
- •Федеральное агентство по образованию и науке Российской Федерации
- •Лабораторная работа №1 Изучение технологии изготовления и основных параметров резисторов Цель работы:
- •Теоретические сведения.
- •Общие сведения о резисторах постоянного сопротивления Основные параметры резисторов постоянного сопротивления
- •Непроволочные резисторы
- •Проволочные резисторы
- •Основные сведения о технологиях изготовления постоянных резисторов
- •Резисторы переменного сопротивления
- •Основные параметры резисторов
- •Переменные регулировочные резисторы
- •Переменные подстроечные резисторы
- •Основные сведения о технологии изготовления переменных композиционных резисторов
- •Специальные резисторы Полупроводниковые терморезисторы
- •Основные параметры и характеристики
- •Технология изготовления терморезисторов
- •Полупроводниковые варисторы
- •Основные параметры и характеристики
- •Технология изготовления варисторов
- •Полупроводниковые фоторезисторы
- •Основные параметры фоторезисторов
- •Технология изготовления фоторезисторов
- •Домашнее задание
- •Лабораторное задание
- •Измерительные приборы, оснастка, образцы
- •Порядок выполнения работы
- •Требования к отчету
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Приложение 1 Цветовая маркировка миниатюрных резисторов постоянного сопротивления
- •Маркировка буквенно-цифровая
- •Маркировка переменных резисторов
- •Система обозначений
- •Маркировка специальных резисторов Маркировка термисторов
- •Система обозначений термисторов
- •Система обозначений варисторов
- •Лабораторная работа № 2 Изучение конструкции и технологии изготовления дискретных конденсаторов и оценка их электрических параметров.
- •Теоретические сведения
- •Классификация конденсаторов
- •Конденсаторы с органическим диэлектриком
- •Конденсаторы с неорганическим диэлектриком
- •Конденсаторы с оксидным диэлектриком
- •Конденсаторы с газообразным диэлектриком
- •Конструкции конденсаторов
- •Система условных обозначений и маркировка конденсаторов
- •Технология изготовления керамических конденсаторов Получение керамического шликера
- •Технология приготовления шликера
- •Технология литья пленки
- •Керамические материалы
- •Технология изготовления танталовых чип-конденсаторов
- •Домашнее задание
- •Лабораторное задание
- •100.(Сизм – Сном )/Сном.
- •Технологическое оборудование, оснастка, измерительные приборы и материалы
- •Порядок выполнения работы
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Основные параметры ки
- •Конструкции и технологии изготовления ки
- •Классификация магнитных материалов. Ферриты
- •Порядок расчета
- •Пример расчета
- •Домашнее задание
- •Лабораторное задание
- •Технологическое оборудование, оснастка, измерительные приборы и материалы
- •Порядок выполнения работы
- •Требования к отчету
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Соединители и прочие коммутационные устройства
- •Электрические соединители. Классификация электрических соединений по их применению включает:
- •Токосъем – или
- •Соединение –
- •Основные параметры соединителей
- •У электростатического реле (рис 6,г) принцип действия основан на использовании кулоновских сил, которые обеспечивают притяжение подвижного электрода с мембраной к неподвижному.
- •Электронные реле (рис.6,д) представляют собой обычный электронный ключ, например на транзисторах (на биполярных, либо на кмоп или моп структурах и др.) (рис.7).
- •Резисторы, конденсаторы, катушки индуктивности и прочие дискретные пассивные и активные эрк.
- •Резисторы, конденсаторы, катушки индуктивности и прочие дискретные пассивные и активные эрк.
