
- •Оглавление
- •Классификация мэт
- •Проводниковые материалы
- •Физическая природа электропроводности металлов
- •Зависимость электропроводности металлов от температуры и примеры
- •Электрические свойства металлических сплавов
- •Сопротивление проводников на высоких частотах
- •Сопротивление тонких металлических плёнок. Размерный эффект
- •Контактные явления в металлах
- •Материалы высокой проводимости. Медь
- •Алюминий
- •Сверхпроводящие металлы и сплавы
- •Специальные сплавы
- •Сплавы для термопар
- •Сплавы для корпусов приборов
- •Тугоплавкие металлы
- •Благородные металлы
- •Неметаллические проводящие материалы
- •Полупроводники. Классификация полупроводниковых материалов
- •Собственные и примесные полупроводники
- •Температурная зависимость концентрации носителей заряда.
- •Подвижность носителей заряда в полупроводниках
- •Электрофизические явления в полупроводниках.
- •Кремний
- •Физико-химические и электрические свойства Si
- •Марки кремния.
- •Германий
- •Физико-химические и электрические свойства германия
- •Карбид кремния (SiC)
- •Полупроводниковые соединения аiii вv
- •Твердые растворы на основе аiii вv
- •Полупроводниковые соединения aiibvi и трз на их основе
- •Полупроводниковые соединения aivbvi и трз на их основе
- •Диэлектрики, классификация, основные свойства
- •Электропроводность диэлектриков
- •Потери в диэлектриках
- •Пробой диэлектриков
- •Полимеры в электронной технике
- •Композиционные пластмассы и пластики
- •Электроизоляционные компаунды
- •Неорганические стекла
- •Ситаллы
- •Керамики
- •Активные диэлектрики
- •Сегнетоэлектрики
- •Пьезоэлектрики
- •Пироэлектрики
- •Электреты
- •Жидкие кристаллы
- •Материалы для твердотельных лазеров
- •Магнитные материалы. Их классификация
- •Магнитомягкие материалы
- •Магнитотвердые материалы
- •Технология получения материалов электронной техники Методы получения тонких пленок
- •Вакуумные методы. Термическое вакуумное напыление.
- •Кинетика процесса конденсации. Роль подложки
- •Создание вакуума в вакуумных установках
- •Измерение вакуума
- •Вакуумные установки термического напыления
- •Катодное вакуумное распыление (диодное)
- •Ионно - плазменное распыление
- •Эпитаксиальные процессы в технологии материалов электронной техники
- •Механизм процесса эпитаксии
- •Автоэпитаксия кремния
- •Гетероэпитаксия кремния
- •Эпитаксия полупроводниковых соединений аiiibv и трз на их основе
- •Температурно - временной режим эпитаксии
- •Эпитаксия SiC
- •Оборудование для наращивания эпитаксиальных слоев
- •Элионные технологии
- •Ионно-лучевые установки
- •Механическая обработка полупроводниковых материалов
- •Шлифование и полирование пластин
- •Химическая обработка поверхности полупроводника
- •Методы отчистки поверхности
- •Фотолитография (операции, материалы)
- •Нанотехнология, определения и понятия
- •Инструменты для измерения наноструктур
- •Наноструктуры и наноустройства
- •Методы нанотехнологий
Материалы высокой проводимости. Медь
Медь в электронике применяют для изготовления проводов, кабелей, шин, токоведущих деталей приборов, анодов, обмоток трансформаторов, магнетронов, волноводов, резонаторов. В микроэлектронике для изготовления фольгированного диэлектрика - гетинакса для производства печатных плат.
Преимущества – малое удельное сопротивление (ещё меньше только у Ag), а также
- высокая механическая прочность,
- относительно высокая теплопроводность,
- удовлетворительная стойкость к коррозии,
- хорошая обрабатываемость (может быть изготовлена проволока толщиной тысячные доли мм),
- относительная лёгкость пайки и сварки.
Получение: - переработка сульфидных руд → черновая медь → электрорафинирование → катоды весом 80-90 кг.
Методом холодной протяжки получают твердотянутую медь (марка МТ). Имеет высокий предел прочности при растяжении, малое относительное удлинение, твердость и упругость при изгибе (пружинит).
