- •Содержание
- •Тема 1. Введение. Твердое тело. Силы
- •1.1 Введение 9
- •Тема 2. Строение твердого тела 23
- •Тема 3. Дефекты. Роль дефектов в твердом теле 57
- •3.2. Точечные дефекты решетки 57
- •Тема 4. Диаграммы состояния двухкомпонентных
- •Тема 5. Некоторые положения квантовой механики 99
- •Тема 6. Элементы зонной теории твердого тела. Взгляд на строение атома и твердого тела с позиций квантовой механики 119
- •Тема 7. Полупроводники. Собственный полупро-
- •Тема 8 . Размерное квантование и квантово-размер-
- •Тема 9. Основные положения термодинамики, механизмы роста пленок и образование зародышей 192
- •Тема 10. Технология получения, механизмы и режимы роста гетероэпитаксиальных структур 232
- •Тема 11. Методы получения нанообъектов и квантово-размерных структур 267
- •Тема 12. Методы исследования наноматериалов 341
- •Тема 1. Введение. Твердое тело. Силы взаимодействия. Типы связи.
- •1.1. Введение
- •1.2. Твердое тело. Силы взаимодействия. Типы связи.
- •Тема 2. Строение твердого тела. Цели и задачи изучения темы:
- •2.1. Кристалл.
- •2.2. Решетка Бравэ. Трансляция. Элементарная ячейка.
- •2.3.Элементы симметрии.
- •2.4. Группы симметрии. Сингонии.
- •2.5. Плотнейшие упаковки частиц в структурах.
- •2.6. Жидкие кристаллы.
- •2.7.Наночастицы с гранецентрированной решеткой. Кубоктаэдр.
- •Элементы симметрии.
- •Тема 3. Дефекты. Роль дефектов в твердом теле.
- •3.1. Дефекты кристаллических решеток.
- •3.2. Точечные дефекты решетки
- •3.3. Линейные дефекты кристаллической решетки.
- •3.4 Поверхностные дефекты кристаллической решетки.
- •3.5. Объёмные дефекты кристаллической решетки.
- •3.6. Энергетические дефекты кристаллической решетки.
- •3.7. Твёрдые растворы
- •Поверхностные дефекты кристаллической решетки.
- •Тема 4. Диаграммы состояния двухкомпонентных систем.
- •4.1. Типы диаграмм состояния.
- •Тема 5. Некоторые положения квантовой механики.
- •5.1.Возникновение квантовой механики.
- •5.2. Волновая функция ψ. Плотность вероятности.
- •5.3. Соотношение неопределенности Гейзенберга.
- •5.4. Общее уравнение Шредингера. Уравнение Шредингера для стационарных состояний.
- •5.5. Принцип причинности в квантовой механике.
- •5.6. Движение свободной частицы
- •5.7. Частица в одномерной прямоугольной «потенциальной яме» с бесконечно высокими «стенками».
- •5.8. Прохождение частицы сквозь потенциальный барьер. Туннельный эффект
- •5.9. Линейный гармонический осциллятор в квантовой механике.
- •Принцип причинности в квантовой механике.
- •Движение свободной частицы.
- •Тема 6. Элементы зонной теории твердого тела. Взгляд на строение атома и твердого тела с позиций квантовой механики.
- •6.1. Взгляд на строение атома и твердого тела с позиций кванто-вой механики.
- •6.1.1. Современный взгляд на строение и свойства
- •6.1.2. Взгляд на строение атома с позиций квантовой механики.
- •6.2. Элементы зонной теории.
- •6.2.1.Основные положения зонной теории.
- •6.2.2. Волновая функция электрона в периодическом поле.
- •6.2. 3. Зоны Бриллюэна.
- •6.2.4. Методы расчета энергетической структуры кристаллов.
- •6.2.4.1. Приближение сильносвязанных электронов.
- •6.2.4.2. Приближение свободных электронов. Энергетический спектр электронов в прямоугольной потенциальной яме.
- •6.2.4.3. Приближение слабосвязанных электронов.
- •6.2.5. Модель Кронига – Пенни.
- •6.2.6. Заполнение зон электронами. Металлы, диэлектрики, полупроводники.
- •Тема 7. Полупроводники. Собственный полупроводник. Генерация и рекомбинация носителей зарядов. Уровень Ферми. Эффективная масса носителя заряда. Примесный полупроводник. Цели и задачи изучения темы:
- •7.1. Полупроводники.
- •7.2.Собственные и примесные полупроводники. Носители заряда в полупроводниках.
