетеропереходов.
- •64) Поверхностные состояния и поверхностные зоны.
- •Природа поверхностных состояний
- •Состояния Тамма
- •Состояния Шокли
- •Поверхностные состояния, обусловленные дефектами кристаллической решётки на поверхности
- •Пс примесного типа
- •Пс в слоистых структурах
- •Энергетический спектр пс
- •Зоны пс
- •Двумерные зоны
- •Одномерные зоны
- •Типы пс по времени релаксации
- •65) Искривление зон, распределение заряда и потенциала вблизи поверхности.
- •66) Поверхностная рекомбинация.
- •67) Межзонные переходы.
- •68) Край собственного поглощения в случае прямых и непрямых, разрешенных и запрещенных переходов.
- •69) Экситонное поглощение и излучение.
- •70) Спонтанное и вынужденное излучение.
- •Применение
- •Последние открытия
- •71) Поглощение света на свободных носителях заряда.
- •72) Поглощение света на колебаниях решетки.
- •73) Влияние примесей на оптические свойства.
- •74) Примесная структура оптических спектров вблизи края собственного поглощения в прямозонных и непрямозонных полупроводниках.
- •75) Межпримесная излучательная рекомбинация.
- •76) Экситоны, связанные на примесных центрах.
- •77) Эффект Бурштейна-Мосса.
- •78) Примесная и собственная фотопроводимость.
- •79) Влияние прилипания неравновесных носителей заряда на фотопроводимость.
- •4. В общем случае центры прилипания сложным образом изменяют как кинетику, так и стационарную величину фп.
- •80) Оптическая перезарядка локальных уровней и связанные с ней эффекты.
- •81) Термостимулированная проводимость.
- •82) Фотоэлектромагнитный эффект
- •83) Аморфные и стеклообразные полупроводники.
- •84) Структура атомной матрицы некристаллических полупроводников
- •85) Идеальное стекло.
- •86) Гидрированные аморфные полупроводники
- •87) Особенности электронного энергетического спектра неупорядоченных полупроводников
- •88) Плотность состояний
- •89) Локализация электронных состояний
- •90) Щель подвижности
- •91) Легирование некристаллических полупроводников
- •103) Вольтамперная характеристика р-п перехода.
- •104) Приборы с использованием р-п переходов.
- •105) Туннельный диод.
- •106) Диод Ганна.
- •107) Биполярный транзистор.
- •108) Тиристор.
- •109) Энергетическая диаграмма структуры металл-диэлектрик-полупроводник (мдп).
- •110) Полевые транзисторы на мдп-структурах.
- •111) Приборы с зарядовой связью.
- •112)Фотоэлементы и фотодиоды.
- •113) Спектральная чувствительность и обнаружительная способность.
- •114) Полупроводниковые детекторы ядерных излучений.
- •115)Фотоэлектрические преобразователи, кпд преобразования.
- •117) Инжекционные лазеры на основе двойной гетероструктуры.
- •118) Использование наноструктур в полупроводниковых приборах.
- •119) Гетеротранзистор с двумерным электронным газом (немт).
- •120) Гетеролазеры на основе структур с квантовыми ямами и квантовыми точками.
- •121) Резонансное туннелирование в двухбарьерной гетероструктуре и резонансно-туннельный диод.
- •122) Оптический модулятор на основе квантово-размерного эффекта Штарка.
38) Положение уровня Ферми и равновесная концентрация электронов и дырок в собственных и примесных (некомпенсированных и компенсированных) полупроводниках.
Посмотрим теперь, как можно найти положение уровня Ферми.
Ответ на этот вопрос зависит от того, какие другие величины заданы. Если известны концентрации носителей заряда в зонах п и р, то значение F можно определить, например, для невырожденного полупроводника n-типа
Аналогично, для невырожденного полупроводника р-типа из (5.2) получаем
Эти
выражения дают уже известный нам
результат, что чем больше концентрация
основных носителей, тем ближе уровень
Ферми к краю соответствующей зоны.
Однако чаще мы встречаемся с задачей, когда задан состав кристалла, т. е. концентрации и типы содержащихся в нем примесей (их энергетические уровни), а концентрации свободных и связанных носителей заряда, напротив, должны быть вычислены. В этом случае положение уровня Ферми можно найти из условия электрической нейтральности образца.
Из классической электродинамики известно, что в однородной проводящей среде в состоянии равновесия объемный заряд в любой точке равен нулю. Возникший же по тем или иным причинам заряд рассасывается под действием кулоновских сил за время порядка максвелловского времени релаксации мы имеем τМ — 10-12 с. Поэтому в стационарном состоянии или даже при периодическом изменении состояния с частотой ω, удовлетворяющей условию ωτМ «1, внутренность полупроводника можно считать нейтральной.