Отожженная медь (нагрев до нескольких сот °С) с последующим охлаждением (марка ММ) – пластична, имеет меньшую прочность, твердость, более высокую удельную проводимость. Стандартная отожжённая медь имеет =0,017241 мкОм·м
Наиболее распространены в стране марки меди М1 и МО. М1 содержит 99,9% Cu, кислорода должно быть не больше 0,08%. О2 – вредная примесь в Cu. Ухудшает механические свойства, затрудняет пайку и лужение. При [O2]>0,1% при горячей обработке давлением Cu разрушается.
Марка МО – 99,95% Cu, кислорода должно быть не > 0,02%. Она имеет лучшие механические свойства.
Бескислородная медь, содержит 99,97% Cu – получают переплавкой в восстановительной атмосфере СО (О2+2СО→2СО2). Используется в электровакуумной технике.
Ещё более чистая – вакуумная медь, выплавленная в вакуумных индукционных печах при остаточном давлении газа ~ 10-3 Па. Содержит 99,99% Cu. Основное преимущество – высокая пластичность, такое же, как у отожженной меди.
Свойства меди: удельная проводимость меди сильно зависит от примесей:
0,5% Zn, Cd, Ag уменьшают проводимость на 5%. Ni, Sn, Al уменьшают проводимость на 25-40%. Be, As, Fe, Si, P уменьшают проводимость на 55% и больше.
Коррозионная стойкость сильно уменьшается с повышением температуры (окисные и сульфидные плёнки). Из-за этого медь непригодна для слаботочных контактов. Сильно ухудшает механические свойства Cu примесь водорода (в несколько раз), особенно если в Cu есть кислород в виде Cu2O:
Cu2O+H2=2Cu+H2O
Присутствие воды обеспечивает повышение давления за счет парообразования до нескольких тысяч атмосфер, что приводит к микротрещинам и хрупкости меди. Это называются водородной болезнью. При наличии в Cu водорода он и сам способен выделяться из твердого раствора с медью под большим давлением, разрывая металл и скапливаясь на границах зерен.
Алюминий
Применение: в интегральных микросхемах в качестве контактов и межсоединений. Последние дают связь между элементами схемы и обеспечивают внешние присоединения. Наносят испарением в вакууме. Рисунок выполняется с помощью фотолитографии. Имеет хорошую адгезию к Si и SiO2. Даёт хорошие омические контакты с Si.
Дает хорошее разрешение при фотолитографии. Недостаток - подвержен электромиграции, что может приводить к увеличению электрического сопротивления межсоединений.
Сравнение Al с Cu: плотность Al в 1,6 раза больше чем у Cu, но Al в 3,5 раза легче, то есть при одинаковой проводимости Al в 2 раза легче Cu, а также дешевле. Прочность на разрыв в 3 раза меньше Cu. При температуре ниже жидкого азота проводимость Al выше, чем у Cu.
Получают: электролизом глинозема Al2O3 в расплаве криолита Na2AlF6 при 950˚С.
Марки
Al.
Для электротехнических целей АЕ (0,5%
примесей) технической чистоты. Отожженная
проволока АЕ имеет
.
Al высокой чистоты А 97 (0,03% примеси) используют для изготовления фольги (6-7 мкм), электродов, конденсаторов электролитических.
Al особой чистоты А 999 (0,001% примеси).
Примеси увеличивают электрическое сопротивление. Так 0,5% Ni, Si, Zn, Fe, As, Sb, Pb, Bi увеличивают сопротивление на 2-3%. 0,5% Cu, Ag, Mg увеличивают сопртивление на 5-10%.V, Ti, Mn увеличивают сопртивление еще больше.
Перспективен Al как криопроводник (лучше Cu). Поверхность Al покрыта тонкой окисной пленкой с большой плотностью. Пленка предохраняет от коррозии, но создает большое переходное сопротивление в местах электрических контактов. Это делает невозможным пайку Al без использования специальных паст, припоев или УЗ-паяльников. Иногда электрохимической обработкой увеличивают толщину пленки для повышения изоляции. Пленка толщиной 0,03 мм имеет пробивное напряжение 100 В, а толщиной 0,04 мм примерно 250 В. Это позволяет делать катушки без дополнительной изоляции. Правда пленка имеет плохую гибкость и гигроскопична. Места контакта Al и Cu подвержены сильной гальванической коррозии, особенно в присутствии воды (алюминиевый проводник может быть разрушен). Поэтому места контакта с Cu защищают от воды лаком.