Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
ПИМС и МП. Лекции, задания / ЛабПрактПимс.doc
Скачиваний:
49
Добавлен:
11.05.2015
Размер:
1.7 Mб
Скачать

4.3. Задание на лабораторную работу

4.3.1. Выполнить эскиз конструкции исследуемого резистора в (2–3) проекциях с простановкой обозначений размеров.

4.3.2. Произвести расчет размеров, площади, емкости на несущий слой, граничной частоты по модели замещения для сочетаний номинала R и трёх значений допуска δR (δR, 0.δ R, 1.2 δR) и трёх значений номинала R (R/2, R, 2R) при допуске δR.

4.3.3. Построить графические зависимости: L=L(R, δR); D=D(R, δR); S=S(R, δR);

Cr=Cr(R, δR); Fgr=Fgr(R, δR),

где S – габаритная площадь резистора на кристалле с учетом разделительных зон; Cr – полная емкость резистора; Fgr – верхняя граничная частота резистора.

4.3.4. Оформить и представить отчет по работе с объяснениями форм полученных зависимостей.

4.4. Технические средства исполнения работы.

Работа исполняется либо в среде обучающей программы «ИсследРез», а при невозможности, расчётно-графическим способом с применением материалов приложения А4 с предпочтительным применением средств доступного диалогового пакета выполнения расчётов и подготовки текстовых и графических документов.

4.5. Варианты индивидуальных заданий.

Варианты заданий задаются двумя позициями:

– первая позиция соответствует номеру в табл. 4.1;

– вторая позиция соответствует варианту глубины разделительных переходов структуры по п. 8. Исходные значения параметров R, Rк, δR резистивного слоя приведены в табл. 4.1. Значения параметров полного перечня, не вошедшие в табл. 4.1, принимаются следующие:

– Rob = Rok = Roe = 400 Ом*мкм2;

– Wоeb=0.1, Wocb=0.2, Wocr=0.3, Wocp=0.3 [мкм];

– Fkij=0.7 [B] (для всех p-n переходов);

– для структуры:

– ЭПСK_1 – 1, 2, 6, 8 мкм;

– ЭПСK_2 – 1, 3, 7, 8,5 мкм

– ЭПСБ_1 – 1, 2, 6, 4 мкм;

– ЭПСБ_2 – 1, 3, 7, 5 мкм.

– 4 B; 10) 0.07; 11) 0,2 мкм; 12) 0.3 мкм; 13) 0,1 мкм

Пример кодирования варианта.

Вариант 21_2 – соответствует резистору, исполняемому в базовом слое структуры ЭПСБ без перекрытия сверху эмиттерным слоем с глубинами переходов 1,3, 7, 5 мкм с исходными значениями параметров R, RK, dR по номеру 21 табл. 4.1.

Таблица 4.1

Данные вариантов индивидуальных заданий

Структура

Топология

Слой, Rк [Ом]

R [Ом],  R

1

ЭПСК

1

B-слой, 300

2000, 0.2

2

ЭПСК

2

B-слой, 300

2000, 0.2

3

ЭПСК

3

B-слой, 300

2000, 0,2

4

ЭПСК

4

B-слой, 300

200, 0,2

5

ЭПСК

1

B-слой, 500

1000, 0,2

6

ЭПСК

2

B-слой, 500

1000, 0,2

7

ЭПСК

3

B-слой, 500

1000, 0,2

8

ЭПСК

4

В-слой, 500

100, 0,2

9

ЭПСК

1

С-слой, 100

1000, 0,2

10

ЭПСК

2

С-слой, 100

1000, 0,2

11

ЭПСК

3

С-слой, 100

1000, 0,2

12

ЭПСК

4

С-слой, 100

100, 0,2

13

ЭРСК

4

Е-слой, 5

20, 0,3

14

ЭПСБ

1

В-слой, 400

2000, 0,2

15

ЭПСБ

2

В-слой, 400

2000, 0,2

16

ЭПСБ

3

В-слой, 400

2000, 0,2

17

ЭПСБ

4

В-слой, 400

100, 0,2

18

ЭПСБ

1

В-слой, 300

600, 0,2

19

ЭПСБ

2

В-слой, 300

600, 0,2

20

ЭПСБ

3

В-слой, 300

600, 0,2

21

ЭПСБ

4

В-слой, 300

600, 0,2

22

ЭПСБ

4

Е-слой, 3

6, 0,2

23

ЭПСБ

1

ВР-слой, 1000

5000, 0,25

24

ЭПСБ

2

ВР-слой, 1000

5000, 0,25

25

ЭПСБ

3

ВР-слой, 1000

5000, 0,25