
- •Элементы оптоэлектроники
- •Основой всей оптоэлектроники является излучатель!
- •Оптическое излучение и сид
- •Поток излучения (Фе) и световой поток (Фv)
- •Сила излучения (Ie) и сила света (IV)
- •Энергетическая яркость (Ме) и энергетическая светимость (Мv)
- •Энергетическая освещённость Еe,V
- •Светоизлучающий диод
- •Uобратное max
- •Диаграмма направленности:
- •Конкретные типы сид:
- •Ик Диоды
- •Фотоприёмники (фп)
- •Фотопроводимость и фото – эдс
- •(Оба эффекта используются на практике!)
- •Фотодиод
- •Фотоприёмники с внутренним усилением
- •Фототранзистор
- •Составной фототранзистор
- •Фототиристор
- •Фоторезистор
- •Структурная схема оптрона:
- •Классификация оптронов:
- •Перспектива: Создание монолитных оптопар в виде цельнотельных структур!!! Обозначение оптопар: Резисторная оптопара (r) Диодная оптопара (d)
- •Пример: аод101б
(Оба эффекта используются на практике!)
Процесс образования фотоносителей в полупроводнике: сначала, образуются дополнительные электроны и дырки при поглощении полупроводником, квантов оптических излучений. Энергия фотонов передаётся электронам в валентные зоны с переводом их из валентной зоны в зону проводимости.
Для того чтобы фотон излучения создавал пару носителей надо:
ф1 = h*1 c - v
ф2 = h*2 c - t
где v – энергетический уровень потолка валентной зоны;
c – дно валентной зоны;
t – энергетический уровень примеси.
Для того чтобы собственный фотоэффект имел место быть, надо чтобы длина волны излучения, падающего на полупроводник равнялась:
гранич.
=
,
где гр.
– длинноволновая граница
фотоэффекта;
запр.зоны – ширина запрещённой зоны.
Материал |
Si |
Ge |
GaAs |
CdS |
CdSe |
граничное |
1.1 |
1.8 |
0.9 |
0.7 |
0.8 |
Параметры фотоэффекта: 1) Эффективность протекания фотоэлектрических процес- сов характеризуется квантовым выходом (ф).
ф
=
, где
n – число пар
излучения упавших на полупроводник.
В рабочем диапазоне длин волн ф = 1
2) Глубина поглощения в полупроводнике (0).
На практике используют показатель поглощения: 1/0 = 1/Ф(х) * dФ/dx
Ф(х) = Ф0 * e-x/;
Глубина поглощения – это толщина полупроводника после прохождения, которого поток излучения уменьшается в е раз!
Параметры и характеристики фотоприёмника:
1) Чувствительность – это величина, отражающая изменение электрического состояния на выходе при подаче на вход единичного оптического сигнала.
Количественно, чувствительность определяется как отношение изменения измеряемой электрической выходной величины, вызванной падающим на фотоприёмник излучением, к количественной характеристике этого излучения! В зависимости от измеряемой величины, на выходе будем иметь токовую или вольтовою чувствительность.
Si Фv = Iф / Фv; Si Еv = Iф / Еv.
2) Шумовые параметры – определяются током или напряжением шума.
Фотоприёмник имеет собственные шумы. Их составляющие:
- шум полупроводникового прибора
- фотонный шум (из-за флуктуации падающих фотонов)
Появляется шумовая составляющая, которая не позволяет регистрировать сколь угодно малые оптические входные сигналы.
Характеристики фотоприёмника:
-
ВАХ – определяет значение выходного напряжения от тока на выходе, при определённом потоке излучения: Uвых. = ( Iвых.ср.).
-
Спектральная характеристика – определяет зависимость чувствительности фотоприёмника от длины волны падающего излучения: S = ().
к – коротковолновая граница длин волн, определяющаяся поглощением падающего излучения в пассивных частях структуры.
гранич. – определяется шириной запрещённой зоны
-
Энергетическая характеристика – определяет зависимость фототока от потока излучения (светового потока).
Фотодиод
- это фотоприёмник, принцип действия которого основан на фотогальваническом эффекте, и фоточувствительный элемент, который содержит структуру полупроводникового диода.
Упрощённая структура полупроводникового диода
Излучение воздействует в направлении перпендикулярном «p-n» переходу, в результате поглощение фотонов с энергией >, чем ширина запрещённой зоны, в n - Базе на глубине (0) происходит генерация фотоносителей: электронов и дырок. Они диффундируют в глубь n – области. Ширина этой области (), такова, что основная часть носителей не успевает рекомбинировать и доходит до “p-n” перехода. Электрическим полем (Е0) “p-n” перехода, электроны и дырки разделяются, при этом дырки переходят в p – область, а электроны не могут преодолеть потенциальный барьер и остаются в n – области. Следовательно, ток фотоносителей обусловлен дрейфом неосновных носителей (дырок) из n – области в p – область. Этот дрейфовый ток называют фототоком. Оставшиеся электроны, заряжают n – область отрицательно, а дырки – положительно! Возникает фото-ЭДС или разность потенциалов (Еф). Она снижает потенциальный барьер до некоторого значения.