Отсюда следует, что в равновесии концентрации положительно заряженных частиц должны быть всегда равны концентрациям отрицательных частиц. Положим, что в полупроводнике имеются доноры одного и того же типа с концентрацией Nd и, кроме того, акцепторы (тоже одинакового типа) с концентрацией Na. Положительными частицами являются, во-первых, подвижные дырки с концентрацией р. Во-вторых, мы имеем еще связанные положительные заряды pt в виде положительно заряженных доноров.
В случае простых доноров
где, как и раньше, f — вероятность заполнения донора электроном, выражаемая первой формулой (9.3) (где индекс 1 опущен).
Соответственно для многозарядных доноров, имеющих в нейтральном состоянии М избыточных электронов,
где f j — вероятность донору иметь j электронов (формула (11.8)).
Концентрация отрицательных частиц складывается из концентрации электронов в зоне п и концентрации отрицательно заряженных акцепторов. Если nt есть концентрация связанных элементарных зарядов, то для случая простых акцепторов
Аналогично, для многозарядных акцепторов
После этого условие электрической нейтральности можно записать в виде
Если в полупроводнике имеются доноры, и акцепторы разных типов, то под pt и nt нужно понимать суммарные концентрации связанных элементарных зарядов.
Каждая из величин р, рt, п и nt зависит от значения уровня Ферми, и поэтому уравнение (13.4) можно использовать для его определения. Однако это уравнение является трансцендентным, и поэтому для его решения приходится либо пользоваться либо численными методами, либо исследовать различные частные случаи, к которым мы и обратимся.
Собственный полупроводник или полупроводник i-типа или нелегированный полупроводник (англ. intrinsic — собственный) — это чистый полупроводник, содержание посторонних примесей в котором не превышает 10−8 … 10−9%.
Состояние полупроводника, когда R=G, называется равновесным; в этом состоянии в собственном полупроводнике устанавливаются равновесные концентрации электронов и дырок, обозначаемые ni и pi . Поскольку электроны и дырки генерируются парами, то выполняется условие: ni=pi . При этом полупроводник остается электрически нейтральным, т.к. суммарный отрицательный заряд электронов компенсируется суммарным положительным зарядом дырок. Это условие называется законом нейтральности заряда.
Компенсированный полупроводник - легированный полупроводник с примерно одинаковой концентрацией доноров и акцепторов, свойства которого близки к собственным полупроводникам.
Здесь
Т — абс. темп-ра, Nс— эфф. плотность
состояний в зоне проводимости, I —
энергия ионизации донора, g0 и g1—
статистич. веса пустого и заполненного
донорных уровней. При достаточно высоких
темп-pax, когда (Nд-Na)n1/(Na+n1)2<-1 и n1->Nа;
n=Nд-Nа. При низких темп-pax, когда n1<-Nа и
n1<-(Nд-Nа)-1N2a,
Для расчета концентрации равновесных носителей заpяда необходимо знать энергетическую плотность разрешенных состояний N(E) и веpоятность их заполнения электpонами р(E). В квантовой физике доказывается, что количество pазpешенных состояний , пpиходящееся на едиичный интеpвал энеpгии, т.е. энергетическая плотность состояний для нижней гpаницы зоны проводимости, определяется соотношением:
,
(1.1)
а для верхней границы валентной зоны
,
(1.2)
где С1 и С2 - коэффициенты пpопоpциональности, определяемые физическими константами.
Веpоятность заполнения pазpешенных уровней характеризуется функцией Ферми-Диpака:
,
(1.3)
где EF - уpовень Феpми.
Из (1.3) следует, что EF - это уpовень, веpоятность заполнения котоpого пpи любой темпеpатуpе равна 1/2.
Зная Nc(E), Nv(E) и p(E) можно определить количество электронов, приходящихся на единичный интеpвал энеpгии, т.е. энергетическую плотность электpонов:
Fn(E)=Nc(E).p(E) , (1.4)
а также энергетическую плотность дырок:
Fp(E)=Nv(E).[1- p(E)] . (1.5)
Для расчета концентpации электpонов и дыpок необходимо определить площади под графиками Fn(E) и Fp(E) путем интегрирования, в результате получаются расчетные соотношения
(1.6)
и
,
(1.7)
где NC и NV - коэффициенты пpопоpциональности, определяемые физическими константами.
Из соотношений (1.6) и (1.7) следует, что концентpации электpонов и дыpок определяются положением уровня Феpми в собственном полупpоводнике ni=pi, поэтому приравниваем правые части уpавнений (1.6) и (1.7) и, решая относительно EF, получаем:
,
то есть уpовень Феpми расположен примерно посередине запрещенной зоны. В этом случае:
.
(1.8)
Откуда следует, что концентрация носителей заряда в собственном полупpоводнике определяется шириной запрещенной зоны и температурой. С ростом температуры она растет по экспоненциальному закону.
В электронном полупpоводнике nn @ ND. Поэтому подставляя в (1.6) вместо n величину ND и, обозначая уpовень Феpми через EFn, получаем:
.
(1.9)
Аналогичным обpазом для дыpочного полупpоводника получаем:
.
(1.10)