- •Общие сведения о корпусах дискретных полупроводниковых приборов
- •Общие сведения об устройствах индикации
- •Корпуса интегральных схем
- •Понятие о фильтрах и линиях задержки
- •Общие представления о резонаторах
- •Понятие о криоэлектронных приборах
- •Домашнее задание
- •Лабораторное задание
- •Инструменты приспособления и макетные образцы
- •Порядок выполнения работы
- •Результаты изучения компонентов в составе ячейки эвс
- •Требования к отчету
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Лабораторная работа №5 Изучение технологии изготовления жидкокристаллических индикаторов
- •Теоретические сведения
- •Общие сведения о жидких кристаллах и их свойствах
- •Принцип работы жки
- •Особенности конструкции жки и технология её изготовления
- •Сравнительные характеристики разных типов индикаторов
- •Домашнее задание
- •Лабораторное задание
- •Макетные образцы
- •Порядок выполнения работы.
- •Требования к отчёту
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Приложение 1 Индикаторы на светоизлучающих диодах
- •Физические основы работы сид
- •Приложение 2 Индикаторы на электронно-лучевых трубках
- •Газоразрядные индикаторы
- •Вакуумные люминесцентные индикаторы
- •Приложение 5 Электролюминесцентные индикаторы
- •Накальные индикаторы
- •Электрохромные индикаторы
- •Электрофорезные индикаторы
- •Приложение 9 Электромеханические индикаторы
- •Лабораторная работа № 6
- •Линии передачи
- •Подложки и проводники мпл
- •Элементы, узлы и устройства
- •Фильтры
- •Генератор свч колебаний на лавинно-пролетном диоде (глпд)
- •Малошумящий усилитель (мшу)
- •Технология свч гис
- •Технология изготовления свч гис и мсб
- •Технологический маршрут изготовления свч гис и мсб
- •Аппаратура
- •Лабораторное задание
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Технологические среды и материалы для изготовления кристаллодержателя на гибком носителе (гн).
- •Анализ способов и методов сборки и монтажа кристаллодержателя на гн и выбор наиболее целесообразного.
- •Последовательность в изготовлении кристаллодержателя на гибком носителе.
- •Структура полиимидных носителей.
- •Конструкционные материалы.
- •Конструкции ленточных носителей
- •Полиимидный носитель с алюминиевыми выводами
- •Домашнее задание.
- •Контрольные вопросы
- •Литература
- •Приготовление керамического шликера Состав керамического шликера
- •Минеральная составляющая
- •Растворители
- •Пластификаторы
- •Поверхностно-активное вещество (пав)
- •Этапы технологии приготовления шликер
- •Технология литья пленки
- •Изготовление заготовок слоев
- •Металлизация слоев
- •Изготовление основания кристаллодержателя
- •Герметизация корпусов
- •Материалы для производства керамических кристаллодержателей
- •Пасты для изготовления керамических кристаллодержателей
- •Требования к проводниковым пастам
- •Определение реологических требований к пасте
- •Реологические свойства пасты
- •Вязкость
- •Поверхностное натяжение
- •Исследования методов нанесения паст
- •Домашнее задание
- •Лабораторное задание
- •Материалы для выполнения лабораторной работы.
- •Порядок выполнения работы
- •Требования к отчету.
- •Контрольные вопросы.
- •Литература
- •Содержание
Подложки и проводники мпл
Подложки СВЧ ГИС и МСБ является не только механическим основанием для размещения пленочных и навесных элементов, но и элементом линии передачи, поэтому от свойств материала и геометрических размеров подложки зависят параметры СВЧ ГИС и МСБ.
К подложкам СВЧ ГИС и МСБ предъявляются более жесткие требования, чем к подложкам низкочастотных ГИС и МСБ; высокая диэлектрическая проницаемость ε; производительность величины ε в одной подложке и партии подложек в пределах 1%; стабильность величины ε в интервале температур от -60 до +150ºС и в диапазоне частот от 108 до 1010 Гц; малые диэлектрические потери (tgδ<104); возможность механической обработки (сверления, резки, шлифовки или полировки); высокий класс обработки поверхности; минимальная пористость (менее 1%); хорошая теплопроводность, механическая прочность, стойкость к воздействию химических веществ.
Для подложек СВЧ ГИС и МСБ применяются ситаллы, керамика и ферриты.
