
- •Физические основы микроэлектроники
- •Глава 1. Структура и физико-механические свойства твердых тел
- •1.1. Кристаллизация
- •Структура идеальных кристаллов
- •Обозначение узлов, направлений и плоскостей в кристалле.
- •Жидкие кристаллы
- •Молекул в кристаллической (а), жидкокристаллической (нематической) (б) и жидкой (в) фазах
- •И смектической (б) фазах
- •Типы межатомной связи и классификация твердых тел
- •Кристаллов с ковалентной связью: а — элементы группы ivb;
- •Дефекты реальных кристаллов
- •Внедрения (а) и замещения (б)
- •Диффузия в твердых телах
- •Два соседних узла решетки, один из которых занят атомом а, другой вакансией в
- •Распределение примеси в частных случаях диффузионного процесса
- •1. Диффузия из источника с постоянной поверхностной концентрацией.
- •2. Диффузия из тонкого слоя с фиксированным количеством примеси.
- •Температурная зависимость коэффициента диффузии.
- •Поверхностная диффузия.
- •Деформационные свойства кристаллических тел
- •Рекристаллизация
- •Дислокации
- •Перпендикулярной линии дислокации
- •Явления упрочнения
- •Физические свойства пленок и покрытий
- •Адгезия пленок и покрытий
- •Формирование адгезионной связи.
- •1. Пластичные металлы в месте соприкосновения подвергаются сильной пластической деформации (рис. 2.12), при которой полностью сминаются все неровности. Так осуществляется холодная сварка.
- •Тела жидкостью
- •Функции распределения невырожденного и вырожденного газов
- •Ферми — Дирака для вырожденного газа при абсолютном нуле.
- •Влияние температуры на распределение ферми — дирака.
- •Тепловые свойства твердых тел. Понятие о нормальных колебаниях решетки
- •Элементы зонной теории твердых тел зонный характер энергетического спектра кристаллов
- •Образование энергетических зон.
- •Эффективная масса электрона
- •Заполнение зон электронами; деление на проводники, диэлектрики и полупроводники
- •Собственные полупроводники
- •Примесные уровни в полупроводниках
- •Статистика носителей заряда в полупроводниках.
- •Положение уровня ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных и примесных полупроводниках
- •Основные и неосновные носители.
- •Неравновесные носители
- •Электропроводность твердых тел
- •Электропроводность металлов и сплавов
- •Электропроводность металлических сплавов.
- •Эффекты сильного поля
- •Явление сверхпроводимости
- •Температуры
- •Потенциального барьера при эффекте Шоттки
- •Контактная разность потенциалов
- •Электронно-дырочный переход. Методы получения р-п-перехода
Статистика носителей заряда в полупроводниках.
На рис. 6.1,а показана схематично зонная структура собственного полупроводника, на рис. 6.1,б—кривая распределения электронов по состояниям при абсолютном нуле (кривая 1) и при достаточно высокой температуре Т (кривая 2). При Т = 0 К все электроны в валентной зоне и она заполнена целиком; в зоне проводимости электронов нет. Кривая f(Е) имеет вид ступеньки. При повышении температуры ступенька размывается и «хвост» кривой распределения простирается на некоторую глубину и в зону проводимости.
Рис. 6.1. Зонная структура собственного полупроводника (а) и распределение электронов по состояниям при абсолютном нуле (1) и при высокой температуре (2) (б)
В собственном полупроводнике количество электронов в зоне проводимости равно количеству дырок в валентной зоне, уровень Ферми располагается примерно в середине запрещенной зоны.
В легированных полупроводниках уровень Ферми в полупроводниках n-типа располагается выше, а в полупроводниках р-типа ниже середины запрещенной зоны.
Положение уровня ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных и примесных полупроводниках
Интегрируя выражение для концентрации
в пределах от 0 до бесконечности, можно получить формулу для вычисления концентрации электронов :
(6.5)
Множитель перед экспонентой обозначим через NC
Тогда (6.5) примет вид:
(6.7)
Множитель Nc в (6.7) называют эффективным числом состояний в зоне проводимости.
Расчет для дырок в валентной зоне приводит к выражению:
(6.8)
где
(6.9)
— эффективное число состояний в валентной зоне.
