
- •Вольт-амперные характеристики транзистора с р-п-затвором
- •Транзистор с p-n-затвором как усилитель
- •Транзисторы с изолированным затвором
- •Элементарная теория транзистора с изолированным затвором
- •Передаточные и выходные характеристики транзистора с изолированным затвором
- •Усилительные свойства мдп-транзистора
Передаточные и выходные характеристики транзистора с изолированным затвором
П
ередаточные
характеристики транзистора с изолированным
затвором Ic=f(UЗИ)
при UСИ=const
в соответствии с выражением (7.4.6)
описываются квадратичной зависимостью
аналогично характеристикам транзистора
с p-n-затвором.
Однако расположение их относительно
оси тока существенно отличается.
У транзисторов с встроенным каналом (рис. 7.11,а) уже при нулевом напряжении затвора имеются достаточная проводимость канала и соответствующий ток стока. При увеличении отрицательного напряжения затвора концентрация электронов в канале снижается, проводимость канала и ток стока падают. При увеличении положительного напряжения затвора канал обогащается электронами, его проводимость и ток стока возрастают. Таким образом, в данном случае управление током возможно как положительным, так и отрицательным напряжением затвора. У транзисторов с индуцированным каналом (рис. 7.11, б) при напряжении затвора, равном нулю, проводимость участка сток — исток определяется р+-n-переходом сток — подложка, который отрицательным напряжением стока смещен в обратном направлении (закрыт). Поэтому ток стока равен обратному току току р+-n-перехода, т. е. пренебрежимо мал.
При подаче отрицательного напряжения на затвор дырки из р+-областей и из глубины полупроводниковой подложки подтягиваются к поверхности, где их концентрация возрастает. Однако поверхность полупроводника обладает большим числом вакантных энергетических состояний, дырки захватываются ими и, становясь связанными, не могут обеспечить электропроводность канала. Электроны же в приповерхностном слое имеют обычно повышенную концентрацию из-за влияния положительных зарядов поверхностных состояний подложки, зарядов в диэлектрике затвора и контактной разности потенциалов затвор — подложка. Поэтому лишь при значительном увеличении напряжения затвора до величины, называемой пороговой, может произойти инверсия проводимости приповерхностного слоя и возникнуть р-канал. При этом появляется ток Iс в выходной цепи. При дальнейшем повышении напряжения затвора ток стока возрастает по квадратичному закону. Повышение напряжения стока незначительно увеличивает ток стока в соответствии с выражением (7.48).
Выходные характеристики Ic=f(UСИ) при UСИ=const транзисторов с встроенным каналом (рис. 7.12, а) и индуцированным каналом (рис. 7.12, б) по форме напоминают характеристики транзистора с р-n-затвором. При повышении напряжения стока UСИ ток стока Iс быстро возрастает, затем при UСИ=UЗИ-Uпор происходит отсечка канала и транзистор переходит в режим насыщения.
Т
емпературные
свойства транзистора с изолированным
затвором такие же, как у транзистора с
р-n-затвором
(рис. 7.13). Также существует
термостабильная точка, в которой ток
стока 1Т
не
зависит от температуры.
Координаты термостабильной точки IT и UЗИТ можно найти, дифференцируя по Т выражение (7.46) с учетом температурных зависимостей β(Т) и Uпор(Т). Первая из них обусловлена зависимостью от температуры главным образом подвижности дырок μps. [см. (7.47)], вторая — влиянием температуры на контактную разность потенциалов. Расчет показывает, что в термостабильной точке в зависимости от концентрации примеси в подложке напряжение затвора
UЗИТ = Uпор + (0,8÷2,4) В; (7.50)
с увеличением концентрации примеси оно уменьшается.
Ток стока в термостабильной точке IT обычно в 5—10 раз ниже, чем при Uзи=0 (рис. 7.13).
Температурный коэффициент по напряжению затвора дUЗИ/дТ для МДП-транзистора имеет следующие значения:
-(4÷6) мВ/°С при Iс < (0,05÷0,1)IT;
±0,5 мВ/°С при Iс≈IТ;
+ (8÷10) мВ/°С при UЗИ=0.
Использование МДП-транзисторов в термостабильном режиме затрудняется тем, что при этом напряжение затвора близко к пороговому и начинает существенно сказываться временной дрейф порогового напряжения.