
- •Кинематика упругого соударения в лабораторной системе координат
- •Связь углов рассеяния в системе центра инерции с углами рассеяния в лабораторной системе координат
- •Переход от дифференциального сечение рассеяния в единицу телесного угла dw в с.Ц.М. К дифференциальному сечению рассеяния в единицу телесного угла dW в л.С.К.
- •Основные особенности дифференциального сечения упругого рассеяния в кулоновском потенциале в системе центра масс.
- •Дифференциальное сечение передачи энергии в упругом соударении иона с атомом образца для кулоновского потенциала взаимодействия
- •Дифференциальное сечение передачи энергии в неупругих соударениях иона с атомом образца для кулоновского потенциала взаимодействия
- •Экранированный кулоновский потенциал взаимодействия ускоренных ионов с атомами образца и границы его применимости
- •Дифференциальное (Линдхардовское) сечение передачи энергии ионом атому образца для экранированного кулоновского потенциала взаимодействия
- •Понятие тормнозной способности и удельных потерь энергии при движении иона в твердом теле
- •Тормозная способность и удельные потери энергии иона в упругих соударениях с атомами образца для кулоновского потенциала взаимодействия
- •Тормозная способность и удельные потери энергии иона в неупругих соударениях с атомами образца для кулоновского потенциала взаимодействия
- •Ядерная тормозная способность для экранированного кулоновского потенциала взаимодействия
- •Тормозная способность и удельные потери энергии для ионного пучка в многоэлементном образце
- •Распределение имплантированных ионов по длинам пробега
- •Основные характеристики распыленного потока атомов образца при облучении ионным пучком
- •Коэффициент распыления образца ионным пучком
- •Расчет скорости ионного травления
- •Основные закономерности электрон-электронной эмиссии
- •Удельные потери энергии ускоренных электронов при движении в образце
- •Сечение ударной ионизации атомов образца электронным пучком
- •Сечение фотоэффекта и его связь с линейным коэффициентом поглощения рентгеновского излучения
- •Вероятность рентгеновской флуоресценции и Оже-переходов
- •Расчет массового коэффициента поглощения для полиатомных образцов
- •Расчет пробега ускоренных электронов в образце
- •Термоэлектронные эмиттеры
- •Автоэлектронные эмиттеры
- •Принцип действия и основные элементы конструкции электронной пушки
- •Принцип действия и основные элементы конструкции ионного источника с холодным катодом (Пеннинга)
- •Принцип действия и основные элементы конструкции ионного источника типа дуаплазмотрон
- •Разделение ионных пучков по массам в магнитном поле
- •Понятие разрешения по массам магнитного масс-анализатора
Основные характеристики распыленного потока атомов образца при облучении ионным пучком
. При ионном облучении обычно интерес представляет не сам траекторный пробег, а проективный (проецированный) пробег Rр, величина которого совпадает с проекцией траекторного пробега на первоначальное направление движения иона при входе в образец
с
реднее
значение проективного пробега Rp,
– среднеквадратичное отклонение проективных пробегов
И
нтегральной
характеристикой, описывающей процесс
отражения, является коэффициент
отражения
где Nотр – все отраженные ионы с любыми энергиями и в любом зарядовом состоянии, вылетевшие из образца, облученного N0+ ионами первичного пучка.
Отраженные ионы могут иметь разный зарядовый состав: однократно и многократно заряженные положительные и отрицательные ионы; нейтральные атомы, в том числе в возбужденном состоянии (снятие возбуждения осуществляется за счет высвечивания фотона видимого света). Характеристикой зарядового состояния является вероятность вылета в том или ином зарядовом состоянии (i) при данной энергии
Коэффициент распыления образца ионным пучком
Принято рассматривать два явления распыления – физическое и химическое.
Основной характеристикой процесса распыления является коэффициент распыления
Y = Nрасп /N0+,
где N0+ – число ионов первичного пучка, попавших на образец за время облучения,
Nрасп – число атомов, распыленных (выбитых) из образца в результате облучения.
Коэффициент отражения ионов бора при имплантации в кремний
Расчет коэффициента распыления при облучении образца по нормали к поверхности в наиболее часто реализуемом режиме линейных каскадов может быть выполнен в рамках модели Зикмунда
Средний пробег иона в твердом теле от одного столкновения с атомом до другого Dl = n01/3.
Столкновения иона происходят с каждым атомом М2 по ходу движения иона, поэтому переданная атому энергия E2 @ (dE/dl)n = Sn(E)n0 / n01/3 = Sn(E)n02/3.
Число выбитых из положения равновесия атомов в одном каскаде nсм = Е2/2Ed.
Направление движения выбитых атомов – изотропно, поэтому к поверхности движется nсм /3 атомов
В этих предположениях
Если более точно учесть направление движения атомов в каскаде, зависящее от отношения масс f(М2/М1) и ввести Es = Ed/2, то получится формула Зикмунда
В рамках данной модели расчет коэффициента распыления будет корректен для тяжелых ионов (Ar, Ne) и некорректен для ионов водорода и гелия, так как для этих ионов преобладают электронные потери, которые необходимо учесть.
Еще есть полуэмпирическая формула Матсунами.
Коэффициент распыления для любых пар ион/образец имеет максимум при энергии иона, которая соответствует максимальному значению ядерной тормозной способности для данной пары ион/образец.
Значения Y для большинства пар ион/образец 1¸5 (кроме М1 ³ 100, когда реализуется режим нелинейных каскадов).
Для легких ионов (водород, гелий) Y ~ 10-2¸ 10-1.
Энергетический спектр распыленных атомов
Энергетический спектр dNрасп /dE при облучении медного образца ионами аргона с энергией 10 кэВ.
В
случае облучения образца по нормали к
поверхности угловое распределение
распыленных атомов примерно следует
закону косинуса dNрасп/dW
= N*cosa.
Нормировочная константа N*
определяется из следующего выражения
Угловое распределение распыленных атомов при бомбардировке образца по нормали к поверхности
В случае наклонного облучения образца, можно считать, что количество распыленных атомов пропорционально траектории бомбардирующего иона и выходят (распыляются) из образца лишь атомы, выбитые из положения равновесия на расстояниях от поверхности не больших d.
Тогда, если Nрасп (0) – количество распыленных атомов при бомбардировке по нормали к поверхности, а Nрасп (q) – количество распыленных атомов при бомбардировке под углом q к нормали, то Nрасп (q)/Nрасп (0) @ R0/d = (d /cosq)/d = 1/cosq и, следовательно, коэффициент распыления при наклонной бомбардировке