- •7.3. Энергия Ферми.
- •7.4. Генерация и рекомбинация носителей зарядов.
- •7.5. Собственная проводимость полупроводника.
- •7.6. Примесные полупроводники.
- •7.6.1. Примесные уровни.
- •7.6.2. Примесная проводимость полупроводников.
- •7.6.3. Полупроводник р-типа.
- •7 .6.4. Сильно легированный полупроводник. Роль беспорядка в кристалле.
- •7.7. Температурная зависимость проводимости примесных полупроводников.
- •7.8. Дрейфовый и диффузионный токи в полупроводнике.
- •А плотность дырочного дрейфового тока
- •Вопросы для повторения:
- •Резюме по теме:
- •Тема 8 . Размерное квантование и квантово-размерные структуры.
- •8.1. Принцип размерного квантования
- •8.2. Условия наблюдения квантовых размерных эффектов.
- •8.3. Структуры с двумерным электронным газом.
- •8.4. Структуры с одномерным электронным газом (квантовые нити).
- •8.5. Структуры с нуль-мерным электронным газом
- •8.6. Структуры с вертикальным переносом.
- •Тема 9. Основные положения термодинамики, механизмы роста пленок и образование зародышей.
- •9.1. Основные понятия термодинамики.
- •9.2. Три начала термодинамики.
- •9.3. Термодинамические потенциалы.
- •9.4. Термодинамическая теория фазовых равновесий.
- •9.4.1. Термодинамические системы.
- •9.4.2. Условия фазового равновесия.
- •9.4.3. Фазовые переходы.
- •9.5. Принцип локального равновесия.
- •9.6. Самоорганизация систем.
- •9.7. Поверхностные явления.
- •9.7.1. Поверхностная энергия.
- •9.7.2. Поверхностное натяжение.
- •9.7.3. Капиллярные явления.
- •9.7.4. Адсорбция, десорбция и испарение с поверхности.
- •9.8. Массоперенос и ионизация на поверхности.
- •9.8.1. Массоперенос и ионизация на поверхности.
- •9.8.2. Межфазные характеристики.
- •9.9. Механизмы роста пленок на реальных подложках.
- •Тема 10. Технология получения, механизмы и режимы роста гетероэпитаксиальных структур.
- •10.1. Гетерогенные процессы формирования наноструктур
- •10.1.1. Молекулярно-лучевая эпитаксия.
- •10.2. Газовая эпитаксия из металлоорганических соединений.
- •10.3. Метод нанолитографии.
- •10.4. Самоорганизация квантовых точек и нитей.
- •10.4.1. Режимы роста гетероэпитаксиальных структур.
- •10.4.2. Рост наноструктур на фасетированных поверхностях.
- •10.4.3. Трехмерные массивы когерентно-напряженных островков.
- •10.4.4. Поверхностные структуры плоских упругих доменов.
- •1 0.4.5. Структуры с периодической модуляцией состава в эпи-таксиальных пленках твердых растворов полупроводников.
- •1 0.5. Изготовление наноструктур и наноприборов с помощью стм и асм.
- •Тема 11. Методы получения нанообъектов и квантоворазмерных структур.
- •11.1. Коллоидная и золь-гельная технология.
- •11.1.1. Формирование структур на основе коллоидных растворов.
- •11.1.2. Организация и самоорганизация коллоидных структур.
- •11.1.3. Оптические и электронные свойства коллоидных кластеров.
- •11.1.4. Коллоидные кристаллы. Формирование упорядоченных наноструктур.
- •11.1.5. Золь-гель технология.
- •11.1.6. Методы молекулярного наслаивания и
- •11.1.7. Методы получения металлов и диэлектриков.
- •11.2. Методы получения упорядоченных наноструктур. Гетероструктуры.
- •11.2.1. Гетероструктуры – основа получения наноструктур.
- •11.2.2. Формирование полупроводниковых и металлических нановолокон и спиралей.
- •11.2.3 Самоорганизация при эпитаксиальном росте.
- •12.2.3.1. Наногофрированные структуры.
- •11.2.3.2. Самоорганизация гетероэпитаксиальных структур.
- •11.3. Пучковые методы нанолитографии.
- •11.3.1. Литографические методы формирования структур.
- •11.3.2. Оптическая литография.
- •11.3.3. Рентгеновская литография.
- •11.3.4. Электронная литография.
- •11.3.5. Ионная литография.
- •11.3.6. Возможности пучковых методов нанолитографии в наноэлектронике.
- •11.3.7. Нанопечатная литография.
