
- •Министерство образования и науки российской федерации
- •Лабораторная работа №7-3. Исследование электролюминесценции кристаллофосфоров
- •1. Введение
- •1.1. Люминесценция и её основные свойства
- •1.2. Механизм свечения кристаллофосфоров
- •1.3. Основные характеристики электролюминесценции кристаллофосфоров
- •1.3.1. Спектры электролюминесценции
- •1.3.2. Зависимость яркости от напряжения
- •1.3.3. Частотная зависимость яркости
- •1.4. Электролюминесцентный источник света
- •2. Описание лабораторной установки
- •3. Порядок выполнения работы
- •4. Обработка результатов измерений
- •5. Требования к отчёту
- •6. Контрольные вопросы
- •7. Литература
- •Лабораторная работа №7 - 4. Определение контактной разности потенциалов
- •1. Постановка задачи
- •1.1. Внешняя и внутренняя контактные разности потенциалов
- •1.2. Контактная разность потенциалов и барьерная ёмкость электронно-дырочного перехода в полупроводниках
- •2. Описание лабораторной установки
- •3. Порядок выполнения работы
- •3.1. Измерение зависимости барьерной ёмкостиp-n-перехода от обратного напряжения
- •3.2. Определение контактной разности потенциалов
- •1. Постановка экспериментальной задачи
- •1.1. Металл как потенциальная яма
- •1.2. Распределение свободных электронов в металле по энергиям
- •1.3. Работа выхода
- •1.4. Уравнение термоэлектронной эмиссии
- •2. Методика определения работы выхода электрона из металла (метод прямых Ричардсона).
- •3. Схема и описание лабораторной установки
- •4. Порядок выполнения работы
- •4.1. Исследование зависимости анодного тока от напряжения между анодом и катодом при различных температурах катода (снятие вольт-амперных характеристик)
- •4.2. Определение токов насыщения и вычисление работы выхода электрона из вольфрама
- •5. Требования к отчету
- •6. Контрольные вопросы и задания
- •Литература
- •Оглавление
- •625036, Г.Тюмень, ул. Володарского, 38.
- •625039, Г.Тюмень, ул. Киевская,52
1.2. Контактная разность потенциалов и барьерная ёмкость электронно-дырочного перехода в полупроводниках
Рассмотрим случай, когда p-n-переход создан в кристалле полупроводника введением в одну его область акцепторных, а в другую – донорных примесей. Энергетические диаграммы отдельныхp- иn- областей показаны на рис.2а. В р-области уровень Ферми расположен вблизи потока валентной зоны, а вn-области – вблизи дна зоны проводимости. Если р- иn- области контактируют, на границе раздела возникают большие градиенты концентрации примеси. Под действием градиентов концентрации начнётся диффузия дырок из р-области вn-область и встречная диффузия электронов. В областиp-n-перехода встречно движущиеся электроны и дырки рекомбинируют.
После ухода основных носителей заряда в приграничных областях полупроводника остаются электрически нескомпенсированные ионы примесей: отрицательно заряженные акцепторы в дырочном полупроводнике и положительно заряженные доноры в электронном. Таким образом, вблизи границы раздела возникают области объёмного заряда. Эти нескомпенсированные заряды создают электрическое поле, которое препятствует дальнейшему переходу носителей (электронов и дырок). Разность потенциалов между p- иn-областями в условиях равновесия и будет контактной.
Энергетическая диаграмма p-n-перехода представлена на рис.2б. Уровни Фермиn- и р-областях устанавливается на одинаковой глубине, т.е. горизонтально, а созданное объёмным зарядом поле приводит к изгибу зон. Вдали от контакта взаимное расположение зоны проводимости, валентной зоны и уровней Ферми не изменяется. Контактная разность потенциалов пропорциональна изгибу зон.
Рис.2. Энергетические диаграммы полупроводников:
а – областей p- и n-типа электропроводности;
б – p-n-перехода.
Область объёмного заряда представляет собой двойной слой противоположных по знаку неподвижных зарядов. Этот двойной слой можно уподобить обкладкам плоского конденсатора, к которому приложена контактная разность потенциалов.
Электроёмкость такого конденсатора получила название барьерной, т.к. связана с существованием энергетического барьера между p- иn-областями. Значение барьерной электроёмкостиp-n-перехода можно вычислить по формуле для плоского конденсатора
, (3)
где - диэлектрическая
проницаемость,
- электрическая
постоянная,
- площадьp-n-перехода,
- ширина
области объёмного заряда.
Изгиб энергетических
зон, ширина области объёмного заряда,
а, значит и барьерная ёмкость изменяются,
если к p-n-переходу
приложить внешнее напряжение. Принято
считать внешнее напряжение положительным
при прямом включении. В этом случае к
р-области присоединён положительный
полюс источника питания, а кn-области
– отрицательный. При обратном включении
напряжение считается отрицательным.
Разность потенциалов междуp-
иn- областями при обратном
включенииp-n-перехода
увеличивается до значения,
ширина области объёмного заряда также
увеличивается, а барьерная ёмкость
уменьшается. В результате барьерная
ёмкостьp-n-перехода
зависит от контактной разности потенциалов
и внешнего напряжения. Определим эту
зависимость для наиболее простого
случая, когда граница между электронной
и дырочной проводимостями резкая и
плоская. Проведём ось Х перпендикулярно
границе, совместив с границей начало
координат (см. рис.2б). Обозначим
концентрацию акцепторов вp-области
(считаем, что другие примеси вp-области
отсутствуют), аналогично обозначим
концентрацию доноров вn-области
.
Запишем теорему Гаусса в дифференциальной форме:
, (4)
где - напряжённость
электрического поля,
- объёмная
плотность заряда.
В одномерном случае
, (5)
а формула (4) запишется в виде
(6)
Выражение (6) носит
название Пуассона. Для областей
и
объёмная плотность заряда равна нулю
(полупроводник электрически нейтрален),
поле вне области объёмного заряда
отсутствует. В р-области при
объёмны заряд создаётся акцепторными
примесями (концентрацией свободных
носителей заряда можно пренебречь)
,
аналогично дляn-области
при
Решения уравнения Пуассона, наёденные отдельно для р- и n-области, «сшиваются» на границе (х=0) с помощью следующих граничных условий:
при , (7)
при , (8)
при , (9)
а также
. (10)
В результате получим:
. (11)
Из (11) выразим ширину области объёмного заряда:
. (12)
В случае резко
несимметричного перехода, когда одна
из областей легирована более сильно,
чем другая (или
)
формула (12) принимает вид:
. (14)
Отсюда следует,
что зависимость
линейна. Это условие лежит в основе
метода определения контактной разности
потенциалов. Измеряют значение барьерной
ёмкости при различных обратных
напряжениях, вычисляют
и строят график зависимости
.
Точки при этом должны укладываться на
прямую линию (в пределах погрешности
измерений). Экстраполируя прямую линию
в область положительных значений,
находят контактную разность потенциалов
(см. рис.3).
Рис.3. Определение контактной разности потенциалов