- •Введение.
- •Классификация приборов
- •Конструирование приборов. Основные понятия.
- •Сущность процесса конструирования.
- •Классификация приборов
- •Методология конструирования приборов.
- •Классификация приборов по среде применения и объекту установки
- •Методы конструирования рэс и приборов.
- •Основные определения и свойства графов.
- •Переход от электрических схем к графам и матрицам.
- •Методы размещения элементов.
- •Стадии разработки приборов системы
- •Конструкционные системы. Унифицирование конструкции.
- •Структура и состав конструкционных систем.
- •Технологичность конструкционных систем.
- •Выбор модулей конструкционных систем.
- •Основные конструкционные системы
- •Преимущества реализации рэс на конструкционных системах.
- •Система унифицированных типовых конструкций (утк).
- •Система бнк
- •Конструкционная система электронных измерительных приборов.
- •Характеристика систем несущих конструкций.
- •Элементная база
- •Конструкторско-технологическая классификация и обозначение резисторов
- •Конструкторско-технологическая классификация и обозначение конденсаторов
- •Конструкторско-технологическая классификация и обозначение полупроводниковых приборов
- •Система условных обозначений ис
- •Корпуса интегральных схем
- •Печатные платы Классификация и конструкция.
- •Инженерное обеспечение качества изображения.
- •Классы точности
- •Методы изготовления печатных плат.
- •Выбор метода изготовления печатных плат.
- •Многослойные печатные платы
- •Габариты печатных плат
- •Этапы конструирования печатных плат
- •Печатные узлы с поверхностным монтажом компонентов.
- •Конструирование электронных модулей 1-го уровня (эм1)
- •Требования к эм1
- •Конструкция эм-1 на основе убнк1
- •Система обозначений убнк-1
- •Конструирование электронных модулей 2-го уровня (эм2)
- •Требования к эм2:
- •Задачи, решаемые при конструировании эм2
- •Основные компоновочные схемы блока (эм2)
- •Анализ вариантов расположения межузловой коммутационной зоны
- •Конструкции электронных модулей 3-го уровня (эм3)
- •Защита конструкций рэс от дестабилизирующих воздействий
- •Категории рэс в зависимости от условий эксплуатации
- •Климатические воздействия:
- •Тепловые воздействия и их характеристики. Тепловые модели блоков
- •Тепловая модель блока.
- •Способы охлаждения рэс
- •Защита конструкций рэс от механических воздействий
- •Разработка конструкции рэс по вибрационной и ударной нагрузке
- •Защита от воздействия помех
- •Конструирование электрических экранов.
- •Конструирование магнитных экранов.
- •Конструирование электромагнитных экранов.
- •Электромагнитные связи в конструкциях рэс
- •Анализ электростатических связей
- •Анализ магнитных связей
- •Анализ электромагнитных связей
- •Вопросы специальной технологии рэс
- •Исходные данные для разработки рабочих технологических процессов (ртп)
- •Содержание:
Инженерное обеспечение качества изображения.
Основные факторы, определяющие результат наложения:
-
Качество экспонирования и точность совмещения;
-
Окружающая среда;
-
Стабильность геометрических размеров фотошаблона;
-
Совмещение рисунка при последующих операциях.
Для серийного с разрешением 0,2 – 0,3 мм. Используют установки с источником рассеянного света. Может произойти разрыв края резиста. Но частицы в зоне засветки не влияют на резист благодаря боковым пучкам (до 30 мкм.). Помещения не требуют принятия дополнительных мер. Перегрев фотошаблона в зоне экспонирования может достигать 10 С, что приводит к изменению размеров.
Есть свои особенности, связанные с совмещением. В серийном производстве печатных плат максимальное разрешение 0,17 мм – для самых лучших установок этого класса. Для меньших величин применяются более высокие требования.
Классы точности
-
класс точности – платы с пониженной плотностью монтажа, 0,5 мм.
