
- •Технология интегральных микросхем
- •Литография
- •Разрешающие возможности литографий
- •Фотолитография
- •Типовой литографический процесс
- •Выбор фоторезиста
- •Спектральная чувствительность к излучению
- •Разрешающая способность
- •Формирование фоторезистивного слоя
- •Нанесение фоторезиста
- •Сушка фоторезистивного покрытия
- •Процесс формирования изображения микросхемы
- •Фотошаблоны и методы их изготовления
- •Методы совмещения топологических слоев через фотошаблон
- •Процессы проявления фоторезистов
- •Процессы воспроизведения рельефа изображения
- •Заключительные этапы литографического процесса
- •Другие виды литографии
- •Электроннолитография
- •Рентгенолитография
- •Ионнолитография
- •Планарная технология изготовления электронных приборов.
- •Последовательность операций при изготовлении транзистора по планарной технологии
- •Планарно-эпитаксиальная технология
- •. Изготовление полевых транзисторов по планарной технологии
- •Функциональные возможности планарной технологии
- •Термические процессы при изготовлении микросхем
- •Диффузия
- •Диффузия газов из материалов
- •Поверхностная диффузия
- •Механизмы поверхностной диффузии
- •Механизмы объемной диффузии
- •Диффузионное уравнение
- •Расчет распределения примеси при диффузии
- •Техника проведения диффузии Источники легирующих примесей
- •Способы проведения диффузии
- •Недостатки диффузионных методов
- •Контроль диффузионных слоев
- •Оборудование для проведения диффузии
- •Пути повышения радиационной стойкости микросхем
- •Последствия воздействия излучения на имс
- •Технологические приемы повышения радиационной стойкости имс
- •Технология элементов интегральной оптики
- •Световоды, их типы и характеристики
- •Конструктивные элементы световодных систем
- •Переключатели, модуляторы и демодуляторы.
- •Волноводы
- •Технология свч элементов
- •Технология изготовления акустоэлектронных элементов на поверхностных акустических волнах (технология пав)
- •Основные расчетные соотношения и данные для элементов гибридных интегральных микросхем. Резисторы
- •Конденсаторы
- •Катушки индуктивности
- •Площадь подложки
Пути повышения радиационной стойкости микросхем
Суть проблемы состоит в необходимости повышения надежности электронных приборов при работе в тяжелых условиях (высокая температура, повышенное фоновое радиационное облучение в условиях атомных электростанций, повышенное рентгеновское или космическое излучение). Присутствие радиационных излучений стимулирует взаимодиффузию топологических слоев микросхем, появление различного рода дефектов в полупроводниках, деградацию полимеров. В конечном итоге это приводит к появлению блуждающих токов и вызывает подачу ложных команд. Наиболее распространенными излучениями, влияющими на работу микросхем, являются : рентгеновское, электронное, гамма- и нейтронное излучение.
Последствия воздействия излучения на имс
Электронное и рентгеновское излучение. Воздействие излучения, в том числе температурного, приводит к разрыву связей с атомами кремния, к смещению атомов, формированию электронных облаков. Сечение взаимодействия электронных облаков зависит от энергии. Высокоэнергетичные электроны испытывают тормозное излучение, вызывают появление рентгеновского излучения. Электроны, теряют энергию на ионизационные процессы, на возбуждение атомов, на переизлучение. Таким образом, фоновое излучение влияет на время рекомбинации носителей заряда, на появление центров рекомбинации. При облучении микросхем низкоомные участки могут оказаться высокоомными и наоборот. Резко увеличиваются токи базы коллектора. Происходит смещение рабочих точек транзисторов. В наибольшей степени оказывается уязвима схема с общим эмиттером.
Протонное излучение (космическое). Особенности подобного излучения в большом диапазоне энергий. В дополнение к электронному излучению протонное излучение вызывает лавинные ядерные реакции и необратимые ионизационные эффекты. Последствия такого воздействия проявляются в изменении уровней логических сигналов, в потере “памяти” микросхем, в появлении ложных команд
Традиционные методы повышения устойчивости работы микросхем в тяжелых условиях заключаются в анализе типа излучения и применении корпусов из свинца.
Технологические приемы повышения радиационной стойкости имс
Повышение работоспособности ИМС в первую очередь связано с повышением уровня технологической дисциплины. В первую очередь это связано с уровнем квалификации персоанала, с наличием компьютерных программ и контрольно-измерительной аппаратуры. Перед изготовлением приборов проводятся расчеты и анализы на согласование параметров. Эти мероприятия повышают уровень контролируемости параметров технологических процессов и обеспечивают идентичность элементов приборов. Для повышения радиационной стойкости ИМС чаще напыляются диэлектрические пленки тугоплавких металлов (ZrO,TaO) методами эпитаксии (вместо SiO2,которая из-за пористости и трубчатости структуры стимулирует умножение электронов в электрическом поле). Пленки тугоплавких металлов более плотные, что позволяет выполнять их более тонкими. При проектировании микросхем стараются исключить диффузионные резисторы и обеспечить максимальную однородность легирования. Для уменьшения времени жизни носителей зарядов в качестве легирующего элемента применяется золото. Увеличение нагрузки на выходе и смещения на р-n-переходе также способствует повышению работоспособности микросхем в тяжелых условиях. Значительная роль отводится технологии испытания приборов.