Ситаллы имеют хорошие электрофизические свойства, но являются хрупкими. Диэлектрические потери в них определяются составом и структурой кристаллической фазы, а также наличием стекловидной фазы.
При выборе подложек из керамики необходимо учитывать требования, предъявленные к СВЧ ИМС. Самую высокую теплопроводность имеет бериллиевая керамика на основе окиси бериллия (BeO 97%) – брокерит. Он имеет хорошие электрофизические свойства, но трудно обрабатывается. Кроме того, пыль, возникающая при механической обработке брокерита, является токсичной, что приводит к большим затратам на создание средств техники безопасности. Брокерит применяется для мощных СВЧ ГИС и МСБ.
По сравнению с бериллиевой керамикой, керамика на основе окиси алюминия имеет лучшие диэлектрические свойства. Так поликор (керамика с содержанием Al2O3 99,7%) характеризуется минимальной пористостью (менее 0,5%), а также повышенной химической и термической стойкостью, хорошо обрабатывается. Сапфир представляет собой монокристаллическую окись алюминия с содержанием Al2O3 примерно 99,6%. Он бывает природным и искусственным. Диэлектрические свойства искусственного сапфира зависят от направления измерения: перпендикулярного или параллельно оси кристалла. Сапфир и сапфирит (на его основе) очень хорошо обрабатывается и применяются в тех случаях, когда необходимо высокое разрешение и наибольшая однородность электрических свойств.
Ферритовые подложки получают искусственным путем спекания окиси редких и редкоземельных металлов и окислов железа. Наибольшее применение в технике СВЧ нашли ферриты со структурой шпинели и граната.
Подложки СВЧ схем могут быть простыми (состоящими из одного материала) или комбинированными, имеющими «вставки» из другого материала, например, феррита. Комбинированные подложки применяют для создания СВЧ схем, содержащих мощные активные компоненты, которые размещают на вставках материала с высокой теплопроводностью (например, брокерита).
Основные параметры подложек – диэлектрическая проницаемость, диэлектрические потери и коэффициент теплопроводности – определяют предельные размеры параметры и рассеиваемую мощность СВЧ схем.
Наиболее важными параметром подложек является относительная диэлектрическая проницаемость ε, которая определяет длину волны линии передачи и, следовательно, линейные размеры микросхемы. Для повышения степени интеграции и уменьшения потерь желательно применять подложки с высоким значением ε. Однако при этом легко возбуждается поверхностные паразитные волны, что побуждает выбирать материалы подложки с малым значением ε [2].
В последнее время широко применяются подложки из фторопласта. Они имеют самые низкие потери по сравнению с другими подложками, но малую величину ε (≈ 2).
Потери и добротность линии передач связаны с затуханием в линии. Затухание происходит за счет излучения, а также потерь в диэлектрике и проводниках. Мерой диэлектрических потерь является tgδ. Получение подложек с низкими потерями связано с проблемой обеспечения высокой частоты материала. В СВЧ ГИС, выполненных на подложках с ε = 10 и tgδ < 10-5, затуханием за счет излучения и диэлектрическими потерями можно пренебречь. Преобладающими являются потери в проводниках, обусловленные в основном скин-эффектом: на СВЧ ток концентрируется в слое, толщина которого равна толщине скин-слоя δс (на глубине скин-слоя плотность тока в 2,7 раза меньше, чем на поверхности проводника).
Толщина скин-слоя определяется по формуле:
δс
=1/,
где μ – абсолютная магнитная проницаемость проводящего слоя, σ – проводимость Ом-1см-1.
С ростом частоты толщины скин-слоя падает (рис.3).
Рис. 3. Зависимость толщины скин-слоя от частоты для проводников из золота (кривая 1) и меди (кривая 2).
По ширине проводника плотность тока также неодинакова [3]. На краях проводника она более чем в три раза превышает плотность тока в средней его части.