-
класс точности – не менее 0,25 мм
-
класс точности – до 0,15 мм; платы, на которых расположены ИС средней степени интеграции.
Не стоит выбирать плату большего класса точности, так как это влечет за собой повышение точности элементной базы. Шаг 1,25 и 2,5 мм вполне достаточны для установки и троссеровки.
4,5 класс точности – более высокие требования.
*************************************************************************
Методы изготовления печатных плат.
-
Субтрактивные
-
Аддитивные
-
Полуаддитивные
-
Комбинированные
С
убстрактивные
методы. Метод наиболее распространен
для различных по сложности конструкций.
Основной метод – химический. Реализуется
в производстве односторонних печатных
плат, где присутствуют селективная
защита и травление.
Схема процесса:
-
Вырубка заготовки;
-
Сверление отверстий;
-
Подготовка поверхности фольги, удаление заусенцев;
-
Трафаретное нанесение защитного рисунка;
-
Травление открытых участков;
-
Сушка;
-
Нанесение паяльной маски;
-
Горячее облуживание открытых участков припоем;
-
Ненесение маркировки и контроль.
Удаление фольги с непроводящих участков осуществляется либо с помощью торцевой фрезы (для единичного и мелкосерийного производства), либо химическим травлением (офсетно-химическим, сеточно-химическим или фотохимическим): 2FeCl3+Cu2FeCl2+CuCl2. В последнем случае получаются ПП высокой точности с малым количеством пробельных мест. При восстановлении из раствора потери меди составляют 80%, кроме этого происходит подтравливание за счёт длительного взаимодействия хлористого железа с металлом. Для снижения эффекта подтравливания необходимо использовать тонкий слой фольги.
Преимущества: возможность полной автоматизации, высокая производительность, низкая себестоимость.
Недостатки: низкая плотность монтажа, использование фольгированных материалов, наличие экологических проблем.
Механическое формирование зазора.
Из сплошного слоя фольги делают рисунок. Используют специальные фрезы и станки с ЧПУ. Необходимо обеспечивать постоянство размеров.
Метод отличается коротким технологическим циклом.
Недостатки: большой расход фрез, низкая производительность.
Лазерное гравирование.
Для получения отверстий используют СО2 лазеры, а для зазоров – ультрофиолетовые лазеры.
Метод достаточно производительный, высокое разрешение – до 0,5 мм, но дорогое оборудование.
А
ддитивные
методы. Можно получить рисунок с
помощью метода переноса со стальной
матрицы. В гальваническую ванну помещается
отполированная стальная матрица с
защитным рисунком. После гальванического
осаждения меди рисунок удаляется с
матрицы и запрессовывается в горячем
виде в диэлектрик. В качестве диэлектрика
используются термопластичные материалы
(пластмассы). Фотоаддитивный процесс:
-
В
ырубка
заготовки; -
Сверление под металлизацию;
-
Нанесение фотоактивируемого катализатора;
-
Активация катализатора через фотошаблон-негатив;
-
Толстослойное химическое меднение (ТХМ);
-
Промывка платы;
-
Глубокая сушка;
-
Нанесение паяной маски;
-
Маркировка;
-
Обрезка по контуру;
-
Электрическое тестирование (контроль);
-
Приемка (сертификация).
Преимущества: использование нефольгированных материалов, возможность воспроизведения тонкого рисунка.
Недостатки: длительный контакт открытых участков с растворами, длительность процессов ТХМ.
Рассмотрим ещё один аддитивный метод получения токопроводящего рисунка (метод переноса): электрохимический. На нефольгированный диэлектрик (стеклотекстолит или гетинакс) наносится защитный рисунок таким образом, чтобы проводники и контактные площадки оставались открытыми. После этого выполняют сверление отверстий, подлежащих металлизации и проводят химическое меднение. Последнее включает в себя три операции:
-
Сенсибилизация: SnCl2Sn2+;
-
Активация: Pd2++Sn2+Pd0+Sn+4;
-
Меднение: CuSO4+HCHO+NaOHCu+HCO2Na2+H2O.
