Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
КИПР конспект.doc
Скачиваний:
86
Добавлен:
10.12.2018
Размер:
3.91 Mб
Скачать

Инженерное обеспечение качества изображения.

Основные факторы, определяющие результат наложения:

  • Качество экспонирования и точность совмещения;

  • Окружающая среда;

  • Стабильность геометрических размеров фотошаблона;

  • Совмещение рисунка при последующих операциях.

Для серийного с разрешением 0,2 – 0,3 мм. Используют установки с источником рассеянного света. Может произойти разрыв края резиста. Но частицы в зоне засветки не влияют на резист благодаря боковым пучкам (до 30 мкм.). Помещения не требуют принятия дополнительных мер. Перегрев фотошаблона в зоне экспонирования может достигать 10 С, что приводит к изменению размеров.

Есть свои особенности, связанные с совмещением. В серийном производстве печатных плат максимальное разрешение 0,17 мм – для самых лучших установок этого класса. Для меньших величин применяются более высокие требования.

Классы точности

  1. класс точности – платы с пониженной плотностью монтажа, 0,5 мм.

  2. класс точности – не менее 0,25 мм

  3. класс точности – до 0,15 мм; платы, на которых расположены ИС средней степени интеграции.

Не стоит выбирать плату большего класса точности, так как это влечет за собой повышение точности элементной базы. Шаг 1,25 и 2,5 мм вполне достаточны для установки и троссеровки.

4,5 класс точности – более высокие требования.

*************************************************************************

Методы изготовления печатных плат.

  1. Субтрактивные

  2. Аддитивные

  3. Полуаддитивные

  4. Комбинированные

Субстрактивные методы. Метод наиболее распространен для различных по сложности конструкций. Основной метод – химический. Реализуется в производстве односторонних печатных плат, где присутствуют селективная защита и травление.

Схема процесса:

  • Вырубка заготовки;

  • Сверление отверстий;

  • Подготовка поверхности фольги, удаление заусенцев;

  • Трафаретное нанесение защитного рисунка;

  • Травление открытых участков;

  • Сушка;

  • Нанесение паяльной маски;

  • Горячее облуживание открытых участков припоем;

  • Ненесение маркировки и контроль.

Удаление фольги с непроводящих участков осуществляется либо с помощью торцевой фрезы (для единичного и мелкосерийного производства), либо химическим травлением (офсетно-химическим, сеточно-химическим или фотохимическим): 2FeCl3+Cu2FeCl2+CuCl2. В последнем случае получаются ПП высокой точности с малым количеством пробельных мест. При восстановлении из раствора потери меди составляют 80%, кроме этого происходит подтравливание за счёт длительного взаимодействия хлористого железа с металлом. Для снижения эффекта подтравливания необходимо использовать тонкий слой фольги.

Преимущества: возможность полной автоматизации, высокая производительность, низкая себестоимость.

Недостатки: низкая плотность монтажа, использование фольгированных материалов, наличие экологических проблем.

Механическое формирование зазора.

Из сплошного слоя фольги делают рисунок. Используют специальные фрезы и станки с ЧПУ. Необходимо обеспечивать постоянство размеров.

Метод отличается коротким технологическим циклом.

Недостатки: большой расход фрез, низкая производительность.

Лазерное гравирование.

Для получения отверстий используют СО2 лазеры, а для зазоров – ультрофиолетовые лазеры.

Метод достаточно производительный, высокое разрешение – до 0,5 мм, но дорогое оборудование.

А ддитивные методы. Можно получить рисунок с помощью метода переноса со стальной матрицы. В гальваническую ванну помещается отполированная стальная матрица с защитным рисунком. После гальванического осаждения меди рисунок удаляется с матрицы и запрессовывается в горячем виде в диэлектрик. В качестве диэлектрика используются термопластичные материалы (пластмассы). Фотоаддитивный процесс:

  • Вырубка заготовки;

  • Сверление под металлизацию;

  • Нанесение фотоактивируемого катализатора;

  • Активация катализатора через фотошаблон-негатив;

  • Толстослойное химическое меднение (ТХМ);

  • Промывка платы;

  • Глубокая сушка;

  • Нанесение паяной маски;

  • Маркировка;

  • Обрезка по контуру;

  • Электрическое тестирование (контроль);

  • Приемка (сертификация).

Преимущества: использование нефольгированных материалов, возможность воспроизведения тонкого рисунка.