Условие: Еф < Е0., т.к. только при потенциальном барьере, происходит разделение фотоносителей, следовательно существует фототок!!!
Два режима работы фотодиодов:
-
Фотогальванический режим – без внешнего напряжения.
-
Фотодиодный режим – с обратным напряжением.
-
Iф.д. = U/R = Iф. – Ip-n = Iф.(ф) – I0*(е-U/Т – 1),
где Iф – фототок; Ip-n – ток через «p-n» переход.
В режиме холостого хода (R = ): Iф. = Ip-n; Uхх = т* ln(1 + Iф./I0).
В режиме короткого замыкания (R = 0): Iк.з. = Iф
2) Повышается потенциальный барьер «p-n» перехода из-за обратного напряжения!
Ip-n I0 (тепловой ток); Iф.д. = Iф + I0 Iф
ВАХ: Iф.д = Iф.(ф) – I0*(е-U/Т – 1)
Iквадрант – нерабочая область фотодиода, т.к. приложено прямое напряжение и диффузионная составляющая подавляет прямой фототок.
IIIквадрант – фотодиодная область.
IVквадрант – фотогальванический режим.
У Si – фотодиодов: Еф = (0.5 0.55) [В]
Оптическая
характеристика: Iф.
= q *
*
*
,
где q – коэффициент, определяющий свойства структуры;
- внутренний квантовый выход;
- коэффициент переноса, учитывающий долю непрорекомбинированных носи- телей от общего количества носителей.
Зависимость I от Ф прямолинейна, следовательно высокий КПД!!!
Спектральная характеристика: (главная характеристика)
Sф =
Iф
/Ф0
=
,
Быстродействие фотодиода: определяется процессом разделения фотоносителей и барьерной ёмкостью. Время пролёта носителей через «p-n» переход =0.1[сек.]
Разновидности фотодиодов:
I ) «p – i – n» - структура:
Область собственной проводимости – это i область, которая находится между p и n областями. При большом обратном напряжении, электрическое поле распространяется на всю i область, которая может быть достаточно широкой. Благодаря этому, можно получить быстродействующий и фоточувствительный приёмник.
Свободные носители заряда, появившиеся в i области под воздействием света, ускоряются к переходу поля. Таким образом, увеличение быстродействия диода обусловлено дрейфом носителей заряда в сильном электрическом поле, вместо диффузии. При Uобрат. = 0.1 0.2 [В] фотодиод имеет преимущество по быстродействию.
Преимущества: 1) Сочетание высокой фоточувствительности с быстродействием.
2) Возможность обеспечения высокой чувствительности в длинно волновой части спектра, из-за увеличения i области. 3) Малая барьерная ёмкость (из-за этого высокое быстродействие 10-1110-12 [сек])
4) Малое рабочее напряжение ( совместимость с ИС)
Недостаток: Сложность получения чистой i области!
II ) Фотодиод Шоттки: структура(металл – полупроводник!)
Часть электронов из металла переходит в полупроводник. Появляются избыточные электроны при контактной области, вызывающие появление объёмного отрицательного заряда, что создаёт электрическое поле, препятствующее проникновению электронов из металла в полупроводник. Следовательно, обеспечивается динамическое равновесие.
В зависимости от полярности приложенного напряжения, мы можем менять высоту барьера Шоттки и управлять потоком электронов.
Особенности: 1) Простота создания выпрямляющих структур из полупроводника.
2) Сочетание высокой фоточувствительности и быстродействия.
3) Малое сопротивление Базы фотодиода.
4) Простота и технологичность изготовления этих структур на основе стандартной планарной технологии.
III ) Фотодиоды с гетероструктурой:
Гетеропереход – это переходный слой, возникающий на границе двух полупроводников с разной шириной запрещённой зоны.
Слой (GaAlAs – твёрдый раствор), играет роль фотоприёмного окна. Он пропускает излучение, поглощаемое в активной n – области. Генерируемые дырки перемещаются в p+. Размеры p и n областей таковы, что отсутствуют потери квантов и рекомбинационные потери [дырок] при движении в n – область.
Преимущества: 1) Гетероструктура, из-за подбора полупроводников с различной шириной запрещённой зоны, позволяет работать (практически) в любой части оптического диапазона длин волн, т.к. длина волны определяется разницей ширины запрещённых зон.
2) Высокий КПД.
Недостаток: Сложность изготовления гетероструктуры!
IV ) Лавинные фотодиоды:
Физической основой работы, является лавинный пробой. Этот эффект используется для создания чувствительных фотодиодов. Пробой возникает тогда, когда энергия приобретённая фотоносителями, достаточна для создания других электронно-дырочных пар. В свою очередь, эта пара приобретает энергию для создания ещё одной электронно-дырочной пары, и т. д.
Коэффициент лавинного умножения: M = Iф / Iф0 ,
где Iф – фототок с лавинным пробоем;
Iф0 – фототок без лавинного пробоя.
M =
;
где m = 1.5 2 (Si
– p типа); m = 3.4
4 (Si – n типа).
Недостатки: для получения стабильного М, нужна высокая стабильность напряже- ния.
Например: для стабильности М в 10%, стабильность напряжения = 0.01%.