Химически осаждённая медь имеет толщину 1,5 мкм и является электродом для гальванического осаждения. После гальванического осаждения, для получения монолитной структуры осуществляют оплавление рыхлой осаждённой меди. Завершающим этапом является нанесение защитного оловянно-свинцового сплава Розе для улучшения паяемости.
Д
ля
всех аддитивных методов характерен
эффект разращивания, возникающий в
результате того, что толщина слоя
защитного рисунка меньше толщины слоя
проводящего рисунка. Для устранения
возможного эффекта закорачивания
следует увеличить толщину слоя защитного
рисунка (например, посредством
использования сухого плёночного
фоторезиста).
Преимущества: отсутствует процесс травления, экологически чистый.
Недостатки: низкая скорость процессов ТХМ, неустойчивость этих процессов, затруднена металлизация отверстий.
Полуаддитивный метод по сравнению с негативным и позитивным методами имеет два преимущества: отсутствие эффекта разращивания за счёт применения толстого слоя защитного рисунка и снижение эффекта подтравливания, так как слой химически осаждённой имеет малую толщину.
Необходим токопроводящий слой, который создается по 2-м характеристикам: атгезия и прочность:
-
Химическое осаждение тонкого слоя металла до 1 мкм
-
Вакуумное напыление
-
Газотермическая металлизация
Классический полуаддетивный метод. Схема процесса:
-
Вырубка, сверление
-
Нанесение тонкого подслоя металла
-
Усиление слоя до 6 мкм
-
Экспонирование фоторезиста (через шаблон позитив.)
-
Основная металлизация (гальваническая)
-
Гальванияческое нанесение металлорезиста (чистые металлы, сплавы)
-
Удаление экспонированного фоторезиста
-
Вытравливание тонкой металлизации
-
Гальваническое осаждение контактных покрытий на концевые ламели (контактные площадки)
-
Отмывка, сушка
-
Нанесение паяной маски
-
Нанесение финишных покрытий под пайку
Преимущества: использование нефольгированных материалов, хорошее воспроизведение тонких проводников.
Недостатком метода является низкая адгезия проводников с несущим основанием.
Аддетивный метод с дифференциальнымтравлением.
Нет металлорезиста. Для формирования рисунка используется разница в толщине металлизации.
Преимущества: высокое разрешение, малые прямые расходы.
Недостатки: более сложное оборудование, сложность управления процессом.
Комбинированные методы. Комбинированный негативный метод получения проводящего рисунка подразумевает последовательное выполнение следующих операций:
-
Входной контроль фольгированного диэлектрика;
-
Нарезка заготовок;
-
Вскрытие базовых отверстий;
-
Сверление отверстий, подлежащих металлизации;
-
Х
имическая
металлизация; -
Подготовка поверхности металлизированных заготовок;
-
Нанесение защитного рисунка схем;
-
Травление;
-
Удаление защитного слоя;
-
Сверление отверстий, не подлежащих металлизации;
-
Гальваническое осаждение меди;
-
Нанесение сплава Розе;
-
Обрезка плат по контуру;
-
Выходной контроль и консервация.
Комбинированный позитивный метод подразумевает осуществление травления после электролитического меднения и включает в себя следующие операций:
-
Входной контроль фольгированного диэлектрика;
-
Нарезка заготовок;
-
Вскрытие базовых отверстий;
-
Сверление отверстий, подлежащих металлизации;
-
Химическая металлизация;
-
Декапирование (удаление жировых и окисных пятен 10%ным раствором HCl);
-
Нанесение защитного рисунка схем;
-
Э
лектролитическое
меднение и нанесение металлорезиста; -
Удаление фоторезиста;
-
Травление меди;
-
Выходной контроль и консервация.