Собственные полупроводники. В собственных полупроводниках концентрация электронов в зоне проводимости ni равна концентрации дырок в валентной зоне pi,. Приравняем (6.5) И (6.8) ,
выражение для n выражение для p
получаем выражение для μ:
(6.10)
Это соотношение и определяет положение уровня Ферми в собственном полупроводнике, который принято обозначить μi.
При абсолютном нуле:
(6.11)
Уровень Ферми в собственном полупроводнике располагается посредине запрещенной зоны (рис. 6.3, кривая 1). С повышением температуры в зависимости от соотношения эффективных масс (6.10) µ смещается вверх (кривая 2, рис.6.3). или вниз (кривая 3, рис. 6.3).
Рис. 6.3. Положение уровня Ферми в собственном полупроводнике и изменение его положения с температурой
Умножая (6.5) на (6.8) и извлекая корень, получим выражения для вычисления концентраций носителей заряда для собственного полупроводника
(6.12)
Из (6.12) видно, что равновесная концентрация носителей заряда в собственном полупроводнике определяется шириной запрещенной зоны Е g и температурой T.
Положение уровня ферми и концентрация носителей заряда в примесном полупроводнике донорного типа. В температурной зависимости положения уровня Ферми и концентрации свободных носителей заряда в примесном полупроводнике донорного типа можно условно выделить три области: область низких температур, истощения примеси и перехода к собственной проводимости.
Область низких температур.. (рис. 6.4, а) Электроны в зоне проводимости появляются только за счет ионизации донорных атомов. Поэтому можно считать, что их концентрация n = Nд — nд, где Nд — концентрация донорных атомов; nд — число электронов, оставшихся на донорных уровнях; Nд — nд — число электронов, перешедших с донорных уровней в зону проводимости.
Рис. 6.4. Изменение положения уровня Ферми с температурой в примесных полупроводниках n-типа: а —зона проводимости и примесные уровни — Eд;. Ei — середина запрещенной зоны; б — изменение положения уровня Ферми с температурой; в — изменение концентрации электронов в зоне проводимости с температурой
Зависимость положения уровня Ферми от температуры:
(6.13)
Из (6.13) видно, что при абсолютном нуле:
(6.14)
уровень Ферми располагается посредине между дном зоны проводимости и донорными уровнями. С повышением температуры (учитывая второе слагаемое (6.13)) уровень Ферми сначала поднимается вверх к дну зоны проводимости, а затем начинает опускаться и при температуре Ts пересекает донорные уровни (рис. 6.4, б).
Зависимость положения уровня Ферми от температуры:
(6.13)
Из (6.13) видно, что при абсолютном нуле:
(6.14)
уровень Ферми располагается посредине между дном зоны проводимости и донорными уровнями. С повышением температуры (учитывая второе слагаемое (6.13)) уровень Ферми сначала поднимается вверх к дну зоны проводимости, а затем начинает опускаться и при температуре Ts пересекает донорные уровни (рис. 6.4, б).
Зависимость концентрации электронов от температуры в примесном полупроводнике n – типа
.
(Ф.12)
В области истощения примеси
n =Nд (Ф. 13)
Примесные полупроводники акцепторного р - типа
Рис. 6.5. Изменение положения уровня Ферми с температурой в полупроводниках р-типа: а — валентная зона и акцепторные уровни; б — изменение положения уровня Ферми с температурой
В области низких температур
(6.20)
(6.21)
для области истощения примеси
(6.23)
На рис. 6.7 показано изменение положения уровня Ферми от температуры для полупроводников с различных концентраций доноров.
6.7. Температурная зависимость концентрации электронов при различном содержании донорной примеси (а); уровень примеси в запрещенной зоне (б); образование примесной зоны из примесного уровня при высоком концентрации примеси (в), перекрытие примесной зоны и зоны проводимости (г).
При достаточно высокой Nn примесный уровень (рис. 6.7, б) размывается в примесную зону (рис. 6.7, в), которая при некоторой концентрации примеси расширяется и сливается с зоной проводимости (рис. 6.7, г), а энергия ионизации примесных атомов обращается в нуль. Концентрация электронов (верхняя кривая на рис. 6.7, а) перестает зависеть от температуры (г). Такие полупроводники называются вырожденными, уровень Ферми в них находится в зоне проводимости.