- •11.3.8. Ионный синтез квантовых наноструктур.
- •11.4. Рост на активированных поверхностях. Нановискеры.
- •11.5. Методы зондовой нанотехнологии.
- •11.5.1. Физические основы зондовой нанотехнологии.
- •11.5.2. Контактное формирование нанорельефа.
- •11.5.3. Бесконтактное формирование нанорельефа.
- •11.5.4. Локальная глубинная модификация поверхности.
- •11.5.5. Межэлектродный массоперенос.
- •11.5.6. Локальное анодное окисление.
- •11.5.8. Совместное использование лазера и стм
- •Тема 12. Методы исследования наноматериалов.
- •12.1. Введение.
- •12.2. Методы исследования химического состава поверхности.
- •12.2.1. Масс-спектроскопия.
- •12.2.3. Ионная масс-спектроскопия.
- •12.2.4. Фотоэлектронная спектроскопия.
- •12.2.5. Радиоспектроскопия.
- •12.3. Исследования физической структуры поверхности.
- •12.3.1. Рентгеноструктурный анализ.
- •12.3.2. Рентгеновская спектроскопия и дифракция.
- •1 2.3.2.1. Рассеяние на аморфных и частично упорядоченных объектах. Малоугловое рентгеновское рассеяние.
- •12.3.2.2. Рентгеновская спектроскопия поглощения: exafs, xans, nexafs.
- •12.3.3. Анализ поверхности электронным пучком.
- •12.3.4. Полевая эмиссионная микроскопия.
- •12.3.5. Сканирующая зондовая микроскопия.
- •12.3.5.1. Сканирующая туннельная микроскопия.
- •12.3.5.2. Атомно-силовая микроскопия.
- •12.3.6. Магнито – силовая микроскопия.
- •12.3.7. Электронная микроскопия.
- •12.3.8. Эллипсометрия.
- •12.4. Спектроскопия.
- •12.4.1. Инфракрасная и рамановская спектроскопия.
- •12.4.2. Фотоэмиссия и рентгеновская спектроскопия.
- •12.5. Методы исследования кинетических свойств объема и поверхности наноматериалов и наноструктур.
- •12.5.1. Исследование удельного сопротивления.
- •12.5.2. Диагностика поверхностных состояний.
- •12.5.3. Кинетические параметры.
1 0.5. Изготовление наноструктур и наноприборов с помощью стм и асм.
Описанные в предыдущих разделах методы получения наноструктур в той или иной мере используют элементы хорошо развитой традиционной технологии. В то же время развитие техники привело к появлению оборудо-вания, которое позволяет непосредственно изготовить наноструктуры. Эти возможности появились после изобретения сканирующего туннельного микроскопа (СТМ) и атомно-силового микроскопа (АСМ).
С помощью иглы СТМ возможно перемещать отдельные атомы и располагать их в нужной последовательности. Если атом, который необходимо переместить, соединен с поверхностью образца ковалентной связью, то электрического поля, создаваемого иглой СТМ, может оказаться достаточно для разрыва этой связи. В результате такого акта атомной эмиссии атом будет прицеплен к кончику иглы. Затем иглу СТМ переме-щают в другую точку поверхности, меняют знак напряжения смещения между иглой и поверхностью образца и помещают атом обратно на поверхность. Так, например, группой исследователей из IBM на поверхности кристалла никеля была изготовлена из отдельных атомов ксенона надпись «IBM». Однако любая созданная таким образом наноструктура может легко разрушаться из-за миграции атомов по поверхности. Именно по этой причине упомянутая выше надпись «IBM» была изготовлена только при гелиевой температуре. Тем не менее, работы в этом направлении нанотехнологии продолжаются при комнатной температуре.
Другой способ использования СТМ в нанотехнологии состоит в том, что между зондом и подложкой прикладывают достаточно большое напряжение, под действием которого материал с кончика зонда начинает напыляться на подложку. При перемещении зонда атомы попадают на поверхность и образуют нить нанометрового масштаба. Предложен также способ разложения металлоорганических соединений при прохождении тока между иглой СТМ и подложкой. В результате металл осаждается на подложку, и таким образом при движении иглы тоже образуют тонкую металлическую нить субмикронного размера. В результате становится возможным изготавливать из нанопроволок рисунки сложной формы, созда-вать элементы наноструктур. Для одновременного изготовления большого количества наноструктур на одной подложке разрабатывают наноманипу-ляторы, содержащие большое число микро-СТМ. Управление наномани-пуляторами производится с помощью компьютера, они способны одновре-менно с изготовлением прибора вести наблюдение за поверхностью, на которой производится сборка наноструктур.