Недостатки: длительный контакт открытых участков с растворами, длительность процессов ТХМ.

Рассмотрим ещё один аддитивный метод получения токопроводящего рисунка (метод переноса): электрохимический. На нефольгированный диэлектрик (стеклотекстолит или гетинакс) наносится защитный рисунок таким образом, чтобы проводники и контактные площадки оставались открытыми. После этого выполняют сверление отверстий, подлежащих металлизации и проводят химическое меднение. Последнее включает в себя три операции:

  1. Сенсибилизация: SnCl2Sn2+;

  2. Активация: Pd2++Sn2+Pd0+Sn+4;

  3. Меднение: CuSO4+HCHO+NaOHCu+HCO2Na2+H2O.

Химически осаждённая медь имеет толщину 1,5 мкм и является электродом для гальванического осаждения. После гальванического осаждения, для получения монолитной структуры осуществляют оплавление рыхлой осаждённой меди. Завершающим этапом является нанесение защитного оловянно-свинцового сплава Розе для улучшения паяемости.

Д ля всех аддитивных методов характерен эффект разращивания, возникающий в результате того, что толщина слоя защитного рисунка меньше толщины слоя проводящего рисунка. Для устранения возможного эффекта закорачивания следует увеличить толщину слоя защитного рисунка (например, посредством использования сухого плёночного фоторезиста).

Преимущества: отсутствует процесс травления, экологически чистый.

Недостатки: низкая скорость процессов ТХМ, неустойчивость этих процессов, затруднена металлизация отверстий.

Полуаддитивный метод по сравнению с негативным и позитивным методами имеет два преимущества: отсутствие эффекта разращивания за счёт применения толстого слоя защитного рисунка и снижение эффекта подтравливания, так как слой химически осаждённой имеет малую толщину.

Необходим токопроводящий слой, который создается по 2-м характеристикам: атгезия и прочность:

  • Химическое осаждение тонкого слоя металла до 1 мкм

  • Вакуумное напыление

  • Газотермическая металлизация

Классический полуаддетивный метод. Схема процесса:

  • Вырубка, сверление

  • Нанесение тонкого подслоя металла

  • Усиление слоя до 6 мкм

  • Экспонирование фоторезиста (через шаблон позитив.)

  • Основная металлизация (гальваническая)

  • Гальванияческое нанесение металлорезиста (чистые металлы, сплавы)

  • Удаление экспонированного фоторезиста

  • Вытравливание тонкой металлизации

  • Гальваническое осаждение контактных покрытий на концевые ламели (контактные площадки)

  • Отмывка, сушка

  • Нанесение паяной маски

  • Нанесение финишных покрытий под пайку

Преимущества: использование нефольгированных материалов, хорошее воспроизведение тонких проводников.

Недостатком метода является низкая адгезия проводников с несущим основанием.

Аддетивный метод с дифференциальнымтравлением.

Нет металлорезиста. Для формирования рисунка используется разница в толщине металлизации.

Преимущества: высокое разрешение, малые прямые расходы.

Недостатки: более сложное оборудование, сложность управления процессом.

Комбинированные методы. Комбинированный негативный метод получения проводящего рисунка подразумевает последовательное выполнение следующих операций:

  1. Входной контроль фольгированного диэлектрика;

  2. Нарезка заготовок;

  3. Вскрытие базовых отверстий;

  4. Сверление отверстий, подлежащих металлизации;

  5. Х имическая металлизация;

  6. Подготовка поверхности металлизированных заготовок;

  7. Нанесение защитного рисунка схем;

  8. Травление;

  9. Удаление защитного слоя;

  10. Сверление отверстий, не подлежащих металлизации;

  11. Гальваническое осаждение меди;

  12. Нанесение сплава Розе;

  13. Обрезка плат по контуру;

  14. Выходной контроль и консервация.

Комбинированный позитивный метод подразумевает осуществление травления после электролитического меднения и включает в себя следующие операций:

  1. Входной контроль фольгированного диэлектрика;

  2. Нарезка заготовок;

  3. Вскрытие базовых отверстий;

  4. Сверление отверстий, подлежащих металлизации;

  5. Химическая металлизация;

  6. Декапирование (удаление жировых и окисных пятен 10%ным раствором HCl);

  7. Нанесение защитного рисунка схем;

  8. Э лектролитическое меднение и нанесение металлорезиста;

  9. Удаление фоторезиста;

  10. Травление меди;

  11. Выходной контроль и консервация.