Возможность уменьшения конструктивных размеров СВЧ устройств ограничена рядом принципиальных трудностей, обусловленных требованиями к электрическим характеристикам линии передачи. Так, для обеспечения малых потерь в МПЛ необходимо, чтобы толщина проводника была по крайней мере в три раза больше толщины скин-слоя.
Между шириной МПЛ W и толщиной подлодки h существует тесная связь, определяемая, в частности, заданной величиной волнового сопротивления Z. Поэтому чаще всего рабочие характеристики МПЛ определяются через отношение W/h/
Хотя строго теории МПЛ нет, наиболее часто Z определяют по формуле:
Z=
Где Wε- эффективная сторона МПЛ.
На рис. 4 и 5 приведены зависимости волнового сопротивления микрополосковой и щелевой линии от их геометрических размеров.
Рис. 4. Зависимость волнового сопротивления МПЛ 2 от ширины проводника W.
Наиболее противоречивыми оказываются факторы, определяющие выбор толщины подложки. Чем подложка тоньше, тем меньше потери на излучение и вероятность возбуждения паразитных поверхностных волн. Однако уменьшение толщины подложки h для сохранения заданного волнового сопротивления Z должно сопровождаться уменьшением ширины проводников W, что в свою очередь приводит к увеличению потерь и снижению добротности, так как растет индуктивность проводников. Кроме того, при малых W и h требуемые технологические допуски для обеспечения удовлетворительных электрических характеристик трудно реализуемы.
Таким образом, исходя из изложенных фактов, а также для обеспечения заданной механической прочности при определении толщины подложки необходимо идти на компромисс. Существует ряд толщин подложек: h=0,25; 0,5; 1 мм.
Рис. 5. Сравнительная оценка волновых сопротивлений микрополосковой и щелевой линий для ε = 16; микрополосковая (1) и щелевая (2) линии при ƒ = 1,7 ГГц; щелевая линия (3) при ƒ = 5,4 ГГц.
Немаловажное значение имеет шероховатость подложки, которая влияет на величину потерь, точность геометрических размеров элементов, адгезию пленок к подложке. Чем больше шероховатость, тем лучше адгезия пленок к подложке, но выше потери и хуже точность геометрических размеров элемента. Ниже приведены некоторые наиболее употребительные для подложек СВЧ микросхем классы частоты поверхности v и существующие им значения средне арифметического отклонения профиля Rа:
v |
10 |
11 |
12 |
13 |
14 |
Ra,мкм |
0,16 |
0,08 |
0,04 |
0,02 |
0,01 |
Проводники МПЛ СВЧ ГИС и МСБ, изготовленные по тонкопленочной технологии, обычно состоят из нескольких слоев. Нижний тонкий адгезионный слой (подслой) напыляют из материалов, имеющих толщину 0,01-0,03 мкм. Сопротивление этого слоя влияет на потери и добротность МПЛ. Основной (проводящий) слой выполняют из материалов с хорошей проводимостью – меди или алюминия. Учитывая большую толщину основного слоя, применение для этих целей золота экономически невыгодно. Чаще всего используют медь. Медный слой получают термическим напылением тонкого (около 1мкм) с последующим гальваническим (электролитическим) наращиванием толстого (до 10 – 20 мкм.) слоя. Для предотвращения окисления меди после вакуумного напыления на нее непосредственно в вакууме напыляют защитный слой хрома, который затем стравливается перед гальваническим наращиванием. Поверх меди напыляют защитный (антикоррозионный) слой, который должен обеспечить также возможность присоединения выводов навесных компонентов или СВЧ разъемов. Для пайки верхний слой облуживается. При использовании сварки материалом верхнего слоя может быть серебро, золото, никель, алюминий. Золото для защитного слоя обычно напыляется с подслоем никеля для предотвращения диффузии золота в медь как при монтаже компонентов, так и в процессе эксплуатации.
В зависимости от частотного диапазона и материалов толщина проводников МПЛ составляет 4 – 20 мкм.