Применение зонда АСМ позволяет использовать непроводящие подложки, он может перемещать атомы чисто механически. Это позволяет разработать новый тип нанолитографии – с применением АСМ. Таким способом был изготовлен МОП-транзистор с общим размером 100 нм и с рабочей областью 60 нм.
Изготовление наноструктур и наноприборов с помощью СТМ и АСМ можно назвать механическим синтезом (механосинтезом). Эти работы находятся в самой начальной стадии развития, и потребуется еще много усилий для доведения методов механосинтеза до уровня промышленного производства.
Другое направление развития в изготовлении компонентов для электроники нанометрового масштаба – это химический синтез (химическая самосборка), в котором используются супермолекулярные структуры. Химическая самосборка – это спонтанная ориентация ряда молекул в энергетически выгодную супермолекулярную структуру. На этой основе возможно изготовление элементов молекулярной электроники, в которых, например, выполнение операций переключения производится за счет перемещения атома. Были выполнены успешные опыты по использованию биологических молекул для изготовления наноразмерных объектов. В них использовали малые органические молекулы с функциональной группой на одном конце, с помощью которой они прикрепляются к подложке в один ряд (так называемые самособранные монослои (SAM – Self-Assembled Mono-layers)). Они могут быть использованы вместо фоторезиста для защиты поверхности от травящих растворов. В SAM удается получить отверстия нанометрового масштаба и изготовить рисунок, который невозможно создать при помощи обычной литографии. Известны эксперименты по изготовлению упорядоченных нанокластеров CdS с использованием пептидов. Экспери-менты в направлении химического синтеза также находятся в самой начальной стадии развития. Интерес к этому виду нанотехнологии обусловлен тем, что химическая самосборка дает возможность параллельной сборки чрезвычайно большого количества совершенно одинаковых элементов. Для нее также характерен процесс исправления ошибок: в процессе сборки система сама имеет тенденцию освобождать растущую структуру от каких-либо молекул «ошибочного типа» или в «ошибочном положении».
Вопросы для повторения:
Что такое молекулярно-лучевая эпитаксия? Чем отличается гетеро-эпитаксия?
Перечислите основные узлы установки молекулярно-лучевой эпитаксии.
Перечислите важнейшие моменты эпитаксиального роста на примере роста слоев GaAs.
Изложите основные принципы применения газовой эпитаксии из металлоорганических соединений.
Режимы роста гетероэпитаксиальных структур.
Как происходит рост наноструктур на фасетированных поверхностях?
Механизм образования трехмерных массивов когерентно-напряженных островков.
Получение структуры с модуляцией состава твердого раствора.
Изготовление наноструктур и наноприборов с помощью СТМ и АСМ.
Резюме по теме
В процессе изучения темы мы ознакомились с некоторыми аспектами технологии молекулярно-лучевой эпитаксии и газофазной эпитаксии, а также с механизмами роста гетероэпитаксиальных структур.
Литература
А.Я. Шик, Л.Г. Бакуева, С.Ф. Мусихин, С.А. Рыков, Физика низкоразмерных систем, Санкт-Петербург, Наука, 2001, с.160.
М. Херман, Полупроводниковые сверхрешетки, М., Мир, 1989.
Молекулярно-лучевая эпитаксия и гетероструктуры, под.ред. Л.Ченга и К. Плога, М., Мир, 1989, с.582.
З.Ю. Готра, Технология микроэлектронных устройств, М., Радио и связь, 1991.
R. Nőtzel, Self-organization growth of quantum –dot structures, Semicond. Sci. Technol. V.11, 1996, p.1365.
Н.Н. Леденцов, В.М. Устинов, В.А. Щукин, и др., Гетероструктуры с квантовыми точками: получение, свойства, лазеры., ФТП, Т.32, 1998, с. 385.
V.A. Shchkin, D. Bimberg, Spontaneous ordering of nanostructures on crystal surfaces, Rev. Mod. Phys, V.71, 1999, p.1125.
I. Daruka, A.L. Barabasi, Dislocation- free islands formation in heteroepitacsial grown: a study at equilibrium, Phys.Rev.Lett. V.79, 1997, p.3708.
А.Г. Хачатрян, Теория фазовых превращений и структура фазовых превращений, М., Наука, 1974.
С.А. Рыков, Сканирующая зондовая микроскопия полупроводниковых материалов и наноструктур, Под.ред. А.Я. Шика, Сп.б.: Наука, 2001.
